用于產(chǎn)生x射線輻射的方法和設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明具體地涉及用于產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性（具體地，具有特定輻射劑量率曲線（10））的X射線輻射的方法和設(shè)備。為了提供簡單且成本有效的方案，根據(jù)本發(fā)明，通過從具有定義的第一輻射特性（具體地，具有特定輻射劑量率曲線（11））的第一規(guī)格X射線輻射和具有定義的第二輻射特性（具體地具有預(yù)定的第二輻射劑量率曲線（12））的第二規(guī)格X射線輻射按比例組成和/或調(diào)整具有特定輻射特性（具體地，具有特定輻射劑量率曲線（10））的X射線輻射來產(chǎn)生和/或提供X射線輻射，其中，第二規(guī)格X射線輻射不同于第一規(guī)格X射線輻射。
【專利說明】用于產(chǎn)生X射線輻射的方法和設(shè)備
[0001]本發(fā)明涉及用于產(chǎn)生和/或提供用于照射基體的X射線輻射的特定輻射劑量率曲線的方法和設(shè)備。此外，本發(fā)明涉及用于產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性(特別是具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的設(shè)備和方法。
[0002]例如，這種設(shè)備和方法用于借助于照射裝置的放射治療的領(lǐng)域中。當(dāng)今術(shù)中照射通常通過現(xiàn)代化的照射裝置來實(shí)現(xiàn)，該照射裝置允許將輻射直接引入到照射的位置，例如，引入到腫瘤或腫瘤床中。
[0003]各個(gè)照射所需的X射線輻射通常在X射線輻射源中產(chǎn)生或者通過X射線輻射源來產(chǎn)生。特別地，X射線輻射源是照射裝置的部件。特別地，(例如，用于術(shù)中照射的)已知的X射線輻射源的工作原理基于在電子源中產(chǎn)生電子并作為電子束發(fā)射電子的事實(shí)。電子束通過加速電壓(具體地是高電壓)在加速階段被加速。這樣產(chǎn)生的加速的電子束被引導(dǎo)到靶上，例如，該靶可以由金制成。例如，靶可以位于施用器的前端。在將電子束入射到靶上時(shí)，產(chǎn)生X射線輻射，然后，該X射線輻射以所得到的具有特定輻射特性的X射線輻射場的形狀從靶發(fā)出。例如，這種照射裝置在WO 2009/132799 A2中被描述。
[0004]如果要照射的基體是組織，則必須確定應(yīng)該以定義的距離到達(dá)要照射的組織上的X射線輻射源的所需的輻射劑量。通過作為照射裝置的速率函數(shù)且隨著離X射線輻射源的距離增加而減小的輻射劑量率，可以確定用于要照射的組織的所需的照射時(shí)間，從而所需的輻射劑量到達(dá)組織上或者被輸送到組織或到組織中。通過使用確定的或選擇的輻射劑量率，在確定的照射時(shí)間內(nèi)進(jìn)行照射。
[0005]隨著從X射線輻射源發(fā)出的X射線輻射穿透基體(例如，組織)，除了要施加定義的輻射劑量的位置以外的其它位置也被照射。因?yàn)閄射線輻射源通常被置于基體的表面上或者基體內(nèi)，并且X射線輻射從X射線輻射源傳播，所以輻射劑量率隨著離X射線輻射源的距離增加而減小。這意味著，與遠(yuǎn)離X射線輻射源的距離相比，直接在X射線輻射源處可得到更高的輻射劑量率值。
[0006]例如，X射線輻射源提供這種輻射劑量率值的能力通過所謂的輻射劑量率曲線來描述。通過這些曲線，確定對于離X射線輻射源(例如，離X射線輻射源的等中心)不同的距離的可以由X射線輻射源提供的輻射劑量率值。對于離X射線輻射源的不同的距離的輻射劑量率值的點(diǎn)之間的連接導(dǎo)致輻射劑量率曲線。通過這種輻射劑量率曲線，用戶可以確定在基體的哪個(gè)位置處施加哪個(gè)輻射劑量。
[0007]例如，除了其他因素以外，這種輻射劑量率曲線的路線(例如，斜率)取決于施加的加速電壓。
[0008]但是，因?yàn)橛捎诓豢杀苊獾闹圃旃詈筒牧喜町惗鴮?dǎo)致絕不會(huì)完全相同地設(shè)計(jì)X射線輻射源，所以例如作為來自靶的產(chǎn)生的X射線輻射的發(fā)射特性的X射線輻射源的輻射特性甚至在相同的工作電壓處也總是不同。然而，為了進(jìn)行照射(例如，患者的治療)，必須知道使用的精確的X射線輻射源的輻射特性。因此，為了確定特定X射線輻射源的輻射特性(具體地是，它們的輻射劑量率曲線)，總是在首次投入使用之前校準(zhǔn)X射線輻射源，該校準(zhǔn)也可以被稱為測量或調(diào)查。但是，這種測量是非常復(fù)雜或麻煩。因此，它們只在特定加速電壓處被進(jìn)行。通常，因?yàn)閷τ谄渌募铀匐妷翰恢繶射線輻射源的精確的輻射特性，于是，只在進(jìn)行校準(zhǔn)的那些加速電壓處操作X射線輻射源。
