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有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片及有機電致發(fā)光顯示裝置制造方法

文檔序號:8069259閱讀:228來源:國知局
有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片及有機電致發(fā)光顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明在開發(fā)大畫面的有機EL顯示裝置時,防止畫面中央部與畫面外周部間的亮度不均的發(fā)生,以減低成本風險的構成進行防止該亮度不均發(fā)生的手段的形成,并維持對有機EL元件的原本的保護功能。本發(fā)明的彩色濾光片的構成如下:具有透明基板、形成于該透明基板上的作為像素部分的著色層、和形成于著色層周圍的非像素區(qū)域,并且在上述非像素區(qū)域的至少一處以上形成有凸狀柱,在上述凸狀柱的頂部、側(cè)部及上述非像素區(qū)域具有輔助電極層。
【專利說明】有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片及有機電致發(fā)光顯示裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及有機電致發(fā)光(以下時稱為“有機EL”)顯示裝置中使用的彩色濾光片、以及具備該彩色濾光片而構成的有機EL顯示裝置。
【背景技術】
[0002]近年來,平面顯示器被使用于許多領域、場所,在信息化的進展當中,其重要性日益升高。
[0003]目前,在平面顯示器中,液晶顯示器(IXD)雖可稱得上占有中心地位,但作為基于與液晶顯示器(LCD)不同的顯示原理的平面顯示器,正在活躍地進行有機EL、無機EL、等離子體顯示器面板(PDP)、發(fā)光二極管顯示裝置(LED)、熒光顯示管顯示裝置(VFD)及場致發(fā)射顯示器(FED)等的開發(fā)。
[0004]這些新型的平面顯示器均為被稱為白發(fā)光型的顯示器,其與液晶顯示器(LCD)在以下幾點上大不相同,并具有液晶顯示器(LCD)所不具有的優(yōu)異特征。
[0005]液晶顯示器(IXD)被稱為受光型,液晶本身不發(fā)光而作為透過、遮斷外光的所謂開閉器(shutter)起作用,構成顯示裝置。因此,需要光源,并且通常需要背光源。與此相對,白發(fā)光型因裝置本身發(fā)光,故不需要其他光源。此外,如液晶顯示器(LCD)之類的受光型并不受顯示信息形態(tài)的拘束,經(jīng)常性地點亮背光源,而消耗與全顯示狀態(tài)幾乎無異的電力。與此相對,白發(fā)光型根據(jù)顯示信息而僅在需要點亮處才消耗電力,故相較于受光型顯示裝置,其原理上存在電力消耗較少的優(yōu)點。
[0006]同樣地,液晶顯示器(LCD)由于將背光源的光進行遮光以得到暗狀態(tài),故即使僅為少量,也難以完全消除漏光,與此相對,白發(fā)光型由于其不發(fā)光狀態(tài)即屬于暗狀態(tài),故可輕易獲得理想的暗狀態(tài),在對比度方面,白發(fā)光型具有絕對性優(yōu)勢。此外,液晶顯示器(LCD)由于利用基于液晶的雙折射所進行的偏光控制,故因觀察方向使顯示狀態(tài)大幅改變、也即所謂的視角依賴性強,但白發(fā)光型幾乎無此問題。進而,液晶顯示器(LCD)由于利用來自作為有機彈性物質(zhì)的液晶的介電各向異性的取向變化,故原理上對電信號的應答時間為Ims以上。與此相對,就正進行開發(fā)中的上述白發(fā)光型的技術而言,由于利用例如電子/空穴的所謂載流子遷移、電子釋放、等離子體放電等,故應答時間為ns級,屬于無法與液晶比較的程度的高速,且不會產(chǎn)生液晶顯示器(LCD)的因應答慢速所造成的動畫殘影問題。
[0007]最近,這些平面顯示器中的有機EL顯示裝置的研究特別活躍,已提出:(I)按各個發(fā)光色以規(guī)定圖案形成三原色的發(fā)光層的有機EL顯示裝置;(2)使用白色發(fā)光的發(fā)光層,經(jīng)由三原色的彩色濾光片進行顯示的有機EL顯示裝置;(3)使用藍色發(fā)光的發(fā)光層,設置利用了熒光色素的色轉(zhuǎn)換層,將藍色光轉(zhuǎn)換為綠色熒光或紅色熒光而進行三原色顯示的有機EL顯示裝置等。
[0008]有機EL顯示裝置主要已實用化為車輛用導航器、移動電話、數(shù)碼相機等的數(shù)英寸左右的小型畫面用,但最近,開始希望進行以薄型電視為代表的例如20英寸以上的大畫面化的開發(fā)。
[0009]然而,在將有機EL顯示裝置制成例如20英寸以上的大畫面時,在畫面的外周部和中央部,用于對各像素供給驅(qū)動電流的布線長度極為不同。因此,在畫面的中央部,其電壓下降的程度較畫面外周部更大,而有發(fā)生亮度不均的不良情況。
[0010]越是想要實現(xiàn)大畫面化,則該傾向變得越顯著。尤其是供給驅(qū)動電流的布線經(jīng)由形成于含有發(fā)光層的有機EL層上的ITO等透明電極而被導通,該ITO的電阻比例如金屬Cu等更大,因此ITO的電壓下降的影響較大。
[0011]另外,作為有機EL顯示裝置的驅(qū)動方式,有被動矩陣方式和主動矩陣方式,前者雖結構簡單,但有難以實現(xiàn)大型化且高精細的顯示裝置等問題,為了實現(xiàn)大型化,正盛行后者的主動矩陣方式的開發(fā)。在主動矩陣方式中,通過設置于各有機EL元件的驅(qū)動電路內(nèi)的TFT (Thin Film Trasnsistor,薄膜晶體管)控制與各像素對應配置的有機EL元件中流通的電流。
[0012]另外,作為被認為與本發(fā)明有關的現(xiàn)有技術,可列舉下述專利文獻I?專利文獻4。
[0013]專利文獻1:日本專利第4489472號公報
[0014]專利文獻2:日本專利第4367346號公報
[0015]專利文獻3:日本特開2009-26828號公報
[0016]專利文獻4:日本特開2001-96682號公報
[0017]專利文獻I公開了一種有機電致發(fā)光顯示裝置,其以即使大型化也不會發(fā)生因由上部透明電極引起的電壓下降所造成的發(fā)光亮度不均為目的之一,并以使位于形成于第I基板的元件分離用隔壁(bank)上的上部電極和形成于第2基板的導電性遮光圖案電連接的方式將第I基板和第2基板對置地配置,并使至少上述上部電極或上述導電性遮光圖案連接于給電點而成。
[0018]然而,專利文獻I中,將作為柱狀突起的元件分離用隔壁形成于形成有TFT或有機EL層的第I基板側(cè)。由于形成有TFT或有機EL層,故第I基板側(cè)成為復雜的構成,與將元件分離用隔壁設置于相反側(cè)的第2基板側(cè)的工藝相比,將元件分離用隔壁設置于第I基板側(cè)上時,可謂使成品率降低的概率極高。而且,第I基板側(cè)的成品率降低會造成需經(jīng)由復雜的工序予以形成,使工序數(shù)多的TFT或有機EL層的形成工序較為浪費,可以說在成本上的損失極大。此外,具備處于被一對電極夾持的狀態(tài)的有機EL層的有機EL元件通常通過被用于保護有機EL元件的密封層覆蓋而得到保護,故如還考慮到該密封層的存在那樣需要在技術上考察是否實現(xiàn)該密封層與其覆蓋的電極間的導通。
[0019]另外,專利文獻2中提出了能夠?qū)崿F(xiàn)電源布線和第2電極的進一步的低電阻化、減低顯不的売度不均、實現(xiàn)聞売度化、聞對比度化的聞輸出品質(zhì)的有機EL裝置等的電光學裝置,但在該提案中仍可能產(chǎn)生與上述專利文獻I同樣的問題。
[0020]另外,在專利文獻3中提出了以提高對置電極的電位的面內(nèi)均一性為目的而開發(fā)的上面發(fā)光型的有機EL顯示裝置,但在該提案中仍可能產(chǎn)生與上述專利文獻I相同的問題。
[0021]另外,專利文獻4中提出了一種發(fā)光裝置,其能夠降低透明電極的實效性電阻值,并且能夠?qū)τ袡CEL層施加均一的電壓,故可以防止顯示不均等顯示不良,但在該提案中仍可能產(chǎn)生與上述專利文獻I相同的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0022]發(fā)明要解決的問題
[0023]根據(jù)這些實際情況而開創(chuàng)出本發(fā)明,其目的在于在開發(fā)大畫面的有機EL顯示裝置時提供能夠防止畫面的中央部與畫面的外周部的亮度不均的發(fā)生、且以減低成本風險的構成進行防止該亮度不均發(fā)生的手段的形成、且能夠維持對有機EL元件的原本的保護功能的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片及有機電致發(fā)光顯示裝置。
[0024]用于解決問題的手段
[0025]為了解決此種課題,本發(fā)明為一種有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其是在以來自有機電致發(fā)光元件的有機EL層的光為發(fā)光光源的有機電致發(fā)光顯示裝置中使用的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,上述彩色濾光片的構成如下:具有透明基板、形成于該透明基板上的作為像素部分的著色層、和形成于著色層周圍的非像素區(qū)域,并且在上述非像素區(qū)域的至少一處以上形成有凸狀柱,在上述凸狀柱的頂部、側(cè)部及上述非像素區(qū)域具有輔助電極層。
[0026]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的優(yōu)選形態(tài),上述輔助電極層具有金屬輔助電極層及透明電極層而構成,上述金屬輔助電極層在非像素區(qū)域被配設為線狀的圖案,在使金屬輔助電極層配設為線狀的非像素區(qū)域上形成有凸狀柱,上述透明電極層以覆蓋上述凸狀柱的頂部、側(cè)部及上述非像素區(qū)域且與金屬輔助電極層相接的方式形成。
