技術特征：

1.一種儲存用的光觸媒抗菌無紡布，包括非織造布層，其特征在于：所述儲存用抗菌無紡布以非織造布層為結構層，在所述非織造布層的表層、底層涂設光觸媒抗菌涂層，在所述光觸媒抗菌涂層上再覆聚四氟乙烯膜。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種儲存用的光觸媒抗菌無紡布，其特征在于：所述光觸媒抗菌涂層的厚度為15-50微米。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種儲存用的光觸媒抗菌無紡布，其特征在于：所述聚四氟乙烯膜的厚度為30-300微米。