電磁加熱裝置及其功率控制方法和功率控制系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種功率控制方法，包括：檢測(cè)所述電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流；當(dāng)所述工作電流未達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述目標(biāo)電流；以及當(dāng)所述工作電流達(dá)到所述目標(biāo)電流時(shí)，獲取所述電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率；將所述工作頻率和目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)所述目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，以得到新的目標(biāo)電流；將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述新的目標(biāo)電流。相應(yīng)地，本發(fā)明還提供了一種功率控制系統(tǒng)和電磁加熱裝置。通過本發(fā)明的技術(shù)方案，可以降低電流采樣的誤差，提高功率的一致性。
【專利說明】電磁加熱裝置及其功率控制方法和功率控制系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電磁加熱【技術(shù)領(lǐng)域】，具體而言，涉及一種電磁加熱裝置的功率控制方法、功率控制系統(tǒng)和一種電磁加熱裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前電磁加熱產(chǎn)品中部分采用對(duì)流過IGBT(晶體管)電流檢測(cè)的方式來檢測(cè)功率，通過流過IGBT的電流來控制功率，但是在電流檢測(cè)過程中，容易受到電阻、電容、放大器、電磁干擾等影響，導(dǎo)致電流檢測(cè)誤差大，進(jìn)而導(dǎo)致功率誤差大。
[0003]因此，如何減小電流檢測(cè)的誤差，實(shí)現(xiàn)功率一致性，成為目前亟待解決的技術(shù)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)或相關(guān)技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。
[0005]為此，本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出了一種電磁加熱裝置的功率控制方法。
[0006]本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提出了一種電磁加熱裝置的功率控制系統(tǒng)。
[0007]本發(fā)明的再一個(gè)目的在于提出了 一種電磁加熱裝置。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的第一方面的實(shí)施例，提出了一種功率控制方法，包括:檢測(cè)所述電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流；當(dāng)所述工作電流未達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述目標(biāo)電流；以及當(dāng)所述工作電流達(dá)到所述目標(biāo)電流時(shí)，獲取所述電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率；將所述工作頻率和目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)所述目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，以得到新的目標(biāo)電流；將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述新的目標(biāo)電流。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法，在工作電流達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，進(jìn)一步檢測(cè)電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率，并將該工作頻率與目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行一定補(bǔ)償，進(jìn)而得到補(bǔ)償后的新的目標(biāo)電流，從而降低電流采樣的誤差，提高功率的一致性。
[0010]其中，電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流，既可以是電網(wǎng)輸入到整個(gè)電磁加熱裝置的電流，又可以是晶體管中流過的電流。
[0011]另外，根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的功率控制方法，還可以具有如下附加的技術(shù)特征:
[0012]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，當(dāng)所述工作電流達(dá)到所述目標(biāo)電流時(shí)，獲取所述電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率，具體包括:將所述工作電流與所述目標(biāo)電流進(jìn)行比較；當(dāng)所述工作電流與所述目標(biāo)電流的差值在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)時(shí)，判定為所述工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，并獲取所述工作頻率。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法，當(dāng)工作電流等于目標(biāo)電流，或者工作電流與目標(biāo)電流兩者之間的差小于某一設(shè)定值時(shí)，此時(shí)可以認(rèn)為工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，此時(shí)再獲取晶體管的工作頻率，進(jìn)而對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，從而降低電流的采樣誤差。[0014]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述目標(biāo)電流，具體包括:在所述工作電流小于所述目標(biāo)電流時(shí)，增大輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比；在所述工作電流大于所述目標(biāo)電流時(shí)，減小輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比。