[0009]因此，X射線輻射源的測量，具體地是對于不同的加速電壓，是費(fèi)時(shí)且昂貴的手段。
[0010]本發(fā)明基于從本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)出發(fā)的問題，以進(jìn)一步開發(fā)最初提及的設(shè)備和最初提及的方法，從而可以避免上述的問題。
[0011]根據(jù)本發(fā)明，該問題通過具有根據(jù)獨(dú)立權(quán)利要求1、2和3的特征的方法以及通過具有根據(jù)獨(dú)立權(quán)利要求9、10和11的特征的設(shè)備來解決。根據(jù)從屬權(quán)利要求、本描述以及附圖，本發(fā)明的進(jìn)一步的特征和細(xì)節(jié)變得清楚。這里，結(jié)合根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的一個(gè)方面描述的特征和細(xì)節(jié)也與根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的相應(yīng)的其它方面結(jié)合應(yīng)用。結(jié)合根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)方面描述的特征和細(xì)節(jié)也與根據(jù)本發(fā)明的方法的相應(yīng)的其它方面結(jié)合應(yīng)用。結(jié)合根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備描述的特征和細(xì)節(jié)也針對其公開內(nèi)容全部與根據(jù)本發(fā)明的方法結(jié)合應(yīng)用，從而針對設(shè)備進(jìn)行的陳述也完全適用于方法，反之亦然。
[0012]本發(fā)明的基本概念在于，產(chǎn)生或提供的X射線輻射的輻射特性被改變，根據(jù)本發(fā)明，其具體地隨著時(shí)間而進(jìn)行。
[0013]本發(fā)明具體地在于基體的照射的領(lǐng)域內(nèi)，優(yōu)選地，結(jié)合組織(具體地是腫瘤等)的照射。這里，特別地，規(guī)定以這樣的方式執(zhí)行基體的照射，使得輻射向基體發(fā)射并到達(dá)基體上，并且/或者穿透到基體中。在十分廣泛的意義上，輻射是粒子或波的傳播，其中，特別地，輸送能量和/或脈沖。根據(jù)本發(fā)明，輻射優(yōu)選地是X射線輻射。
[0014]輻射由輻射源產(chǎn)生。輻射源通常用來能夠產(chǎn)生、發(fā)射和/或提供輻射劑量。輻射劑量具體地是基體中(例如，組織)中的離子化輻射的(具體地)吸收或可吸收量。每時(shí)間單位和每質(zhì)量單位吸收的輻射劑量被稱為輻射劑量率。在特定加速電壓處，輻射源具體地具有特定輻射劑量率。輻射劑量率曲線具體地是輻射劑量在深度中的路線(course)。原點(diǎn)是輻射源，具體是其等中心。照射裝置的等中心具體地是在所有的旋轉(zhuǎn)角度處的中心光線穿過的最小球的中心點(diǎn)。通常，可以說等中心是輻射開始或起源的中心。
[0015]例如，輻射源可以是X射線輻射源。然后，產(chǎn)生的輻射是X射線輻射。
[0016]根據(jù)本發(fā)明，對于用于照射基體(具體地是組織)的X射線輻射，產(chǎn)生和/或者提供特定輻射劑量率曲線。在不同的實(shí)施例中，產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性(例如，具有上述的特定發(fā)射特性，具體地具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射。
[0017]這種輻射劑量率曲線具體地是可用于照射的輻射劑量率在深度中的路線。輻射劑量率具體地是關(guān)于基體(具體地是組織材料)的質(zhì)量單位和關(guān)于時(shí)間單位的在定義的位置(例如，在離X射線輻射源的特定距離)處的從X射線輻射源發(fā)出的輻射的能量。這里的原點(diǎn)是X射線輻射源，具體地是X射線輻射源的等中心。輻射劑量率曲線在輻射源的位置處(具體地在X射線輻射源的等中心的位置處)具有最大值。輻射劑量率曲線隨著離輻射源的距離的增大而下降。例如，這可能是由于被照射的基體對輻射的吸收以及由于隨著離X輻射源的距離的增大的空間分布而發(fā)生的。