[0027]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的優(yōu)選形態(tài),上述透明電極層以覆蓋上述金屬輔助電極層整面的方式形成。
[0028]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的優(yōu)選形態(tài),在形成于顯示區(qū)域周圍的顯示區(qū)域外遮光區(qū)域形成有遮光部,在上述遮光部上形成有上述金屬輔助電極層,以覆蓋形成于上述顯示區(qū)域外遮光區(qū)域的上述金屬輔助電極層的方式形成有上述透明電極層,形成于上述顯示區(qū)域外遮光區(qū)域的上述金屬輔助電極層具有2個以上的開口部。
[0029]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的優(yōu)選形態(tài),在上述透明基板上的上述非像素區(qū)域形成有遮光部,以覆蓋上述遮光部及上述著色層的方式形成有外涂層,在上述外涂層上形成有上述金屬輔助電極層,在上述著色層之間的上述非像素區(qū)域中的上述遮光部上設置有至少一色的上述著色層,在設有上述著色層的上述遮光部上的上述金屬輔助電極層上形成有上述凸狀柱。
[0030]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的優(yōu)選形態(tài),上述輔助電極層具有透明電極層而構成,上述透明電極層以覆蓋上述凸狀柱的頂部、側(cè)部及上述非像素區(qū)域的方式形成。
[0031]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的優(yōu)選形態(tài),上述輔助電極層具有金屬輔助電極層而構成,上述金屬輔助電極層在非像素區(qū)域上被配設為線狀,并且在形成于非像素區(qū)域的凸狀柱的側(cè)部及頂部上也被配設為一連串且為線狀。
[0032]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的優(yōu)選形態(tài),上述輔助電極層構成為形成于上述非像素區(qū)域的導電性的遮光部。
[0033]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的優(yōu)選形態(tài),上述非像素區(qū)域以具有縱橫方向的線相交的交叉部位、且在上述交叉部位具有上述凸狀柱的方式構成。
[0034]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的優(yōu)選形態(tài),凸狀柱以呈現(xiàn)出從基部側(cè)到頂部為止其直徑漸減的錐臺形狀的方式構成。
[0035]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的優(yōu)選形態(tài),以如下方式構成:具有I個或2個以上的凸狀柱,在比較配設于基板中央部的凸狀柱的配設密度Dl與基板外周部的凸狀柱的配設密度D2時,Dl ^ D2、尤其是Dl > D2。
[0036]本發(fā)明為一種有機電致發(fā)光顯示裝置,其是具有上述記載的彩色濾光片和有機EL元件側(cè)基板的有機電致發(fā)光顯示裝置,所述有機EL元件側(cè)基板具有基板和形成于該基板上的包含有機EL層的有機電致發(fā)光元件,上述彩色濾光片與上述有機EL元件側(cè)基板以使上述著色層與上述有機電致發(fā)光元件對置的方式配置,上述有機電致發(fā)光元件含有上述有機EL層、以及以夾持上述有機EL層的方式配置的一對的下面電極層和上面透明電極層,且以覆蓋該元件的方式在上面透明電極層上形成有密封層,在上述密封層具有凹部,該凹部以能夠插接形成于上述彩色濾光片的上述凸狀柱的頂端部分、并且使形成于上述凸狀柱頂部的上述輔助電極層的部分與上述上面透明電極層接觸而實現(xiàn)導通的方式形成。
[0037]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置的優(yōu)選形態(tài),形成上述凹部的部位成為鄰接的有機EL層之間的間隙部分。
[0038]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置的優(yōu)選形態(tài),上述凹部的深度是到達上述上面透明電極層的深度。
[0039]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置的優(yōu)選形態(tài),其以在上述凹部的側(cè)面形成導電膜的方式構成。
[0040]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置的優(yōu)選形態(tài),其以在上述有機EL元件側(cè)基板的基板上形成與每個元件對應的控制上述有機電致發(fā)光元件中流通的電流的TFT的方式構成。
[0041]另外,作為本發(fā)明的有機電致發(fā)光顯示裝置的優(yōu)選形態(tài),上述有機EL層中含有的發(fā)光層構成為白色發(fā)光層。
[0042]發(fā)明效果
[0043]本發(fā)明的彩色濾光片的構成如下:具有透明基板、形成于該透明基板上的作為像素部分的著色層、和形成于著色層周圍的非像素區(qū)域,在上述非像素區(qū)域的至少一處以上形成有凸狀柱,在上述凸狀柱的頂部、側(cè)部及上述非像素區(qū)域具有輔助電極層。故在構成大畫面的有機EL顯示裝置時,可防止畫面中央部與畫面外周部間的亮度不均的發(fā)生。進而,由于在彩色濾光片側(cè)具備具有輔助電極層的凸狀柱,故可以減低成本風險的方向進行防止該亮度不均發(fā)生的手段的形成。進而,在通過該彩色濾光片與有機EL元件側(cè)基板的一體化而構成有機EL顯示裝置時,可以在確保對有機EL元件具有充分保護功能的密封層的存在的狀態(tài)下,實現(xiàn)形成于凸狀柱的輔助電極層與有機EL元件的電極間的接合。
【專利附圖】

【附圖說明】[0044]圖1為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL元件側(cè)基板的第I實施方式的剖面圖,其是對圖3所示的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的俯視圖的沿A-B-C-D-E-F-G-H-1-J-K-L-M-N線的切割面及基于其的有機EL元件側(cè)基板的切割面觀察得到的剖面圖。
[0045]圖2為通過將圖1所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL元件側(cè)基板接合而形成的有機EL顯示裝置的剖面圖。
[0046]圖3為表示第I實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片的一部分的俯視圖,其相當于圖1的α-α相視俯視圖。
[0047]圖4為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL元件側(cè)基板的第2實施方式的剖面圖,其是對圖6(A)所示的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的俯視圖的沿A-B-C-D-E-F-G-H-1-J-K-L-M-N線的切割面及基于其的有機EL元件側(cè)基板的切割面觀察得到的剖面圖。
[0048]圖5為通過將圖4所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL元件側(cè)基板接合而形成的有機EL顯示裝置的剖面圖。
[0049]圖6(A)為表示第2實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片的一部分的俯視圖,其相當于圖4的β-β相視俯視圖;圖6?)為表示凸狀柱與輔助電極層的配置關系的示意性立體圖。 [0050]圖7為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL元件側(cè)基板的第3實施方式的剖面圖,其是對圖9(A)所示的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片的俯視圖的沿A-B-C-D-E-F-G-H-1-J-K-L-M-N線的切割面及基于其的有機EL元件側(cè)基板的切割面觀察得到的剖面圖。
[0051]圖8為通過將圖7所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL元件側(cè)基板接合而形成的有機EL顯示裝置的剖面圖。
[0052]圖9(A)為表示第3實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片的一部分的俯視圖,其相當于圖7的gamma-gamma相視俯視圖;圖9(B)為表示凸狀柱與輔助電極層的配置關系的示意性立體圖。
[0053]圖10為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL元件側(cè)基板的第4實施方式的剖面圖。
[0054]圖11為通過將圖10所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL元件側(cè)基板接合而形成的有機EL顯示裝置的剖面圖。
[0055]圖12為用于說明配設于基板中央部的凸狀柱的配設密度Dl和基板外周部的凸狀柱的配設密度D2的定義的圖。
[0056]圖13為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL元件側(cè)基板的第5實施方式的剖面圖。