[0015]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法，可以通過調(diào)節(jié)脈沖信號(hào)的占空比來調(diào)節(jié)電磁加熱裝置的工作電流，當(dāng)工作電流小于目標(biāo)電流時(shí)，增大脈沖信號(hào)的占空比，提高功率，增大工作電流，使工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，當(dāng)工作電流大于目標(biāo)電流時(shí)，減小脈沖信號(hào)的占空比，降低功率，減小工作電流，使工作電流達(dá)到目標(biāo)電流或者差值小于某一設(shè)定值。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，將所述工作頻率和目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)所述目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，以得到新的目標(biāo)電流，具體包括:將所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，增大所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流，以及當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，減小所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流。
[0017]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流:I#=I+f*/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，f*為所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)；以及當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流:I#=1-f*/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，f*為所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法，當(dāng)工作電流達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，檢測(cè)當(dāng)前的工作頻率，當(dāng)工作頻率高于目標(biāo)頻率時(shí)，計(jì)算出工作頻率與目標(biāo)頻率的頻率差值f差(f*=工作頻率-目標(biāo)頻率)，根據(jù)頻率差值f*以一定比例T對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，即新的目標(biāo)電流Ι#=Ι+?*/Τ(Τ:比例系數(shù))(τ為程序預(yù)設(shè)值)，此時(shí)，增大輸出至晶體管的脈沖信號(hào)的占空比，使工作電流達(dá)到新的目標(biāo)`電流，提高功率；當(dāng)工作頻率低于目標(biāo)頻率時(shí)，計(jì)算出工作頻率與目標(biāo)頻率的頻率差值f* (f*=目標(biāo)頻率-工作頻率)，根據(jù)頻率差值以一定比例對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，新的目標(biāo)電流I#=1-f*/T，此時(shí)，減小輸出至晶體管的脈沖信號(hào)的占空t匕，使工作電流達(dá)到新的目標(biāo)電流，降低功率。這樣，根據(jù)頻率對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償來降低電流采樣的誤差，提高功率一致性。其中，根據(jù)頻率對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償可以進(jìn)行一次，也可以按照上述原理進(jìn)行多次。每次形成新的目標(biāo)電流后則進(jìn)行記錄，并覆蓋原目標(biāo)電流。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的第二方面的實(shí)施例，還提出了一種電磁加熱裝置的功率控制系統(tǒng)，用于電磁加熱裝置，包括:檢測(cè)單元，用于檢測(cè)所述電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流；處理單元，用于當(dāng)所述工作電流未達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述目標(biāo)電流，以及當(dāng)所述工作電流達(dá)到所述目標(biāo)電流時(shí)，獲取所述電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率；所述處理單元還用于:將所述工作頻率和目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)所述目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，以得到新的目標(biāo)電流，并將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述新的目標(biāo)電流。
[0020]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)，在工作電流達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，通過檢測(cè)電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率，并將該工作頻率與目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行一定補(bǔ)償，進(jìn)而得到補(bǔ)償后的新的目標(biāo)電流，從而降低電流采樣的誤差，提高功率的一致性。[0021]其中，電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流，既可以是電網(wǎng)輸入到整個(gè)電磁加熱裝置的電流，又可以是晶體管中流過的電流。
[0022]另外，根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的電磁加熱裝置的功率控制系統(tǒng)，還可以具有如下附加的技術(shù)特征:
[0023]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述處理單元包括:比較子單元，將所述工作電流與所述目標(biāo)電流進(jìn)行比較；判定子單元，當(dāng)所述工作電流與所述目標(biāo)電流的差值在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)時(shí)，判定為所述工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，并獲取所述工作頻率。
[0024]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)，當(dāng)工作電流等于目標(biāo)電流，或者工作電流與目標(biāo)電流兩者之間的差小于某一設(shè)定值時(shí)，此時(shí)可以認(rèn)為工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，此時(shí)再獲取晶體管的工作頻率，進(jìn)而對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，從而降低電流的采樣誤差。