[0018]這種輻射劑量率曲線優(yōu)選地是所謂的深度劑量率曲線，具體地是水中的深度劑量率曲線。
[0019]對于基體的照射，具體地是對于通過照射來治療患者，通常，也被稱為DDC的物理單位戈瑞每分鐘[Gy/min]的水中深度劑量率曲線是X射線輻射源的重要參數(shù)。水中深度劑量率曲線是水深度的函數(shù)，其中，原點(diǎn)(Omm)是X射線輻射源，具體地是X射線輻射源的等中心。水中深度劑量率曲線在制造期間被測量且在每一個(gè)X射線輻射源的重新校準(zhǔn)期間也被測量，并且是這種X射線輻射源常有的。
[0020]因?yàn)閄射線輻射源近似為X射線點(diǎn)源，所以水中深度劑量率曲線的路線一方面由平方反比定律確定(f (X)?l/χ2)，并且另一方面由水中的產(chǎn)生的X射線輻射的吸收來確定(f (x)?IQ*exp (- μ ff*x))。
[0021]因?yàn)榕c例如放射源形成對照的X射線輻射源的X射線輻射(在這種情況中，Itl)由復(fù)雜的譜組成，所以Itl是能量E的函數(shù)。因?yàn)樗奈障禂?shù)(μ w)也是能量E的函數(shù)，所以吸收強(qiáng)烈地取決于相應(yīng)的X射線輻射源的譜。
[0022]X射線輻射源的譜由使用的材料的特性譜和X射線制動(dòng)譜組成，具體地通過電子的加速電壓。
[0023]通過當(dāng)今使用的設(shè)備，用戶可以在三種不同的加速電壓U之間選擇照射裝置。例如，加速電壓U是三十千伏(30kV)、四十千伏(40kV)和五十千伏(50kV)，但是，其中，加速電壓被固定用于治療的持續(xù)時(shí)間，并且不再被改變。
[0024]通過本發(fā)明，該方法可以在細(xì)節(jié)上偏離稍后將要描述的方法?，F(xiàn)在可以在照射治療期間改變加速電壓。
[0025]因?yàn)閄射線輻射源通常在其設(shè)計(jì)方面相似，所以X射線譜在相同的加速電壓處不會(huì)顯著地不同，并且，水中深度劑量率曲線，即DDC，關(guān)于其路線近似相同。該路線可以通過函數(shù)隨著水深度的增加而減小來識別。
[0026]但是，水中深度劑量率曲線(DDC)的絕對高度可以改變，如果要通過不同的X射線輻射源以特定深度施加相同的劑量，則這可以通過不同的照射次數(shù)來得以補(bǔ)償。
[0027]但是，通常可能至關(guān)重要的是，對于使用的所有的X射線輻射源，意味著發(fā)射的輻射劑量隨著水深度的增加而減小的水中深度劑量率曲線(DDC)的路線相似或相當(dāng)。
[0028]如上面已經(jīng)指明的，通過當(dāng)前的方案，對于期望的照射，一種方案被固定為從有限數(shù)量的不同的加速電壓當(dāng)中的設(shè)定的選擇。這是由于在可選擇的加速電壓處的X射線輻射源的昂貴的費(fèi)時(shí)的校準(zhǔn)引起的。因此，可以只從在這些特定加速電壓處的水中深度劑量率曲線(DDC)的相應(yīng)的路線中選擇一種方案。本發(fā)明允許偏離這些限制。
[0029]通過本發(fā)明也成為可能的是，X射線輻射源可以投入使用，通過本發(fā)明，可以產(chǎn)生不同的水中深度劑量率曲線(DDC)。
[0030]根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供用于產(chǎn)生和/或提供用于照射基體的X射線輻射的特定輻射劑量率曲線的方法。該方法的特征在于，通過下述方式來產(chǎn)生和/或提供特定輻射劑量率曲線:選擇與要產(chǎn)生和/或提供的特定輻射劑量率曲線不同的至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線；以及通過從所述至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線按比例組成和/或調(diào)整特定輻射劑量率曲線。按比例組成和/或調(diào)整也可以被稱為成比例或比例組成和/或調(diào)整。
[0031]根據(jù)該第一方面，旨在產(chǎn)生和/或提供用于照射基體的X射線輻射的特定輻射劑量率曲線。
[0032]特別地，特定輻射劑量率曲線是至今為止不可用的這樣的輻射劑量率曲線。確切地說，該輻射劑量率曲線是通過根據(jù)本發(fā)明的產(chǎn)生和/或提供的。特別地，這樣理解術(shù)語“產(chǎn)生”，即，創(chuàng)建這樣的輻射劑量率曲線。特別地，這樣理解術(shù)語“提供”，即，針對應(yīng)用輸送輻射劑量率曲線。該輻射劑量率曲線可以是上面進(jìn)一步描述的這樣的輻射劑量率曲線。