[0057]圖14為通過將圖13所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL元件側(cè)基板接合而形成的有機EL顯示裝置的剖面圖。
[0058]圖15為表不第6實施方式的有機EL顯不裝置用彩色濾光片的一部分的剖面圖,其是對圖16(a)所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片的俯視圖的沿O-P線的切割面觀察得到的剖面圖。[0059]圖16(a)為表不第6實施方式的有機EL顯不裝置用彩色濾光片的一部分的俯視圖,其相當于圖15的δ-δ相視俯視圖;圖16(b)為用于說明開口部的示意圖。
[0060]圖17(a)為表示第7實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片的一部分的剖面圖;圖17(b)為表示第7實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片的一部分的俯視圖,其相當于圖17(a)的ε-ε相視俯視圖?!揪唧w實施方式】
[0061]以下,參照附圖詳細說明用于實施本發(fā)明的2個以上的實施方式。此外,本發(fā)明并不限定于以下說明的形態(tài),在不脫離技術思想的范圍內(nèi)可進行各種變形而實施。此外,在添附的附圖中,為了便于說明,有將上下、左右的比例尺夸大而圖示的情況,有時會與實際比例不同。
[0062]<第I實施方式>
[0063]參照圖1?圖3對本發(fā)明第I實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL顯示裝置進行說明。
[0064]圖1為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片10及有機EL元件側(cè)基板70的剖面圖。這些構成構件的剖面圖是對圖3所示的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片10的俯視圖的沿A-B-C-D-E-F-G-H-1-J-K-L-M-N線的切割面及基于其的有機EL元件側(cè)基板70的切割面觀察得到的剖面圖。圖2為通過將圖1所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片10及有機EL元件側(cè)基板70接合而形成的有機EL顯示裝置100的剖面圖。圖3為表示第I實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片10的一部分的俯視圖,其相當于圖1的α - α相視俯視圖。
[0065](有機EL顯示裝置用彩色濾光片10的說明)
[0066]本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片10是在以來自有機EL元件的包含發(fā)光層的有機EL層的光作為發(fā)光光源的有機EL顯示裝置中使用的有機EL顯示裝置用彩色濾光片(以下有時簡稱為彩色濾光片)。
[0067]如圖1所示,本發(fā)明的彩色濾光片10具有透明基板11、形成于該透明基板11上的作為像素部分的著色層13、和形成于著色層13周圍的非像素區(qū)域12。通常,若著眼于除了配置于基板最外周的著色層13以外的其他大部分的著色層13,則非像素區(qū)域12存在于鄰接的著色層13之間的間隙部分。
[0068]透明基板11只要是對可見光呈透明的基板,則無特別限定,可使用與一般彩色濾光片所使用的透明基板相同的透明基板。具體而言,可使用石英玻璃、Pyrex(注冊商標)玻璃、合成石英等剛性材料、或透明樹脂薄膜、光學用樹脂板等具有撓性的透明柔性材料。
[0069]著色層13具有紅色著色層13R、綠色著色層13G及藍色著色層13Β,通常以依次排列這些著色層的狀態(tài)形成圖案,但其圖案排列并不特別限定于圖示的圖案排列??稍O為條紋型、馬賽克型、三角型、4像素配置型等公知的排列,并且可任意設定各著色層的面積。
[0070]另外,附圖中的作為像素部分的著色層13的數(shù)量(像素數(shù))為例示所記載的數(shù)量,但并不限定于圖示例。作為著色層13的形成方法,可使用一般的彩色濾光片中的著色層13的形成方法,例如光刻法、噴墨法、印刷法等。
[0071]通常理想的是在本實施方式中的非像素區(qū)域12形成遮光部12a(有時也稱為所謂的黑矩陣),但其并非用于表現(xiàn)本發(fā)明作用效果所必需的部分。遮光部12a通常構成為格子狀的遮光層,通常使用含有黑色顏料、粘結劑樹脂和溶劑的光致抗蝕劑、印刷用油墨或鉻等金屬而構成。作為印刷用油墨中所使用的黑色顏料,可列舉例如炭黑、鈦黑等;作為粘結劑樹脂,可列舉甲基丙烯酸芐酯:苯乙烯:丙烯酸:甲基丙烯酸2-羥基乙酯的共聚物等;作為溶劑,可從公知的各種溶劑中選定使用。
[0072]作為遮光部12a的形成方法,可通過光刻法、各種圖案印刷方法、各種鍍敷方法等形成。
[0073]本發(fā)明的彩色濾光片10在非像素區(qū)域12的至少一處以上形成有凸狀柱17。該凸狀柱17以如后述那樣對其外部賦予導電性、且能夠防止作為本發(fā)明課題的畫面中央部與畫面外周部的亮度不均的發(fā)生的方式形成。因此,理想的是:為了發(fā)揮其作用而在容易發(fā)生亮度不均處、尤其是基板的中央部附近形成凸狀柱17。本實施方式中,雖然在圖1的剖面圖的中央部附近形成3根凸狀柱17,但這僅記載為例示,其根數(shù)及配置場所并不限定于圖示的根數(shù)及配置場所。只要按照能夠以最佳狀態(tài)表現(xiàn)本發(fā)明的作用效果的方式適當設定根數(shù)、配置場所等即可。
[0074]本發(fā)明中,如后所述,凸狀柱17以如下方式發(fā)揮作用:通過將來白具有有機EL層83的有機EL元件側(cè)基板70的電流經(jīng)由形成于凸狀柱17的輔助電極層18而導入彩色濾光片10側(cè)并從彩色濾光片10側(cè)逃離,從而防止電壓降低。
[0075]本發(fā)明的凸狀柱17適合由樹脂材料構成,例如通過光刻法等形成。此外,本發(fā)明中,以在凸狀柱17的頂部17a、側(cè)部17b及上述非像素區(qū)域12具有具導電性的輔助電極層18的方式形成。凸狀柱理想的是以呈現(xiàn)出從基部側(cè)到頂部17a為止其直徑漸減的錐臺形狀的方式構成。這是由于:如后述那樣容易使凸狀柱與具有有機EL層的有機EL元件側(cè)基板70 —體化。作為凸狀柱的具體形狀,可列舉例如錐臺形狀。通過使凸狀柱為錐臺形狀,從而可以在以覆蓋凸狀柱的頂部及側(cè)部的方式形成透明電極層時防止透明電極層的斷線。作為此種錐臺形狀,可列舉例如圖示那樣的作為切除了圓錐頂端部的形狀的圓錐臺、圓柱、三角錐臺、四角錐臺等。
[0076]作為凸狀柱17的底部的基部的寬度為8?IOOym左右,頂部17a的寬度為3?95 μ m左右,高度為2.5?25 μ m左右。此外,從基部側(cè)到頂部17a的B錐角度為30?85°左右。
[0077]在凸狀柱為錐臺形狀且具有上底面及下底面時,作為上底面的面積相對于下底面的面積的比率,只要使凸狀柱的上底面的面積在將有機EL顯示裝置用彩色濾光片接合于有機EL元件側(cè)基板時成為使凸狀柱上底面與上面透明電極層電連接的程度,則無特別限定。優(yōu)選為例如5%?60%的范圍,更優(yōu)選為10%?50%的范圍內(nèi),特別優(yōu)選為15%?40%的范圍內(nèi)。
[0078]若更具體說明第I實施方式,則輔助電極層18構成為由透明電極層18’形成的所謂實地膜(solid film)。即,在具有形成于透明基板11上的作為像素部分的著色層13、形成于著色層13周圍的非像素區(qū)域12 (優(yōu)選形成有遮光部12a)、和形成于非像素區(qū)域12的凸狀柱17的透明基板11的單面整體上,形成作為輔助電極層18的透明電極層18’以作為實地膜。即,圖3的整面覆蓋透明電極層18’作為實地膜。通過形成此種透明電極層18’的實地膜,從而可如上述那樣在凸狀柱17的頂部17a、側(cè)部17b及上述非像素區(qū)域12形成具導電性的輔助電極層18。本實施方式中,著色層13也被透明電極層18’覆蓋。
[0079]作為透明電極層18’的形成材料,可列舉例如具有透明性及導電性的金屬氧化物。作為此種金屬氧化物,可列舉例如氧化銦錫(ITO)、氧化銦、氧化鋅、或氧化錫等。透明電極層18’的膜厚設為50nm?1500nm、更優(yōu)選設定為120nm?1200nm。
[0080]作為透明電極層的形成方法,可使用例如蒸鍍法或濺射法等。
[0081]另外,作為使透明電極層進行固化時的退火溫度,優(yōu)選較低的溫度。例如優(yōu)選在150°C?250°C的范圍內(nèi),更優(yōu)選在170°C?230°C的范圍內(nèi),特別優(yōu)選在180°C?210°C的范圍內(nèi)。通過使將透明電極層進行固化時的退火溫度在上述范圍內(nèi),從而可抑制透明電極層的固化收縮,并且可以維持透明電極層和與透明電極層接觸的著色層、遮光部、外涂層等透明電極層的基底層的密合性。此外,可維持后述的透明電極層的透光性。
[0082]作為透明電極層的透光性,只要是在將本實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片用于有機EL顯示裝置時可得到所需效果的程度,則無特別限定,例如使在380nm?780nm的平均透過率優(yōu)選為85 %?98 %的范圍內(nèi),更優(yōu)選為90 %?97 %的范圍內(nèi),特別優(yōu)選為92%?96%的范圍內(nèi)。
[0083]另外,平均透過率可利用例如島津制作所制紫外可見光分光度計UV-3600進行測定。
[0084]另外,為了對構成凸狀柱17的樹脂材料賦予導電性,也可使其含有導電性材料,但有產(chǎn)生凸狀柱17的強度不足、或無法得到充分導電性等問題的風險,故雖然可在凸狀柱17中含有某程度的導電性材料,但需要在凸狀柱17形成輔助電極層18。