[0025]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述處理單元還包括:控制子單元，在所述工作電流小于所述目標(biāo)電流時(shí)，增大輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比；以及在所述工作電流大于所述目標(biāo)電流時(shí)，減小輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比。
[0026]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)，可以通過調(diào)節(jié)脈沖信號(hào)的占空比來調(diào)節(jié)電磁加熱裝置的工作電流，當(dāng)工作電流小于目標(biāo)電流時(shí)，增大脈沖信號(hào)的占空比，提高功率，增大工作電流，使工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，當(dāng)工作電流大于目標(biāo)電流時(shí)，減小脈沖信號(hào)的占空比，降低功率，減小工作電流，使工作電流達(dá)到目標(biāo)電流或者差值小于某一設(shè)定值。
[0027]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述比較子單元還用于:將所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率進(jìn)行比較；所述控制子單元還用于:當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，增大所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流，以及當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，減小所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流。
[0028]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流:I#=I+f*/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，f*為所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)；以及當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流:I#=1-f*/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，f*為所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)。
[0029]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)，當(dāng)工作電流達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，檢測(cè)當(dāng)前的工作頻率，當(dāng)工作頻率高于目標(biāo)頻率時(shí)，計(jì)算出工作頻率與目標(biāo)頻率的頻率差值=工作頻率-目標(biāo)頻率)，根據(jù)頻率差值f*以一定比例T對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，即新的目標(biāo)電流I#=I+f*/T(T:比例系數(shù))(T為程序預(yù)設(shè)值)，此時(shí)，增大輸出至晶體管的脈沖信號(hào)的占空比，使工作電流達(dá)到新的目標(biāo)電流，提高功率；當(dāng)工作頻率低于目標(biāo)頻率時(shí)，計(jì)算出工作頻率與目標(biāo)頻率的頻率差值f* (f*=目標(biāo)頻率-工作頻率)，根據(jù)頻率差值以一定比例對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，新的目標(biāo)電流I#=1-f*/T，此時(shí)，減小輸出至晶體管的脈沖信號(hào)的占空t匕，使工作電流達(dá)到新的目標(biāo)電流，降低功率。這樣，根據(jù)頻率對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償來降低電流采樣的誤差，提高功率一致性。其中，根據(jù)頻率對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償可以進(jìn)行一次，也可以按照上述原理進(jìn)行多次。每次形成新的目標(biāo)電流后則進(jìn)行記錄，并覆蓋原目標(biāo)電流。
[0030]根據(jù)本發(fā)明的第三方面的實(shí)施例，還提出了一種電磁加熱裝置，包括:晶體管:以及如上述技術(shù)方案中任一項(xiàng)所述的功率控制系統(tǒng)，所述功率控制系統(tǒng)與所述晶體管相連。
[0031]本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0032]本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
[0033]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法的流程圖；
[0034]圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)的框圖；
[0035]圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法的具體流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]為了能夠更清楚地理解本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)描述。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。
[0037]在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是，本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其他方式來實(shí)施，因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍并不受下面公開的具體實(shí)施例的限制。
[0038]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法的流程圖。
