本發(fā)明屬于核電站主泵放射性去污處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種核電站可移動(dòng)式主泵葉輪放射性去污裝置。
背景技術(shù)：
主泵又稱為反應(yīng)堆冷卻劑泵，是核電站的關(guān)鍵設(shè)備之一，是反應(yīng)堆冷卻劑系統(tǒng)中高速旋轉(zhuǎn)的設(shè)備，用于驅(qū)動(dòng)高溫、高壓、放射性水平很高的主冷卻劑。一般按照主泵維修技術(shù)規(guī)格書要求，在主泵運(yùn)行一定時(shí)間內(nèi)應(yīng)對(duì)主泵進(jìn)行解體檢修。由于主泵的葉輪等部件長期浸泡在主回路的冷卻劑中，在進(jìn)行解體檢修時(shí)，外照射和污染擴(kuò)散的風(fēng)險(xiǎn)都很高；為了減少檢修人員的輻照劑量，需對(duì)主泵葉輪進(jìn)行去污。
田灣核電站兩臺(tái)機(jī)組設(shè)計(jì)有一套公用1FKK40主泵葉輪去污系統(tǒng)針對(duì)主泵葉輪進(jìn)行去污，該系統(tǒng)位于輔助廠房運(yùn)用傳統(tǒng)氧化還原工藝手段對(duì)部件進(jìn)行去污，使用蒸汽加熱，存在加熱時(shí)間長(單臺(tái)去污時(shí)間在16小時(shí))、內(nèi)部松散污染去除效果不明顯等問題，另外其不能滿足主泵葉輪就地去污實(shí)施，存在多臺(tái)次主泵檢修作業(yè)任務(wù)時(shí)將影響檢修工期。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明解決的技術(shù)問題：提供一種核電站可移動(dòng)式主泵葉輪放射性去污裝置，減少去污操作人員勞動(dòng)強(qiáng)度，節(jié)約去污時(shí)間，提供去污效果和去污效率。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案：
一種核電站可移動(dòng)式主泵葉輪放射性去污裝置，包括去污液配置模塊A、去污配置模塊B、除鹽水系統(tǒng)，去污液配置模塊A與除鹽水系統(tǒng)通過軟管連接，去污液配置模塊A與去污配置模塊B通過軟管連接，并傳輸去污液。
所述去污液配置模塊A包括取水閥、攪拌槳一、配液箱一、加熱器一、輸送閥、輸送泵、溢流管一、排空閥一、配液止回閥；
所述去污配置模塊B包括取水管、去污槽頂蓋、去污槽、溢流管二、液位計(jì)、溫度計(jì)、加熱器三、去污槽排空閥、加熱器排空閥、超聲波發(fā)生裝置、循環(huán)閥、循環(huán)泵、去污液止回閥、安全閥。
所述配液箱頂部的一端與除鹽水系統(tǒng)連接，配液箱一和除鹽水系統(tǒng)中間設(shè)有取水閥，配液箱一內(nèi)設(shè)有攪拌槳一和加熱器一，配液箱一頂部的另一端通過溢流管一與軟管連接，配液箱一底部的一端通過排空閥與溢流管一連接，配液箱一底部的另一端依次連接有輸送閥、輸送泵、配液止回閥的其中一個(gè)端口；配液止回閥的另外個(gè)端口分別與溢流管一、配液箱二頂部的一端、去污槽連接，配液箱二內(nèi)設(shè)有攪拌槳二和加熱器二，配液箱二頂部的另一端與排空閥二的一端連接，排空閥二的另一端與除鹽水系統(tǒng)連接；配液箱二底部的一端與溢流管一連接，中間設(shè)有排空閥三，配液箱二底部的另一端與去污槽連接；
去污槽上端設(shè)有去污槽頂蓋，去污槽上連接有取水管，去污槽連接溢流管二的兩端，溢流管二上設(shè)有去污槽排空閥，去污槽上還連接有液位計(jì)和溫度計(jì)，去污槽內(nèi)設(shè)有超聲波發(fā)生裝置，去污槽與加熱器 三的一端連接，加熱器三的另外三端分別連接有加熱器排空閥、安全閥的一端和去污液止回閥的一端，去污液止回閥的另一端與循環(huán)泵的一端，循環(huán)泵的另一端與循環(huán)閥的一端連接，安全閥的另一端連接在溢流管二上，循環(huán)閥的另一端連接在安全閥與溢流管二連接的管路上。
本發(fā)明的有益效果：
(1)本發(fā)明提供的一種核電站可移動(dòng)式主泵葉輪放射性去污裝置，提供了去污效果和去污效率，提供了去污濃度的精確度，降低了由于化學(xué)試劑配比不合理而造成主泵葉輪本體腐蝕的風(fēng)險(xiǎn)；
(2)本發(fā)明提供的一種核電站可移動(dòng)式主泵葉輪放射性去污裝置，節(jié)約去污時(shí)間，降低主泵檢修人員的劑量和保證主泵檢修時(shí)間；
(3)本發(fā)明提供的一種核電站可移動(dòng)式主泵葉輪放射性去污裝置，可移動(dòng)性和操作的方便性，大大降低了去污操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度，不僅能滿足主泵葉輪就地去污要求，還能隨時(shí)滿足其它較大尺寸部件的去污。
附圖說明
圖1為本發(fā)明提供的一種核電站可移動(dòng)式主泵葉輪放射性去污裝置系統(tǒng)示意圖；