[0085]以下進一步說明適合使用于本發(fā)明的彩色濾光片10中的著色層13。
[0086]具有紅色著色層13R、綠色著色層13G及藍色著色層13B而構成的著色層13對應有機EL顯示裝置100(參照圖2)的單位像素進行設置。而且,這些紅色著色層13R、綠色著色層13G及藍色著色層13B在分別使各色的顏料或染料等著色劑分散或溶解于感光性樹脂中后再形成于基板上。
[0087]作為紅色著色層13R中使用的著色劑,可列舉例如茈系顏料、色淀顏料、偶氮系顏料、喹吖酮系顏料、葸醌系顏料、葸系顏料、異吲哚啉系顏料等。這些顏料可單獨使用或混合2種以上使用。
[0088]作為綠色著色層13G中使用的著色劑,可列舉例如鹵素多取代酞菁系顏料或鹵素多取代銅酞菁系顏料等酞菁系顏料、三苯基甲烷系堿性染料、異吲哚啉系顏料、異吲哚啉酮系顏料等。這些顏料或染料可單獨使用或混合2種以上使用。
[0089]作為藍色著色層13B中使用的著色劑,可列舉例如銅酞菁系顏料、蒽醌系顏料、陰丹士林(indanthrene)系顏料、靛酹(indophenol)系顏料、花青(cyanine)系顏料、二卩惡嗪系顏料等。這些顏料可單獨使用或混合2種以上使用。
[0090]另外,如圖13所示,非像素區(qū)域12優(yōu)選具有縱橫方向的線交叉的交叉部位且在該非像素區(qū)域12的交叉部位形成有凸狀柱17。其理由在于可使凸狀柱17的形成位置具有空間上的富余,可以以提高了強度的狀態(tài)加以形成。此外,可使形成也較為容易而有助于提升成品率。此外,根據(jù)TFT的設計,凸狀柱17的形成位置也可不為交叉部位。
[0091 ](有機EL元件側(cè)基板70的說明)
[0092]圖1所示,有機EL元件側(cè)基板70具有基板71、和含有形成于該基板71上的有機EL層83的有機電致發(fā)光元件80而構成。
[0093]通過將此種有機EL元件側(cè)基板70與上述彩色濾光片10 —體化接合,從而形成如圖2所示的有機電致發(fā)光顯示裝置100。此外,在將有機EL元件側(cè)基板70與上述彩色濾光片10 —體化接合時,以使有機EL元件側(cè)基板70的有機電致發(fā)光元件80與彩色濾光片10的著色層13對置的方式配置。
[0094]有機電致發(fā)光元件80具有有機EL層83、以及以夾持該有機EL層83的方式配置的一對的下面電極層81和上述透明電極層85而構成。此外,在有機EL層83周圍形成絕緣層91,利用該絕緣層91對有機EL層83進行劃分,并且防止下面電極層81與上面透明電極層85直接接觸。進而,在上面透明電極層85上以覆蓋元件整體的方式形成主要用于保護有機EL層83的密封層95。
[0095]然后,在此種密封層95的與上述彩色濾光片10相對的面上形成凹部95a。該凹部95a以能夠插接形成于上述彩色濾光片10的凸狀柱17的頂端部分、并且使形成于上述凸狀柱17的頂部17a的輔助電極層18的部分與有機電致發(fā)光元件80的上面透明電極層85接觸而實現(xiàn)導通的方式形成。凹部95a優(yōu)選制成具有與所插入的凸狀柱17的頂端部分相同的錐臺形狀、且能夠使凸狀柱17的頂端部分嵌接于凹部95a的形態(tài)。此外,凹部95a的深度為到達上面透明電極層85的深度。此外,雖未圖示,但是為了容易確保輔助電極層18與上面透明電極層85間的導通,也可事先在凹部95a的側(cè)面形成導電膜。
[0096]形成凹部95a的部位優(yōu)選設置于不存在有機EL層的部位以不使發(fā)光區(qū)域變窄。例如,如圖1或圖2所示那樣,可以在鄰接的有機EL層83之間的間隙部分形成凹部95a。
[0097]通過采用如上所述的構成,從而如上述那樣使來自具有有機EL層83的有機EL元件側(cè)基板70的電流經(jīng)由形成于凸狀柱17的輔助電極層18而導入彩色濾光片10側(cè)并從彩色濾光片10側(cè)逃離,從而起到防止電壓下降的作用。
[0098]另外,如圖示那樣,在基板71上與每個像素對應地配置形成用于控制構成像素的有機電致發(fā)光元件80中流通的電流的TFT (Thin Film Transistor) 75,通常在各TFT的電路上連接有未圖示的柵極線、信號線、電源線。此種TFT75的形成方法可依照公知方法進行,在TFT75上通常形成絕緣層77。此外,作為絕緣層77,可使用與后述絕緣層91相同的材料。
[0099]以下,進一步說明有機EL元件側(cè)基板70的各構成。
[0100](基板71)
[0101]作為本發(fā)明中使用的基板71,只要是可支撐有機電致發(fā)光元件80等的基板即可,可使用一般作為有機EL顯示裝置的構成構件使用的基板。此外,本實施方式從有機EL顯示裝置用彩色濾光片10側(cè)提取光,即所謂的頂發(fā)光(Top Emission)方式,故作為有機EL元件側(cè)基板70的基板71,可為透明或不透明。
[0102](絕緣層91)
[0103]如上述那樣,為了防止下面電極層81與上面透明電極層85直接接觸而形成本發(fā)明的絕緣層91。
[0104]作為此種絕緣層91的形成材料,可使用例如感光性聚酰亞胺樹脂、丙烯酸系樹脂等光固化型樹脂、熱固化型樹脂、以及無機材料等。絕緣層91的圖案通??稍O為線狀,通過形成絕緣層91,可形成例如矩陣狀或條紋狀等具有開口部的圖案。
[0105]作為絕緣層91的形成方法,可列舉涂布上述材料而利用光刻法進行圖案化的方法。此外,也可使用印刷法等。[0106](有機EL 層 83)
[0107]本發(fā)明中使用的有機EL層83以具有發(fā)光層、特別優(yōu)選白色發(fā)光層的方式構成。也可以以取代白色發(fā)光層而依次具有紅色發(fā)光層、藍色發(fā)光層及綠色發(fā)光層的方式構成,在此,以更優(yōu)選的形態(tài)即具有白色發(fā)光層的情況為例進行說明。
[0108]另外,對于有機EL層83而言,除了發(fā)光層外,通常由多層有機層構成,可具有空穴注入層或電子注入層等電荷注入層、或向白色發(fā)光層傳輸空穴的空穴傳輸層、向白色發(fā)光層傳輸電子的電子傳輸層等電荷傳輸層。
[0109](白色發(fā)光層)
[0110]作為適合于本發(fā)明的發(fā)光層而使用的白色發(fā)光層只要為可發(fā)出白色光的發(fā)光層即可。具體而言,此種白色發(fā)光層只要為在對有機EL層83施加電壓時,至少具有藍色光(430nm?470nm)、綠色光(470nm?600nm)、及紅色光(600nm?700nm)的波長區(qū)域的發(fā)光光譜的發(fā)光層即可。進而,在發(fā)光光譜中,綠色光(470nm?600nm)波峰的最大發(fā)光強度與藍色光(430nm?470nm)波峰的最大發(fā)光強度之比(綠色光波峰的最大發(fā)光強度/藍色光波峰的最大發(fā)光強度)優(yōu)選在0.3?0.8的范圍內(nèi),更優(yōu)選在0.3?0.7的范圍內(nèi),特別優(yōu)選在0.3?0.5的范圍內(nèi)。
[0111]通過使綠色光波峰的最大發(fā)光強度與藍色光波峰的最大發(fā)光強度之比在上述范圍內(nèi),從而可更有效地發(fā)揮因藍色圖案的透過率較大所致的消耗電力減低效果。此外,關于紅色光(600nm?700nm),優(yōu)選使紅色光波峰的最大發(fā)光強度與藍色光波峰的最大發(fā)光強度之比(紅色光波峰的最大發(fā)光強度/藍色光波峰的最大發(fā)光強度)在0.3?1.0的范圍內(nèi)。
[0112]作為構成此種白色發(fā)光層的材料,只要為發(fā)出熒光或磷光的材料即可,并無特別限定。此外,發(fā)光材料也可具有空穴傳輸性或電子傳輸性。作為發(fā)光材料,可列舉色素系材料、金屬絡合物系材料、及高分子系材料。
[0113]作為上述色素系材料,可列舉環(huán)五胺衍生物、四苯基丁二烯衍生物、三苯基胺衍生物、噁二唑衍生物、吡唑并喹啉衍生物、二苯乙烯基苯衍生物、二苯乙烯基亞芳基衍生物、硅雜環(huán)戊二烯(Silole)衍生物、噻吩環(huán)化合物、吡啶環(huán)化合物、芘酮衍生物、茈衍生物、寡聚噻吩衍生物、三富馬酰胺衍生物、噁二唑二聚物及吡唑啉二聚物等。
[0114]另外,作為上述金屬絡合物系材料,可列舉:鋁喹啉醇絡合物、苯并喹啉醇鈹絡合物、苯并噁唑鋅絡合物、苯并噻唑鋅絡合物、偶氮甲基鋅絡合物、葉啉鋅絡合物、及銪絡合物;或者在中心金屬上具有Al、Zn、Be等或Tb、Eu、Dy等稀土金屬、并在配位子上具有卩惡二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、及喹啉結構等的金屬絡合物等。
[0115]另外,作為上述高分子系的材料,可列舉:聚對亞苯基亞乙烯基衍生物、聚噻吩衍生物、聚對亞苯基衍生物、聚硅烷衍生物、聚乙炔衍生物等;聚芴衍生物、聚乙烯基咔唑衍生物;以及將上述色素系材料及金屬絡合物系材料進行高分子化而成的材料等。
[0116]作為上述白色發(fā)光層的形成方法,可列舉例如:蒸鍍法、印刷法、噴墨法;或旋涂法、流延法、浸涂法、棒涂法、刮涂法、輥涂法、凹版印刷法、柔性印刷法、噴涂法、及白組織化法(交替吸附法、白組織化單分子膜法)等。其中,優(yōu)選使用蒸鍍法、旋涂法、及噴墨法。
[0117]本發(fā)明中使用的白色發(fā)光層的膜厚通常設為5nm?5 μ m左右。
[0118](空穴注入層)[0119]本發(fā)明中,也可在白色發(fā)光層與陽極(下面電極層81或上面透明電極層85)之間形成空穴注入層。通過設置空穴注入層,從而可使空穴對白色發(fā)光層的注入穩(wěn)定化,可以提高發(fā)光效率。
[0120]作為本發(fā)明中使用的空穴注入層的形成材料,可使用一般在有機EL元件的空穴注入層中所使用的材料。此外,空穴注入層的形成材料也可具有空穴注入性或電子阻擋性中的任一種。