[0039]如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法，包括:步驟102，檢測(cè)所述電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流；步驟104，當(dāng)所述工作電流未達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述目標(biāo)電流；以及步驟106，當(dāng)所述工作電流達(dá)到所述目標(biāo)電流時(shí)，獲取所述電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率；步驟108，將所述工作頻率和目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)所述目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，以得到新的目標(biāo)電流；步驟110，將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述新的目標(biāo)電流。其中，所述的晶體管的工作頻率是指控制晶體管的信號(hào)的頻率或是晶體管單周期內(nèi)的開關(guān)頻率。
[0040]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法，在工作電流達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，進(jìn)一步檢測(cè)電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率，并將該工作頻率與目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行一定補(bǔ)償，進(jìn)而得到補(bǔ)償后的新的目標(biāo)電流，從而降低電流采樣的誤差，修正偏高或偏低的功率，防止不同產(chǎn)品在相同的工作電流下出現(xiàn)功率不一致的現(xiàn)象，從而提高功率的一致性。
[0041]其中，電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流，既可以是電網(wǎng)輸入到整個(gè)電磁加熱裝置的電流，又可以是晶體管中流過的電流。
[0042]另外，根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的功率控制方法，還可以具有如下附加的技術(shù)特征:
[0043]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述步驟106具體包括:將所述工作電流與所述目標(biāo)電流進(jìn)行比較；當(dāng)所述工作電流與所述目標(biāo)電流的差值在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)時(shí)，判定為所述工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，并獲取所述工作頻率。
[0044]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法，當(dāng)工作電流等于目標(biāo)電流，或者工作電流與目標(biāo)電流兩者之間的差小于某一設(shè)定值時(shí)，如該設(shè)定值可以是目標(biāo)電流的正負(fù)偏差5%的值，此時(shí)可以認(rèn)為工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，此時(shí)再獲取晶體管的工作頻率，進(jìn)而對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，從而降低電流的采樣誤差。
[0045]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述步驟104具體包括:在所述工作電流小于所述目標(biāo)電流時(shí)，增大輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比；在所述工作電流大于所述目標(biāo)電流時(shí)，減小輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比。
[0046]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法，可以通過調(diào)節(jié)脈沖信號(hào)的占空比來調(diào)節(jié)電磁加熱裝置的工作電流，當(dāng)工作電流小于目標(biāo)電流時(shí)，增大脈沖信號(hào)的占空比，提高功率，增大工作電流，使工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，當(dāng)工作電流大于目標(biāo)電流時(shí)，減小脈沖信號(hào)的占空比，降低功率，減小工作電流，使工作電流達(dá)到目標(biāo)電流或者差值小于某一設(shè)定值。
[0047]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述步驟108具體包括:將所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，增大所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流，以及當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，減小所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流。
[0048]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流:I#=I+f*/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，f*為所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)；以及當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流:I#=1-f*/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，f*為所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)。
[0049]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法，當(dāng)工作電流達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，檢測(cè)當(dāng)前的工作頻率，當(dāng)工作頻率高于目標(biāo)頻率時(shí)，計(jì)算出工作頻率與目標(biāo)頻率的頻率差值=工作頻率-目標(biāo)頻率)，根據(jù)頻率差值f*以一定比例T對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，即新的目標(biāo)電流I#=I+f*/T(T:比例系數(shù))(T為程序預(yù)設(shè)值)，此時(shí)，增大輸出至晶體管的脈沖信號(hào)的占空比，使工作電流達(dá)到新的目標(biāo)電流，提高功率；當(dāng)工作頻率低于目標(biāo)頻率時(shí)，計(jì)算出工作頻率與目標(biāo)頻率的頻率差值f* (f*=目標(biāo)頻率-工作頻率)，根據(jù)頻率差值以一定比例對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，新的目標(biāo)電流I#=1-f*/T，此時(shí)，減小輸出至晶體管的脈沖信號(hào)的占空t匕，使工作電流達(dá)到新的目標(biāo)電流，降低功率。這樣，根據(jù)頻率對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償來降低電流采樣的誤差，提高功率一致性。其中，根據(jù)頻率對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償可以進(jìn)行一次，也可以按照上述原理進(jìn)行多次。每次形成新的目標(biāo)電流后則進(jìn)行記錄，并覆蓋原目標(biāo)電流。