圖中：1-取水閥、2-攪拌槳一、3-配液箱一、4-加熱器一、5-輸送閥、6-輸送泵、7-溢流管一、8-排空閥一、9-配液止回閥、10-取水管、11-去污槽頂蓋、12-去污槽、13-溢流管二、14-液位計(jì)、15-溫度計(jì)、16-加熱器三、17-去污槽排空閥、18-加熱器排空閥、19-超聲波發(fā)生裝置、20-循環(huán)閥、21-循環(huán)泵、22-去污液止回閥、23-安全閥、 24-除鹽水系統(tǒng)、301-配液箱二、201-攪拌槳二、401-加熱器二、801-排空閥二、802-排空閥三。
具體實(shí)施方式
下面根據(jù)附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明提供的一種核電站可移動(dòng)式主泵葉輪放射性去污裝置進(jìn)行詳細(xì)說明。
如圖1所示，本發(fā)明提供的一種核電站可移動(dòng)式主泵葉輪放射性去污裝置，包括去污液配置模塊A、去污配置模塊B、除鹽水系統(tǒng)24，去污液配置模塊A與除鹽水系統(tǒng)24通過軟管連接，去污液配置模塊A與去污配置模塊B通過軟管連接，并傳輸去污液；
其中，去污液配置模塊A包括取水閥1、攪拌槳一2、配液箱一3、加熱器一4、輸送閥5、輸送泵6、溢流管一7、排空閥一8、配液止回閥9；
去污配置模塊B包括取水管10、去污槽頂蓋11、去污槽12、溢流管二13、液位計(jì)14、溫度計(jì)15、加熱器三16、去污槽排空閥17、加熱器排空閥18、超聲波發(fā)生裝置19、循環(huán)閥20、循環(huán)泵21、去污液止回閥22、安全閥23；
配液箱3頂部的一端與除鹽水系統(tǒng)24連接，配液箱一3和除鹽水系統(tǒng)24中間設(shè)有取水閥1，配液箱一3內(nèi)設(shè)有攪拌槳一2和加熱器一4，配液箱一3頂部的另一端通過溢流管一7與軟管連接，配液箱一3底部的一端通過排空閥8與溢流管一7連接，配液箱一3底部的另一端依次連接有輸送閥5、輸送泵6、配液止回閥9的其中一個(gè)端口；配液止回閥9的另外3個(gè)端口分別與溢流管一7、配液箱二301 頂部的一端、去污槽12連接，配液箱二301內(nèi)設(shè)有攪拌槳二201和加熱器二401，配液箱二301頂部的另一端與排空閥二801的一端連接，排空閥二801的另一端與除鹽水系統(tǒng)24連接；配液箱二301底部的一端與溢流管一7連接，中間設(shè)有排空閥三802，配液箱二301底部的另一端與去污槽12連接；
去污槽12上端設(shè)有去污槽頂蓋11，去污槽12上連接有取水管10，去污槽12連接溢流管二13的兩端，溢流管二13上設(shè)有去污槽排空閥17，去污槽12上還連接有液位計(jì)14和溫度計(jì)15，去污槽12內(nèi)設(shè)有超聲波發(fā)生裝置19，去污槽12與加熱器三16的一端連接，加熱器三16的另外三端分別連接有加熱器排空閥18、安全閥23的一端和去污液止回閥22的一端，去污液止回閥22的另一端與循環(huán)泵21的一端，循環(huán)泵21的另一端與循環(huán)閥20的一端連接，安全閥23的另一端連接在溢流管二13上，循環(huán)閥20的另一端連接在安全閥23與溢流管二13連接的管路上。
本發(fā)明提供的一種核電站可移動(dòng)式主泵葉輪放射性去污裝置，其工作過程為：
去污配置模塊A
用于氧化還原去污工藝實(shí)施所需化學(xué)試劑的配置，由兩套相同的配置系統(tǒng)組成，分別用于配置氧化劑和還原劑溶液。首先通過軟管連接除鹽水系統(tǒng)24，打開取水閥1取干凈除鹽水，之后向配置箱一3加入對(duì)應(yīng)的化學(xué)試劑，利用配液箱一3自帶的攪拌器一2和加熱器一4使化學(xué)試劑充分溶解，并使去污試劑預(yù)熱到一定溫度值，之后打開 配液箱一3底部的輸送閥5和輸送泵6，通過兩個(gè)模塊之間的軟管向去污模塊輸送化學(xué)去污劑。
配液箱一3配置有溢流管一7和排空閥一8，液位超過限值后通過溢流管排向地漏，每次配液完成通過排空閥一8將配液箱一3排空。
去污配置模塊B
用于主泵放射性去污過程的實(shí)施，去污分為氧化和還原兩個(gè)階段，首先開展去污氧化過程：打開去污槽頂蓋11，將待去污主泵葉輪放置于去污槽12內(nèi)部，打開輸送閥5和輸送泵6傳輸氧化劑去污液，完成后通過取水管連接除鹽水系統(tǒng)24取水，補(bǔ)充添加除鹽水至去污液達(dá)到指定液位，液位可通過液位計(jì)14讀取，另外去污槽12配置有溢流管13，當(dāng)液位超過限值液位后去污劑通過溢流管排向地漏。打開循環(huán)閥20、循環(huán)泵21以及電加熱器16，開始循環(huán)加熱去污過程，去污槽12帶有溫度計(jì)15，在測得去污液溫度達(dá)90攝氏度時(shí)自動(dòng)切斷加熱，溫度降低到80攝氏度時(shí)自動(dòng)恢復(fù)加熱，在去污液達(dá)到預(yù)期溫度后，循環(huán)泵21停止，打開超聲波模塊19開始超聲去污，一定時(shí)間后再打開循環(huán)泵21直至去污氧化過程結(jié)束，停止循環(huán)泵21，打開去污槽排空閥17，將廢液排至地漏，之后按照同樣步驟開展主泵去污還原過程，直至整個(gè)過程結(jié)束。加熱器還配置有安全閥23防止加熱器超壓，加熱器排空閥18用于去污過程完成后加熱器的排空。