[0121 ] 具體而言,作為空穴注入層的形成材料,可例示出三唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、聚芳基烷烴衍生物、吡唑啉衍生物、吡唑啉酮衍生物、苯二胺衍生物、芳基胺衍生物、氨基取代查爾酮衍生物、噁唑衍生物、苯乙烯基葸衍生物、芴酮衍生物、腙衍生物、二苯乙烯衍生物、硅氮烷衍生物、聚硅烷系、苯胺系共聚物、及噻吩寡聚物等導電性高分子寡聚物等。此外,作為空穴注入層的形成材料,可例示出卟啉化合物、芳香族季胺化合物、及苯乙烯基胺化合物等。
[0122]由此種材料所構成的空穴注入層的膜厚通常設為5nm?Ιμπι左右。
[0123](電子注入層)
[0124]本發(fā)明中,在白色發(fā)光層與陰極(上面透明電極層85或下面電極層81)之間也可形成電子注入層。通過設置電子注入層,從而可使電子對白色發(fā)光層的注入穩(wěn)定化,可以提高發(fā)光效率。
[0125]作為本發(fā)明中使用的電子注入層的形成材料,可列舉例如:硝基取代芴衍生物、葸醌二甲烷衍生物、二苯基醌衍生物、二氧化噻喃衍生物、萘茈等雜環(huán)四羧酸酐;碳二酰亞胺、亞芴基甲烷衍生物、葸醌二甲烷及葸酮衍生物、噁二唑衍生物、噁二唑衍生物的噁二唑環(huán)的氧原子被硫原子置換后的噻唑衍生物、具有已知作為吸電子基團的喹噁啉環(huán)的喹噁啉衍生物、三(8-喹啉醇)鋁等8-喹啉醇衍生物的金屬絡合物、酞菁、金屬酞菁、及二苯乙烯基吡嗪衍生物等。
[0126]由此種材料所構成的電子注入層的膜厚通常設為5nm?Ιμπι左右。
[0127](上面透明電極層85)
[0128]本發(fā)明的上面透明電極層85是為了對夾持于其與后述的下面電極層81之間的有機EL層83施加電壓、并在白色發(fā)光層產(chǎn)生發(fā)光而設置的。
[0129]另外,上面透明電極層85使在白色發(fā)光層所產(chǎn)生的光透過有機EL顯示裝置用彩色濾光片側(cè),故如圖1所示那樣上面透明電極層85配置于有機EL層83與位于有機EL層83上側(cè)的有機EL顯示裝置用彩色濾光片10之間。
[0130]作為本發(fā)明中使用的上面透明電極層85的形成材料,可列舉例如具有透明性及導電性的金屬氧化物等。作為此種金屬氧化物,可列舉例如氧化銦錫(ITO)、氧化銦、氧化鋅及氧化錫等。
[0131]由此種材料所構成的上面透明電極層85的膜厚通常設為IOOnm?300nm左右。
[0132]作為上面透明電極層85的形成方法,適合使用例如在利用蒸鍍法或濺射法等形成薄膜后再利用光刻法進行圖案化的方法。
[0133](下面電極層81)
[0134]如圖1所示,本發(fā)明的下面電極層81配置在有機EL層83與位于有機EL層83下側(cè)的基板71之間。下面電極層81是形成用于使白色發(fā)光層發(fā)光的另一電極的材料,其構成為具有與上述上面透明電極層85相反的電荷的電極。
[0135]作為所使用的下面電極層81的形成材料,可列舉例如功函數(shù)小至4eV以下程度的金屬、合金、及它們的混合物等。具體可例示出鈉、鈉-鉀合金、鎂、鋰、鎂/銅混合物、鎂/銀混合物、鎂/鋁混合物、鎂/銦混合物、鋁/氧化鋁(Al2O3)混合物、銦、鋰/鋁混合物、及稀土金屬等??筛鼉?yōu)選列舉鎂/銀混合物、鎂/鋁混合物、鎂/銦混合物、鋁/氧化鋁(Al2O3)混合物、及鋰/鋁混合物。
[0136]下面電極層81的薄層電阻優(yōu)選為數(shù)Ω/cm以下。此外,下面電極層81的膜厚通常設為IOnm?I μ m左右。
[0137]作為下面電極層81的形成方法,適合使用例如在利用蒸鍍法或濺射法等形成薄膜后再利用光刻法進行圖案化的方法。此外,在下面電極層81連接有用于控制在有機EL元件中流通的電流的TFT (Thin Film Transistor) 75。
[0138](密封層95)
[0139]具有上述凹部95a的密封層95形成于上面透明電極層85上,也即形成在上面透明電極層85與有機EL顯示裝置用彩色濾光片10之間。密封層95通常設置為阻斷水蒸氣或氧到達有機EL層83的保護層。
[0140]作為密封層95,只要為可對水蒸氣或氧表現(xiàn)阻擋性、且呈透明的密封層,則無特別限定,可使用例如透明無機膜、透明樹脂膜、或有機-無機混合膜等。其中,從阻擋性較高的觀點出發(fā),優(yōu)選為透明無機膜。
[0141]作為適合使用為密封層95的透明無機膜的形成材料,可使用例如氧化鋁、氧化硅、及氧化鎂等氧化物;氮化硅等氮化物;氮氧化硅等氮氧化物等。從不易產(chǎn)生針孔且阻氣性高的方面出發(fā),特別優(yōu)選為氮氧化硅。
[0142]密封層95可為單層,也可為多層。例如在密封層95為層疊有2個以上的氮氧化硅膜的多層時,可進一步提高阻擋性。此外,在密封層95為多層時,各層可分別使用不同的材料。
[0143]密封層95的膜厚可根據(jù)所使用的密封層95的形成材料種類等而適當決定。通常設為5nm?51 μ m左右。若此密封層95的厚度過薄,則會產(chǎn)生阻擋性不充分的傾向,此外,若密封層95的厚度過厚,則有容易產(chǎn)生因薄膜的膜應力所致裂紋等現(xiàn)象的傾向。
[0144]在密封層95為透明無機膜時,作為此透明無機膜的形成方法,只要為可以真空狀態(tài)形成的膜的形成方法,則無特別限定,可列舉例如濺射法、離子鍍法、電子束(EB)蒸鍍法或電阻加熱法等真空蒸鍍法;原子層外延(ALE)法、激光消融法、化學氣相生長(CVD)法等。其中,從生產(chǎn)率的觀點出發(fā),優(yōu)選使用濺射法、離子鍍法、CVD法。
[0145]作為在密封層95的規(guī)定處形成上述凹部95a的方法,適合使用例如在形成密封層95的薄膜后再利用光刻法進行圖案化的方法。
[0146]通過將具有此種構成的有機EL元件側(cè)基板70與上述彩色濾光片10 —體化接合,從而形成如圖2所示的有機電致發(fā)光顯示裝置100。即,在有機EL元件側(cè)基板70與上述彩色濾光片10 —體化接合時,以將有機EL元件側(cè)基板70的形成于密封層95的凹部95a與彩色濾光片10的形成于非像素區(qū)域的凸狀柱17頂端部對位后,將凸狀柱17的頂端部嵌接于密封層95的凹部95a,使形成于凸狀柱17的頂部17a的上述輔助電極層18的部分與上述上面透明電極層85接觸而實現(xiàn)導通的方式一體化。其后,在密封層95與輔助電極層18的間隙部分填充如圖2所示那樣的粘接劑層99,實現(xiàn)彩色濾光片10與有機EL元件側(cè)基板70的一體化接合,形成圖2所示的有機電致發(fā)光顯示裝置100。
[0147]作為粘接劑層99,只要是透明且具有粘接力、并且具有固化性的粘接劑層,則無特別限定。作為形成此種粘接劑層99的材料,可列舉例如具有熱固化性的粘接劑、或具有光固化性的粘接劑作為優(yōu)選例。通常以不需溶劑的類型為佳。此外,也可使用膜狀的粘接片的類型。具體可列舉環(huán)氧系、丙烯酸系、聚酰亞胺系、合成橡膠系等粘接劑或粘接片。
[0148]另外,也可不設置粘接劑層99而先空出密封層95與輔助電極層18的間隙部分,在氮氣等惰性氣體環(huán)境中利用密封劑對上述有機EL元件側(cè)基板70及有機EL顯示裝置用彩色濾光片10的周邊部密封,并在中空的內(nèi)部具備氧化鋇等捕水劑。
[0149]如圖2所示,來自電源的布線形態(tài)例如具有白電源P的一個電極至各TFT75的布線201、白電源的另一個電極至上面透明電極層85的布線202-203、和自電源的另一個電極至輔助電極層18的布線202-204而構成。用于使有機EL元件80發(fā)光的布線電路為布線201和布線202-203,用于使TFT側(cè)的電流逃離至彩色濾光片側(cè)的輔助電極層益以防止電壓下降的布線電路為布線201和布線204-202。
[0150]通過采用此種構成,從而如上述那樣使來自具有有機EL層83的有機EL元件側(cè)基板70的電流經(jīng)由形成于凸狀柱17的輔助電極層18而導入到彩色濾光片10側(cè)并從彩色濾光片10逃離,故可起到防止電壓下降的作用。
[0151]另外,上述實施方式中,作為優(yōu)選形態(tài),列舉了使用具備紅色著色層13R、綠色著色層13G及藍色著色層13B的彩色濾光片使由具備白色發(fā)光層的有機EL層所發(fā)出的白色光以RGB三色進行發(fā)光的方式進行說明。但是,并不限定于此方式,也可將本發(fā)明主要部分的構件應用于例如使用吸收藍色光并以綠色或紅色進行發(fā)光的色轉(zhuǎn)換層(CCM)使藍色發(fā)光的有機EL層以RGB三色進行發(fā)光的所謂藍色EL色轉(zhuǎn)換(CCM)全彩方式、或?qū)GB發(fā)光的有機EL元件按照各像素分別涂布的所謂RGB發(fā)光層并置全彩方式中的任一方式中。此種可變形例在后述的第2實施方式?第4實施方式中也相同。
[0152]<第2實施方式>
[0153]參照圖4?圖6說明本發(fā)明第2實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL顯示裝置。
[0154]圖4為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片20及有機EL元件側(cè)基板70的剖面圖。這些構成構件的剖面圖為對圖6所示的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片20的俯視圖的沿A-B-C-D-E-F-G-H-1-J-K-L-M-N線的切割面及基于其的有機EL元件側(cè)基板70的切割面觀察得到的剖面圖。圖5為通過將圖4所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片20及有機EL元件側(cè)基板70接合而形成的有機EL顯示裝置100的剖面圖。圖6 (A)為表示第2實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片20的一部分的俯視圖,其相當于圖4的β-β相視俯視圖;圖6?)為表示凸狀柱與輔助電極層的配置關系的示意性立體圖。
[0155]另外,本發(fā)明的各圖中,同一符號表不實質(zhì)上相同的構件。