[0050]圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)的框圖。
[0051]如圖2所示，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)200包括:檢測(cè)單元202，用于檢測(cè)所述電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流；處理單元204，用于當(dāng)所述工作電流未達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述目標(biāo)電流，以及當(dāng)所述工作電流達(dá)到所述目標(biāo)電流時(shí)，獲取所述電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率；所述處理單元204還用于:將所述工作頻率和目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)所述目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，以得到新的目標(biāo)電流，并將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述新的目標(biāo)電流。
[0052]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)，在工作電流達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，通過檢測(cè)電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率，并將該工作頻率與目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行一定補(bǔ)償，進(jìn)而得到補(bǔ)償后的新的目標(biāo)電流，從而降低電流采樣的誤差，提高功率的一致性。
[0053]其中，電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流，既可以是電網(wǎng)輸入到整個(gè)電磁加熱裝置的電流，又可以是晶體管中流過的電流。
[0054]另外，根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)，還可以具有如下附加的技術(shù)特征:
[0055]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述處理單元204包括:比較子單元2042，將所述工作電流與所述目標(biāo)電流進(jìn)行比較；判定子單元2044，當(dāng)所述工作電流與所述目標(biāo)電流的差值在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)時(shí)，判定為所述工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，并獲取所述工作頻率。
[0056]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)，當(dāng)工作電流等于目標(biāo)電流，或者工作電流與目標(biāo)電流兩者之間的差小于某一設(shè)定值時(shí)，此時(shí)可以認(rèn)為工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，此時(shí)再獲取晶體管的工作頻率，進(jìn)而對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，從而降低電流的采樣誤差。
[0057]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述處理單元204還包括:控制子單元2046，控制子單元2046用于在所述工作電流小于所述目標(biāo)電流時(shí)，增大輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比；在所述工作電流大于所述目標(biāo)電流時(shí)，減小輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比。
[0058]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)，可以通過調(diào)節(jié)脈沖信號(hào)的占空比來調(diào)節(jié)電磁加熱裝置的工作電流，當(dāng)工作電流小于目標(biāo)電流時(shí)，增大脈沖信號(hào)的占空比，提高功率，增大工作電流，使工 作電流達(dá)到目標(biāo)電流，當(dāng)工作電流大于目標(biāo)電流時(shí)，減小脈沖信號(hào)的占空比，降低功率，減小工作電流，使工作電流達(dá)到目標(biāo)電流或者差值小于某一設(shè)定值。
[0059]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述比較子單元2042還用于:將所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率進(jìn)行比較；所述控制子單元2046還用于:當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，增大所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流，以及當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，減小所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流。
[0060]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流:I#=I+f*/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，f*為所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)；以及當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流:I#=1-f*/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，f*為所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)。
[0061]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制系統(tǒng)，當(dāng)工作電流達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，檢測(cè)當(dāng)前的工作頻率，當(dāng)工作頻率高于目標(biāo)頻率時(shí)，計(jì)算出工作頻率與目標(biāo)頻率的頻率差值
