1.一種放射性廢水處理方法，其特征在于將放射性廢水通過碟管式反滲透膜組件進行處理，其中去污因子達至少500，并且濃縮倍數(shù)達至少25倍。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于放射性廢水依次通過第一級膜組件和第二級膜組件，得到第二級清水；從第一級膜組件送出的第一級濃水進入第三級膜組件，得到濃縮液。
3.根據(jù)權利要求2所述的方法，其特征在于從第二級膜組件送出的第二級濃水返回送入第一級膜組件。
4.根據(jù)權利要求2或3所述的方法，其特征在于從第三級膜組件送出的濃縮級清水返回送入第一級膜組件。
5.根據(jù)權利要求2至4中任一項所述的方法，其特征在于如果從第二級膜組件送出的第二級清水的放射性活度大于1Bq/L，則將第二級清水送去精細處理，優(yōu)選離子交換處理或電滲析處理。
6.根據(jù)權利要求2至5中任一項所述的方法，其特征在于從第三級膜組件送出的濃縮級清水返回送入第一級膜組件進行再處理而不排放濃縮液，直至濃縮液的含鹽量達到125g/L才予以排放。
7.一種用于根據(jù)權利要求1至6中任一項所述方法的放射性廢水處理裝置，其包括第一級、第二級和第三級碟管式反滲透膜組件以及用于提供放射性廢水的供水泵，其中第一級膜組件的清水出口與第二級膜組件的進口相連，第一級膜組件的濃水出口與第三級膜組件的進口相連。
8.根據(jù)權利要求7所述的裝置，其特征在于第二級膜組件的濃水出口與第一級膜組件的進口相連。
9.根據(jù)權利要求7或8所述的裝置，其特征在于第三級膜組件的清水出口與第一級膜組件的進口相連。
10.根據(jù)權利要求7至9中任一項所述的裝置，其特征在于所述裝置還包括分別用于第一級、第二級和第三級碟管式反滲透膜組件的第一級、第二級和第三級高壓泵和循環(huán)泵。