[0156]圖4?圖6所示的第2實施方式與上述第I實施方式的不同點在于:在凸狀柱17下配設有作為輔助電極層18的金屬輔助電極層18”。即,輔助電極層18具有金屬輔助電極層18”及透明電極層18’而構成,金屬輔助電極層18”如圖6(A)所示那樣在非像素區(qū)域12被配設為線狀的圖案,在金屬輔助電極層18”配設為線狀的非像素區(qū)域12上形成有凸狀柱17 (參照圖6 (B)),作為實地膜的透明電極層18’以覆蓋上述凸狀柱17的頂部17a、側(cè)部17b及上述非像素區(qū)域12且與金屬輔助電極層18”相接的方式形成。即,作為立體圖像,想要令人想起在圖6(B)所示的狀態(tài)的基礎上覆蓋作為透明實地膜的透明電極層18’的狀態(tài)。
[0157]通過此種第2實施方式、即進一步附加金屬輔助電極層18”,從而可使輔助電極層18的電阻進一步降低,或可使透明電極層18’的膜厚減薄而發(fā)揮透光率提升等效果。
[0158]作為金屬輔助電極層18”中使用的材料,可列舉:Cu、Ag、Au、Pt、Al、Cr、Co等金屬或它們的合金;或以MAM(鑰/鋁.釹合金/鑰)為代表的復層金屬膜等。
[0159]作為此種金屬輔助電極層18”的形成方法,適合使用例如在通過蒸鍍法或濺射法等形成薄膜后再利用光刻法進行圖案化的方法。
[0160]<第3實施方式>
[0161]參照圖7?圖9說明本發(fā)明第3實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL顯示裝置。
[0162]圖7為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片30及有機EL元件側(cè)基板70的剖面圖。這些構成構件的剖面圖為對圖9所示的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片30的俯視圖的沿A-B-C-D-E-F-G-H-1-J-K-L-M-N線的切割面及基于其的有機EL元件側(cè)基板70切割面觀察得到的剖面圖。圖8為通過將圖7所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片30及有機EL元件側(cè)基板70接合而形成的有機EL顯示裝置100的剖面圖。圖9 (A)為表示第3實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片30的一部分的俯視圖,其相當于圖7的Y-Y相視俯視圖;圖9?)為表示凸狀柱與輔助電極層的配置關系的示意性立體圖。
[0163]另外,本發(fā)明的各圖中,同一符號表不實質(zhì)上相同的構件。
[0164]圖7?圖9所示的第3實施方式與上述第I實施方式的不同點在于:僅使用金屬輔助電極層18”作為輔助電極層18,而且將此金屬輔助電極層18”在非像素區(qū)域12及凸狀柱17上連續(xù)地形成為線狀。即,輔助電極層18具有金屬輔助電極層18”而構成,金屬輔助電極層18”在非像素區(qū)域12上被配設為線狀(參照圖9(A)),進而在形成于非像素區(qū)域12的凸狀柱17的側(cè)部17b及頂部17a也被配設為一連串且為線狀。作為立體圖像,請參照圖9(B)所示的立體圖。
[0165]作為此種金屬輔助電極層18”的形成方法,例如可在利用濺射法等在形成了凸狀柱17的彩色濾光片上形成金屬層后再利用光刻法保留規(guī)定圖案。
[0166]根據(jù)此種第3實施方式,由于可僅由低電阻的金屬輔助電極層18”構成輔助電極層18,故可進一步減低輔助電極層18的電阻。
[0167]另外,根據(jù)第3實施方式,由于需要在凸狀柱17的側(cè)部17b形成金屬輔助電極層18”,故理想的是考慮此情況而緩和地設定凸狀柱17的錐臺形狀(例如,錐形角=30?85°左右)。
[0168]另外,金屬輔助電極層18”的材料可使用與上述第2實施方式中說明的材料相同的材料。
[0169]<第4實施方式>
[0170]參照圖10?圖11說明本發(fā)明第4實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL顯示裝置。
[0171]圖10為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片40及有機EL元件側(cè)基板70的剖面圖。這些構成構件的剖面圖以上述第1實施方式~第3實施方式的剖面位置為基準。圖11為通過將圖10所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片40及有機EL元件側(cè)基板70接合而形成的有機EL顯示裝置100的剖面圖。
[0172]另外,本發(fā)明的各圖中,同一符號表示實質(zhì)上相同的構件。
[0173]圖10~圖11所示的第4實施方式與上述第I實施方式的不同點在于:輔助電極層18兼作形成于非像素區(qū)域12的導電性的遮光部而構成。即,由具有導電性和遮光性的材料所構成的輔助電極層18形成于非像素區(qū)域12的整體,存在于非像素區(qū)域12的凸狀柱17的側(cè)部17b及頂部17a的整面也被輔助電極層18的材料所覆蓋。
[0174]作為此種輔助電極層18的形成方法,例如可在利用光刻法對掩模進行圖案化后再利用濺射法等在圖案凹部填充輔助電極層的材料。
[0175]作為本實施例中使用的輔助電極層的材料,可列舉具有導電性及遮光性的材料即Cu、Ag、Au、Pt、Al、Cr、Co等金屬或它們的合金或以MAM(鑰/鋁.釹合金/鑰)為代表的
復層金屬膜等。
[0176]根據(jù)此種第4實施方式,由于可同時形成遮光部12a和輔助電極層18,故產(chǎn)生可實現(xiàn)工藝的簡化、或降低與有機EL元件側(cè)基板70間的電極接觸部的電阻等優(yōu)點。
[0177]另外,本發(fā)明中,在具有I個或2個以上的凸狀柱的情況下,在比較配設于基板中央部的凸狀柱的配設密度Dl與基板外周部的凸狀柱的配設密度D2時,理想的是以Dl≥D2、優(yōu)選Dl > D2的方式構成。
[0178]另外,在求取Dl及D2時,如圖12所示那樣將相當于畫面尺寸的基板的尺寸縱橫3等分而使基板成為3X3的9等分。其中央部的區(qū)域Sc即屬于基板中央部,在此定義為所測定的凸狀柱的配設密度D1。然后,除此中央部的區(qū)域Sc以外的8個外區(qū)域Sp屬于基板外周部,將這些各區(qū)域中測得的凸狀柱的配設密度中的最大值定義為D2。
[0179]如以上說明的那樣,本發(fā)明的彩色濾光片由于以具有透明基板、形成于該透明基板上的作為像素部分的著色層、和形成于著色層周圍的非像素區(qū)域,并且在上述非像素區(qū)域的至少一處以上形成有凸狀柱,在上述凸狀柱的頂部、側(cè)部以及上述非像素區(qū)域具有輔助電極層的方式構成,故在構成大畫面的有機EL顯示裝置時,可防止畫面中央部與畫面外周部間的亮度不均的發(fā)生。進而,由于在彩色濾光片側(cè)具備具有輔助電極層的凸狀柱,故可以減低成本風險的方向進行防止該亮度不均發(fā)生的手段的形成。進而,在利用該彩色濾光片與有機EL元件側(cè)基板的一體化而構成有機EL顯示裝置時,可在確保對有機EL元件具有充分保護功能的密封層的存在的狀態(tài)下,實現(xiàn)形成于凸狀柱的輔助電極層與有機EL元件的電極之間的接合。
[0180]〈第5實施方式〉
[0181]參照圖13~圖14說明本發(fā)明第5實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL顯示裝置。
[0182]圖13為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片50及有機EL元件側(cè)基板70的剖面圖。這些構成構件的剖面圖以上述第I實施方式~第4實施方式的剖面位置為基準。圖14為通過將圖13所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片50及有機EL元件側(cè)基板70接合而形成的有機EL顯示裝置100的剖面圖。
[0183] 另外,本發(fā)明的各圖中,同一符號表不實質(zhì)上相同的構件。[0184]圖13?圖14所示的第5實施方式與上述第2實施方式的不同點在于:透明電極層18’以覆蓋金屬輔助電極層18”整面的方式形成。
[0185]另外,圖13?圖14所示的第5實施方式為表示在非像素區(qū)域12形成有遮光部12a、且在遮光部12a上形成金屬輔助電極層18”的情況的一例。
[0186]另外,第5實施方式的遮光部12a并非必需的構成,但本實施方式中優(yōu)選形成遮光部 12a。
[0187]通過此種第5實施方式、即透明電極層18’以覆蓋金屬輔助電極層18”整面的方式形成,從而可防止因金屬輔助電極層18”的氧化所致的劣化,可防止金屬輔助電極層18”的電阻值上升。
[0188]另外,如14所示的有機EL顯示裝置那樣,在有機EL顯示裝置用彩色濾光片50與有機EL元件側(cè)基板70之間填充粘接劑層99而一體化接合時,通過以透明電極層18’覆蓋金屬輔助電極層18”整面,從而可防止金屬輔助電極層18”與粘接劑層99間的接觸。因此,可防止因在使粘接劑層99固化時所產(chǎn)生的粘接劑層99的固化收縮而使金屬輔助電極層18”被粘接劑層99所拉伸,使輔助電極層18”從遮光部12a等基底層剝離的現(xiàn)象。SP,可維持金屬輔助電極層18”對基底層的密合性。
[0189]本實施方式中,只要使透明電極層18’以覆蓋金屬輔助電極層18”的方式形成,則無特別限定,通常以也覆蓋著色層13表面的方式形成。其中,優(yōu)選如圖13?圖14所示那樣使透明電極層18’形成于整面上。
[0190]<第6實施方式>
[0191]參照圖15?圖16說明本發(fā)明第6實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL顯示裝置。