工作頻率-目標(biāo)頻率)，根據(jù)頻率差值f*以一定比例T對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，即新的目標(biāo)電流Ι#=Ι+?*/Τ(Τ:比例系數(shù))(τ為程序預(yù)設(shè)值)，此時(shí)，增大輸出至晶體管的脈沖信號(hào)的占空比，使工作電流達(dá)到新的目標(biāo)電流，提高功率；當(dāng)工作頻率低于目標(biāo)頻率時(shí)，計(jì)算出工作頻率與目標(biāo)頻率的頻率差值f* (f*=目標(biāo)頻率-工作頻率)，根據(jù)頻率差值以一定比例對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，新的目標(biāo)電流I#=1-f*/T，此時(shí)，減小輸出至晶體管的脈沖信號(hào)的占空t匕，使工作電流達(dá)到新的目標(biāo)電流，降低功率。這樣，根據(jù)頻率對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償來降低電流采樣的誤差，提高功率一致性。其中，根據(jù)頻率對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償可以進(jìn)行一次，也可以按照上述原理進(jìn)行多次。每次形成新的目標(biāo)電流后則進(jìn)行記錄，并覆蓋原目標(biāo)電流。
[0062]圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法的具體流程圖。
[0063]如圖3所示，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的功率控制方法的具體流程如下:
[0064]步驟302，檢測(cè)電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流I工。
[0065]步驟304，讀取預(yù)設(shè)的目標(biāo)電流I。
[0066]步驟306，將工作電流和目標(biāo)電流進(jìn)行比較，判斷是否I≥I工。當(dāng)判斷結(jié)果為否時(shí)，進(jìn)入步驟308，當(dāng)判斷結(jié)果為是時(shí)，進(jìn)入步驟310。
[0067]步驟308，工作電流I工大于目標(biāo)電流I時(shí)，判斷工作電流與目標(biāo)電流的差值是否大于預(yù)設(shè)差值K，當(dāng)判斷結(jié)果為是時(shí)，進(jìn)入步驟314，當(dāng)判斷結(jié)果為否時(shí)，進(jìn)入步驟316。
[0068]步驟310，目標(biāo)電流I大于工作電流I工時(shí)，判斷目標(biāo)電流與工作電流的差值是否大于等于預(yù)設(shè)差值K，當(dāng)判斷結(jié)果為是時(shí)，進(jìn)入步驟312，當(dāng)判斷結(jié)果為否時(shí)，進(jìn)入步驟316。
[0069]步驟312,當(dāng)目標(biāo)電流I大于工作電流I工時(shí)，增大晶體管的占空比，提聞功率，增大工作電流，使工作電流達(dá)到目標(biāo)電流。
[0070]步驟314，當(dāng) 工作電流I1大于目標(biāo)電流I時(shí)，減小晶體管的占空比，降低功率，減小工作電流，使工作電流達(dá)到目標(biāo)電流。
[0071]步驟316，檢測(cè)晶體管的工作頻率。
[0072]步驟318，讀取預(yù)設(shè)的目標(biāo)頻率。
[0073]步驟320，將工作頻率與目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，判斷工作頻率是否大于目標(biāo)頻率，，當(dāng)判斷結(jié)果為是時(shí)，進(jìn)入步驟322，當(dāng)判斷結(jié)果為否時(shí)，進(jìn)入步驟324。
[0074]步驟322，當(dāng)工作頻率A大于目標(biāo)頻率B時(shí)，計(jì)算出工作頻率與目標(biāo)頻率的頻率差值fa(f* =A-B),根據(jù)頻率差值以一定比例對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，新的目標(biāo)電流:I#=I+fa/T(T:比例系數(shù))，此時(shí)，增大輸出至晶體管的脈沖信號(hào)的占空比，使工作電流達(dá)到新的目標(biāo)電流，提聞功率。
[0075]步驟324，當(dāng)工作頻率低于目標(biāo)頻率時(shí)，計(jì)算出工作頻率與目標(biāo)頻率的頻率差值fa (f* =B-A)，根據(jù)頻率差值以一定比例對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，新的目標(biāo)電流I3s=1-fs/T (T:比例系數(shù))，此時(shí)，減小輸出至晶體管的脈沖信號(hào)的占空比，使工作電流達(dá)到新的目標(biāo)電流，降低功率。
[0076]這樣，根據(jù)頻率對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償來降低電流采樣的誤差，提高功率一致性。其中，根據(jù)頻率對(duì)目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償可以進(jìn)行一次，也可以按照上述原理進(jìn)行多次。
[0077]以上結(jié)合附圖詳細(xì)說明了本發(fā)明的技術(shù)方案，通過本發(fā)明的技術(shù)方案，可以降低電流采樣的誤差，提高功率的一致性。
[0078]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種電磁加熱裝置的功率控制方法，其特征在于，包括: 檢測(cè)所述電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流； 當(dāng)所述工作電流未達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述目標(biāo)電流；以及當(dāng)所述工作電流達(dá)到所述目標(biāo)電流時(shí)，獲取所述電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率；將所述工作頻率和目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)所述目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，以得到新的目標(biāo)電流； 將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述新的目標(biāo)電流。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的功率控制方法，其特征在于，當(dāng)所述工作電流達(dá)到所述目標(biāo)電流時(shí)，獲取所述電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率，具體包括: 將所述工作電流與所述目標(biāo)電流進(jìn)行比較； 當(dāng)所述工作電流與所述目標(biāo)電流的差值在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)時(shí)，判定為所述工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，并獲取所述工作頻率。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的功率控制方法，其特征在于，將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述目標(biāo)電流，具體包括: 在所述工作電流小于所述目標(biāo)電流時(shí)，增大輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比； 在所述工作電流大于所述目標(biāo)電流時(shí)，減小輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的功率控制方法，其特征在于，將所述工作頻率和目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)所述目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，以得到新的目標(biāo)電流，具體包括: 將所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，增大所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流，以及 當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，減小所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的功率控制方法，其特征在于，當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流: I#=I+fs/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，fa為所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)；以及 當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流:I#=1-fs/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，fs為所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)。
6.一種電磁加熱裝置的功率控制系統(tǒng)，其特征在于，包括: 檢測(cè)單元，用于檢測(cè)所述電磁加熱裝置當(dāng)前的工作電流； 處理單元，連接 至所述檢測(cè)單元，用于當(dāng)所述工作電流未達(dá)到目標(biāo)電流時(shí)，將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述目標(biāo)電流，以及當(dāng)所述工作電流達(dá)到所述目標(biāo)電流時(shí)，獲取所述電磁加熱裝置中晶體管的工作頻率； 所述處理單元還用于: 將所述工作頻率和目標(biāo)頻率進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果對(duì)所述目標(biāo)電流進(jìn)行補(bǔ)償，以得到新的目標(biāo)電流，并將所述工作電流調(diào)節(jié)至所述新的目標(biāo)電流。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的功率控制系統(tǒng)，其特征在于，所述處理單元包括:比較子單元，用于將所述工作電流與所述目標(biāo)電流進(jìn)行比較； 判定子單元，用于當(dāng)所述工作電流與所述目標(biāo)電流的差值在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)時(shí)，判定為所述工作電流達(dá)到目標(biāo)電流，并獲取所述工作頻率。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的功率控制系統(tǒng)，其特征在于，所述處理單元還包括: 控制子單元，用于在所述工作電流小于所述目標(biāo)電流時(shí)，增大輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比；以及在所述工作電流大于所述目標(biāo)電流時(shí)，減小輸出至所述晶體管的控制信號(hào)的占空比。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的功率控制系統(tǒng)，其特征在于，所述比較子單元還用于: 將所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率進(jìn)行比較； 所述控制子單元還用于: 當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，增大所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流，以及 當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值以及預(yù)設(shè)的比例系數(shù)，減小所述目標(biāo)電流，以得到所述新的目標(biāo)電流。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的功率控制系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)所述工作頻率大于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流: I#=I+f*/T，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，f差為所述工作頻率和所述目標(biāo)頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)；以及 當(dāng)所述工作頻率小于所述目標(biāo)頻率時(shí)，根據(jù)以下公式計(jì)算出所述新的目標(biāo)電流:Ι#=1-?*/τ，其中，1#為所述新的目標(biāo)電流，I為所述目標(biāo)電流，fs為所述目標(biāo)頻率和所述工作頻率的頻率差值，T為預(yù)設(shè)的比例系數(shù)。
11.一種電磁加熱裝置，其特征在于，包括: 晶體管:以及 如權(quán)利要求6至10中任一項(xiàng)所述的功率控制系統(tǒng)，所述功率控制系統(tǒng)與所述晶體管相連。
【文檔編號(hào)】H05B6/06GK103813556SQ201410053453
【公開日】2014年5月21日 申請(qǐng)日期:2014年2月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月17日
【發(fā)明者】汪釗, 陳偉, 肖小龍, 李新峰, 艾永東 申請(qǐng)人:美的集團(tuán)股份有限公司, 佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司