[0192]圖15為表示本發(fā)明的有機EL顯示裝置用彩色濾光片60的剖面圖。這些構成構件的剖面圖為對圖16(a)所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片60的俯視圖沿O-P線的切割面觀察得到的剖面圖。圖16(a)為表示第6實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片60的一部分的俯視圖,其相當于圖15的δ-δ相視俯視圖;圖16(b)為說明開口部的示意圖。
[0193]另外,本發(fā)明的各圖中,同一符號表不實質(zhì)上相同的構件。
[0194]圖15?圖16所不的第6實施方式與上述第5實施方式的不同點在于:在形成于顯示區(qū)域周圍的顯示區(qū)域外遮光區(qū)域19上形成有遮光部12a,且在遮光部12a上形成有金屬輔助電極層18”,進而以覆蓋形成于顯示區(qū)域外遮光區(qū)域19的金屬輔助電極層18”的方式形成有透明電極層18’,進而形成于顯示區(qū)域外遮光區(qū)域19的金屬輔助電極層18”具有2個以上的開口部15。
[0195]通過此種第6實施方式、即在顯示區(qū)域外遮光區(qū)域19形成有遮光部12a、金屬輔助電極層18”及透明電極層18’,且金屬輔助電極層18”具有2個以上的開口部15,從而可得到以下效果。
[0196]首先,以往就具有金屬輔助電極層18”與樹脂間的密合性較低的課題。因此,在使金屬輔助電極層18”形成于由樹脂所構成的遮光部12a上時、或如本實施方式那樣使金屬輔助電極層18”形成于外涂層14上時,有因金屬輔助電極層18”及遮光部12a的密合性低、或金屬輔助電極層18”及外涂層14的密合性低而產(chǎn)生金屬輔助電極層18”剝離的風險。[0197]另外,在金屬輔助電極層18”與由ITO等構成的透明電極層18’中,一般因形成工序時的固化處理所致的收縮程度具有較大的差距。因此,存在通過進行固化處理而使金屬輔助電極層18”與透明電極層18’容易剝離的課題。
[0198]與此相對,圖15?圖16所示的本實施方式中,由于形成于顯示區(qū)域外遮光區(qū)域19的金屬輔助電極層18”具有2個以上的開口部15,進而以覆蓋這樣的金屬輔助電極層18”的方式形成透明電極層18’,故金屬輔助電極層18”與金屬輔助電極層18’相接,可減少密合性較低的外涂層14或遮光部12a等與金屬輔助電極層18”的基底層間的接觸面積。此夕卜,可使相當于形成于金屬輔助電極層18”的2個以上的開口部15的面積的區(qū)域,成為透明電極層18’與對透明電極層18’的密合性較高的外涂層14或遮光部12a等金屬輔助電極層18”的基底層間的接觸區(qū)域。即,通過經(jīng)由金屬輔助電極層18”提升透明電極層18’與金屬輔助電極層18”的基底層間的密合性,從而可防止金屬輔助電極層18’從外涂層14或遮光部12a等基底層剝離的現(xiàn)象。
[0199]另外,通過使具有2個以上的開口部15的金屬輔助電極層18”形成于顯示區(qū)域以外的顯示區(qū)域外遮光區(qū)域19,從而可將顯示區(qū)域外遮光區(qū)域19中的金屬輔助電極層18”作為包圍有機EL顯示裝置的顯示區(qū)域19的邊框使用。進而,本實施方式中,通過在顯示區(qū)域外遮光區(qū)域19形成遮光部12a及金屬輔助電極層18”,從而可使重疊了遮光部12a及金屬輔助電極層18”的顯示區(qū)域外遮光區(qū)域19的色調(diào)更接近黑色。由此,可使有機EL顯示裝置用彩色濾光片中的顯示區(qū)域與包圍上述顯示區(qū)域的邊框間的邊界更加鮮明,可提升有機EL顯示裝置的良好外觀。
[0200]另外,作為形成于金屬輔助電極層的2個以上的開口部,優(yōu)選如圖16(a)所示的本實施方式那樣均等地形成于金屬輔助電極層。在2個以上的開口部并未均等地形成于顯示區(qū)域外遮光區(qū)域中的輔助電極層時,在顯示區(qū)域外遮光區(qū)域、在金屬輔助電極層的形成有2個以上的開口部的區(qū)域、及形成較少開口部的區(qū)域中,存在因金屬輔助電極層與外涂層或遮光部等金屬輔助電極層的基底層間的密合性產(chǎn)生偏差而無法得到高可靠性的風險、或在顯示區(qū)域外遮光區(qū)域的遮光功能產(chǎn)生偏差的風險。
[0201]在此,所謂均等是指開口部的數(shù)量在金屬輔助電極層Icm2內(nèi)為±100個以內(nèi)。
[0202]本實施方式中,作為顯示區(qū)域外遮光區(qū)域中的金屬輔助電極層,只要為具有2個以上的開口部的金屬輔助電極層,則無特別限定,作為顯示區(qū)域外遮光區(qū)域中的2個以上的開口部的總面積相對于金屬輔助電極層的面積的比率,優(yōu)選為例如1%?40%的范圍內(nèi),更優(yōu)選為3%?30%的范圍內(nèi),特別優(yōu)選為5%?20%的范圍內(nèi)。
[0203]作為形成于金屬輔助電極層的每個開口部的面積,可根據(jù)開口部的形成方法等而適當調(diào)整,優(yōu)選為例如25μπι2?IOOOmm2的范圍內(nèi),更優(yōu)選為IOOym2?IOOmm2的范圍內(nèi),特別優(yōu)選為500 μ m2?50_2的范圍內(nèi)。
[0204]若每個開口部的面積小于上述范圍,則有時難以在金屬輔助電極層形成開口部。此外,若每個開口部的面積大于上述范圍,則在顯示區(qū)域外遮光區(qū)域中的形成了開口部的區(qū)域與未形成開口部的區(qū)域,存在因金屬輔助電極層與外涂層或遮光部等金屬輔助電極層的基底層間的密合性產(chǎn)生偏差而無法得到高可靠性的風險、或在顯示區(qū)域外遮光區(qū)域的遮光功能產(chǎn)生偏差的風險。
[0205]作為形成于金屬輔助電極層的開口部的形狀,可以根據(jù)開口部的形成方法而適當選擇,每個開口部的形狀可以相同,也可以不同。作為開口部的具體形狀,可列舉矩形、楔形、圓形等,其中優(yōu)選為矩形。
[0206]作為開口部為矩形時的開口部的長度L及寬度W,長度L優(yōu)選為51 μ m?2501 μ m的范圍內(nèi),更優(yōu)選為81 μπι?1001 μπι的范圍內(nèi),特別優(yōu)選為ΙΟμπι?80μπι的范圍內(nèi)。此夕卜,寬度W優(yōu)選為5μπι?4000μπι的范圍內(nèi),更優(yōu)選為12.51 μ m?10001 μ m的范圍內(nèi),特別優(yōu)選為501 μ m?6251 μ m的范圍內(nèi)。
[0207]通過使開口部的長度及寬度在上述范圍內(nèi),從而可經(jīng)由開口部使透明電極層與金屬輔助電極層的基底層充分接觸,有效防止金屬輔助電極層從基底層剝離。
[0208]另外,在此所謂開口部的長度及寬度為圖17(b)所示的L及W。
[0209]作為此種開口部的形成方法,只要為可以在金屬輔助電極層形成所需開口部的方法,則無特別限定,可列舉例如光刻法。
[0210]另外,圖15?圖16所示的第6實施方式為以覆蓋遮光部12a及著色層13的方式形成有外涂層14、并且在外涂層14上形成金屬輔助電極層18”、透明電極層18’及凸狀柱17的情況的一例。此外,第6實施方式中的外涂層14并非必需的構成,從使著色層13及遮光部12a的表面平坦化的觀點出發(fā),本實施方式中優(yōu)選形成外涂層14。
[0211]作為外涂層的材料,只要為具有規(guī)定的透光性的材料,則無特別限定,可為光固化性樹脂,也可為熱固化性樹脂。
[0212]作為此種外涂層的材料,可列舉一般的粘結劑樹脂、單體成分、光聚合引發(fā)劑、熱聚合引發(fā)劑等。
[0213]作為外涂層的厚度,只要為可得到規(guī)定透光性的程度、且可使著色層及遮光部的表面平坦化的程度,則無特別限定,例如優(yōu)選為0.5 μ m?5.0 μ m的范圍內(nèi),更優(yōu)選為0.7μπι?3.Ομπι的范圍內(nèi),特別優(yōu)選為0.9μπι?2.Ομπι的范圍內(nèi)。
[0214]作為外涂層的形成方法,只要為能夠以覆蓋著色層及遮光部的表面的方式形成外涂層的方法,則無特別限定,可列舉例如旋涂法、流延法、浸涂法、棒涂法、刮涂法、輥涂法、凹版印刷法、柔性印刷法、噴涂法等。
[0215]<第7實施方式>
[0216]參照圖17說明本發(fā)明第8實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片及有機EL
顯示裝置。
[0217]圖17 (a)為表不本發(fā)明的有機EL顯不裝置用彩色濾光片90的一部分的剖面圖。這些構成構件的剖面圖為對圖17(b)所示的有機EL顯示裝置用彩色濾光片90的俯視圖沿Q-P線的切割面觀察得到的剖面圖。圖17(b)為表示第7實施方式的有機EL顯示裝置用彩色濾光片90的一部分的俯視圖,其相當于圖17(a)的ε-ε相視俯視圖。
[0218]另外,本發(fā)明的各圖中,同一符號表示實質(zhì)上相同的構件。
[0219]圖17所示的第7實施方式與上述第5實施方式的不同點在于:在非像素區(qū)域12形成有遮光部12a,在遮光部及著色層上形成有外涂層14及金屬輔助電極層18”,在作為副像素(sub-pixel)的由各著色層13所構成的像素的周圍的遮光部12a上,設有至少I色的著色層13,進而在設有著色層13的遮光部12a上的金屬輔助電極層18”上形成有凸狀柱。此外,在圖17所示的本實施方式中,具有紅色著色層13R、綠色著色層13G、藍色著色層13B和白色著色層13W作為副像素,并由上述RGBW的4種著色層13構成像素。[0220]在此的所謂像素是指由各著色層所構成的最小單位。S卩,在圖17(a)中,由RGBW四種著色層形成I個像素。進而,所謂副像素是指各著色層。此外,圖17(a)中表示各像素由RGBW4種著色層所構成的情況,但構成各像素的著色層并不限于RGBW這4種,也可為例如RGB這3種。
[0221]另外,與上述第6實施方式同樣,圖17所示的第7實施方式以覆蓋遮光部12a及著色層13的方式形成有外涂層14,并在外涂層14上形成有金屬輔助電極層18”、透明電極層18’及凸狀柱17。
[0222]進而,本實施方式中,只要在作為副像素的各著色層13之間的遮光部12a上設有至少I色的著色層13,則無特別限定,其中,優(yōu)選如圖17所示那樣在由副像素所構成的I個像素的周圍的遮光部12a上設有至少I個著色層13。
[0223]進而,本實施方式中,只要在作為副像素的各著色層13的遮光部12a上設有至少I色的著色層13,則無特別限定,其中,優(yōu)選如圖17所示那樣使在作為副像素的各著色層13之間的遮光部12a上設置的著色層13從像素部分的著色層13延長設置,這是由于可提升平坦性所致。
[0224]另外,圖17中的白色著色層13W通常使用透明樹脂。
[0225]通過此種第7實施方式、即在各著色層13之間的遮光部12a上設有至少I色的著色層13,從而設于遮光部12a上的相當于著色層13厚度的部分將參與凸狀柱17的高度,容易形成凸狀柱17。
[0226]另外,本實施方式中,只要在規(guī)定的遮光部12a上設有至少I色的著色層13,在該遮光部12a上形成有外涂層及金屬輔助電極層18”,且在設有著色層13的遮光部12a上的金屬輔助電極層18”上形成有凸狀柱17,則無特別限定,優(yōu)選如圖17所示那樣在規(guī)定的遮光部12a上設置一個著色層13和隔著遮光部12a相鄰的其他著色層13??墒乖O有著色層的遮光部12a上平坦化,并可防止形成于該遮光部12a上的金屬輔助電極層18”的斷線。
[0227]另外,這是由于可穩(wěn)定確保經(jīng)由金屬輔助電極層18”而形成的凸狀柱17的底座部分。進而,其原因還在于:在形成外涂層14時,可防止形成外涂層14的外涂層形成用涂布液在遮光部12a上從設有著色層13的區(qū)域流至未設有著色層13的區(qū)域,可維持外涂層14的高度。
[0228]進而,本實施方式中,也可如圖17 (a)所示那樣在遮光部12a上不重疊地設置2個以上的著色層13,也可在遮光部12a上重疊地設置2個以上的著色層13。
[0229]另外,本發(fā)明并不限定于上述實施方式。上述實施方式為例示,具有與記載于本發(fā)明的權利要求書的技術思想實質(zhì)相同的構成、且發(fā)揮相同的作用效果的任意實施方式均涵括于本發(fā)明的技術范圍內(nèi)。
[0230](實施例)
[0231]以下表示實施例及比較例,進一步詳細說明本發(fā)明。
[0232][實施例1]
[0233](透明基板的準備)
[0234]作為透明基板,準備尺寸為IOOmmXmm a、厚度0.7mm的玻璃基板。
[0235](遮光部形成用組合物的制備)
[0236]首先,在聚合槽中加入甲基丙烯酸甲酯(MMA) 63質(zhì)量份、丙烯酸(AA) 12質(zhì)量份、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯(HEMA) 6質(zhì)量份、二乙二醇二甲基醚(DMDG) 88質(zhì)量份,攪拌使其溶解后,添加2,2’ -偶氮雙(2-甲基丁腈)7質(zhì)量份,使其均勻溶解。
[0237]其后,在氮氣流下,以85°C攪拌2小時,再以100°C反應I小時。
[0238]在所得的溶液中進一步添加甲基丙烯酸縮水甘油酯(GMA) 7質(zhì)量份、三乙基胺0.4質(zhì)量份、及氫醌0.2質(zhì)量份,以100°C攪拌5小時,得到共聚樹脂溶液(固體成分50% )。
[0239]接著,在室溫下攪拌、混合下述材料,制備成下述組成的固化性樹脂組合物A。
[0240]<固化性樹脂組合物A >
[0241]
【權利要求】
1.一種有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其是在以來自有機電致發(fā)光元件的有機電致發(fā)光層的光為發(fā)光光源的有機電致發(fā)光顯示裝置中使用的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其特征在于, 該彩色濾光片具有透明基板、形成于該透明基板上的作為像素部分的著色層、和形成于著色層周圍的非像素區(qū)域, 在所述非像素區(qū)域的至少一處以上形成有凸狀柱, 在所述凸狀柱的頂部、側(cè)部及所述非像素區(qū)域具有輔助電極層。
2.根據(jù)權利要求1所述的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其中,所述輔助電極層具有金屬輔助電極層及透明電極層而構成,所述金屬輔助電極層在非像素區(qū)域被配設為線狀的圖案,在使金屬輔助電極層配設為線狀的非像素區(qū)域上形成有凸狀柱,所述透明電極層以覆蓋所述凸狀柱的頂部、側(cè)部及所述非像素區(qū)域且與金屬輔助電極層相接的方式形成。
3.根據(jù)權利要求2所述的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其中,所述透明電極層以覆蓋所述金屬輔助電極層整面的方式形成。
4.根據(jù)權利要求2或3所述的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其中,在形成于顯示區(qū)域周圍的顯示區(qū)域外遮光區(qū)域形成有遮光部, 在所述遮光部上形成有所述金屬輔助電極層, 以覆蓋形成于所述顯示區(qū)域外遮光區(qū)域的所述金屬輔助電極層的方式形成有所述透明電極層, 形成于所述顯示區(qū)域外遮光區(qū)域的所述金屬輔助電極層具有2個以上的開口部。
5.根據(jù)權利要求2~4中任一項`所述的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其中,在所述透明基板上的所述非像素區(qū)域形成有遮光部, 以覆蓋所述遮光部及所述著色層的方式形成有外涂層, 在所述外涂層上形成有所述金屬輔助電極層, 在所述著色層之間的所述非像素區(qū)域中的所述遮光部上設置有至少一色的所述著色層, 在設有所述著色層的所述遮光部上的所述金屬輔助電極層上形成有所述凸狀柱。
6.根據(jù)權利要求1所述的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其中,所述輔助電極層具有透明電極層而構成,所述透明電極層以覆蓋所述凸狀柱的頂部、側(cè)部及所述非像素區(qū)域的方式形成。
7.根據(jù)權利要求1所述的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其中,所述輔助電極層具有金屬輔助電極層而構成,所述金屬輔助電極層在非像素區(qū)域被配設為線狀,并且在形成于非像素區(qū)域的凸狀柱的側(cè)部及頂部也被配設為一連串且為線狀。
8.根據(jù)權利要求1所述的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其中,所述輔助電極層構成為形成于所述非像素區(qū)域的導電性的遮光部。
9.根據(jù)權利要求1~8中任一項所述的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其中,所述非像素區(qū)域具有縱橫方向的線相交的交叉部位,在該交叉部位具有所述凸狀柱。
10.根據(jù)權利要求1~9中任一項所述的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其中,凸狀柱呈現(xiàn)出從基部側(cè)到頂部為止其直徑漸減的錐臺形狀。
11.根據(jù)權利要求1~10中任一項所述的有機電致發(fā)光顯示裝置用彩色濾光片,其具有I個或2個以上的凸狀柱,在比較配設于基板中央部的凸狀柱的配設密度Dl與基板外周部的凸狀柱的配設密度D2時,Dl > D2。
12.—種有機電致發(fā)光顯示裝置,其是具有權利要求1~11中任一項所述的彩色濾光片和有機電致發(fā)光元件側(cè)基板的有機電致發(fā)光顯示裝置,所述有機電致發(fā)光元件側(cè)基板具有基板和形成于該基板上的包含有機電致發(fā)光層的有機電致發(fā)光兀件, 所述彩色濾光片與所述有機電致發(fā)光元件側(cè)基板以使所述著色層與所述有機電致發(fā)光元件對置的方式配置, 所述有機電致發(fā)光元件含有所述有機電致發(fā)光層、以及以夾持所述有機電致發(fā)光層的方式配置的 一對的下面電極層和上面透明電極層,且以覆蓋該元件的方式在上面透明電極層上形成有密封層, 在所述密封層具有凹部,所述凹部以能夠插接形成于所述彩色濾光片的所述凸狀柱的頂端部分、并且使形成于所述凸狀柱頂部的所述輔助電極層的部分與所述上面透明電極層接觸而實現(xiàn)導通的方式形成。
13.根據(jù)權利要求12所述的有機電致發(fā)光顯示裝置,其中,形成所述凹部的部位成為鄰接的有機電致發(fā)光層之間的間隙部分。
14.根據(jù)權利要求12或13所述的有機電致發(fā)光顯示裝置,其中,所述凹部的深度是到達所述上面透明電極層的深度。
15.根據(jù)權利要求12~14中任一項所述的有機電致發(fā)光顯示裝置,其在所述凹部的側(cè)面形成有導電膜。
16.根據(jù)權利要求12~15中任一項所述的有機電致發(fā)光顯示裝置,其中,在所述有機電致發(fā)光元件側(cè)基板的基板上形成有與每個元件對應的控制所述有機電致發(fā)光元件中流通的電流的薄膜晶體管。
17.根據(jù)權利要求12~16中任一項所述的有機電致發(fā)光顯示裝置,其中,所述有機電致發(fā)光層中含有的發(fā)光層為白色發(fā)光層。
【文檔編號】H05B33/12GK103891407SQ201280052768
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2012年10月25日 優(yōu)先權日:2011年10月26日
【發(fā)明者】中澤伸介, 日野和幸 申請人:大日本印刷株式會社
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