[0033]該特定輻射劑量率曲線是以特殊的方式產(chǎn)生和/或提供的。這個(gè)的起點(diǎn)是已經(jīng)可得到或已知的至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線。這些預(yù)定的輻射劑量率曲線也可以被稱為規(guī)格(specification)福射劑量率曲線。預(yù)定的福射劑量率曲線相互不同。例如，這些福射劑量率曲線可以通過如上所述的校準(zhǔn)或測量來產(chǎn)生。例如，可以規(guī)定兩個(gè)預(yù)定的輻射劑量率曲線是在不同的加速電壓處測得的這樣的輻射劑量率曲線。
[0034]在最簡單的情況中，使用這樣的輻射劑量率曲線中的兩條。當(dāng)然，根據(jù)本發(fā)明，也可以使用這樣的輻射劑量率曲線中的多于兩條的曲線。
[0035]根據(jù)本發(fā)明，規(guī)定預(yù)定的輻射劑量率曲線不同于要產(chǎn)生和/或提供的特定輻射劑量率曲線。優(yōu)選地，規(guī)定，一條預(yù)定的輻射劑量率曲線是或形成上限，并且，另一條預(yù)定的輻射劑量率曲線是或形成下限。根據(jù)本發(fā)明的要產(chǎn)生和/或提供的特定輻射劑量率曲線優(yōu)選地位于預(yù)定的輻射劑量率曲線之間。這具體地意味著以這樣的方式產(chǎn)生特定輻射劑量率曲線，該特定輻射劑量率曲線或其路線位于預(yù)定的輻射劑量率曲線之間。
[0036]根據(jù)本發(fā)明，選擇或選定至少兩條這樣的預(yù)定的輻射劑量率曲線。然后，通過從至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線按比例組成和/或調(diào)整特定輻射劑量率曲線來創(chuàng)建或產(chǎn)生要產(chǎn)生和/或提供的輻射劑量率曲線。
[0037]根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供用于產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性(具體地是具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的方法。該方法的特征在于，通過從具有定義的第一輻射特性(具體地是具有第一預(yù)定輻射劑量率曲線——其具體地是定義的第一輻射劑量率曲線)的第一規(guī)格X射線輻射和具有定義的第二輻射特性(具體地是具有第二預(yù)定輻射劑量率曲線——其具體地是定義的第二輻射劑量率曲線)的第二規(guī)格X射線輻射組成和/或調(diào)整具有特定輻射特性(具體地是具有特定輻射劑量率曲線)，來產(chǎn)生和/或提供X射線輻射。
[0038]通過根據(jù)本發(fā)明的第二方面的方法，產(chǎn)生和/或提供X射線輻射。該X射線輻射被假定具有上面進(jìn)一步描述的特定輻射特性，該輻射特性可以是發(fā)射特性。具體地，產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射劑量率曲線的X射線輻射。因此，根據(jù)第二方面的方法是根據(jù)第一方面的方法的大致提及的上下文的優(yōu)選實(shí)施例，從而根據(jù)上文的相應(yīng)的解釋在這里引用并通過引用合并在此。
[0039]根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供用于產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性(具體地具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的方法，具體地說，該方法是根據(jù)本發(fā)明的第二方面的前述方法的有利實(shí)施例，從而，對于上面的相應(yīng)的描述進(jìn)行引用并通過引用合并在此。根據(jù)本發(fā)明的第三方面的方法通過使用特定X射線輻射源來描述方法的更加具體的實(shí)施例。
[0040]采用該方法，通過電子源來產(chǎn)生電子束。電子束通過加速電壓被加速并被引向靶。X射線輻射由入射在靶上的電子束的電子產(chǎn)生。
[0041]該方法的特征在于，通過用第一加速電壓和用第二加速電壓按比例交替加速電子束，從具有與第一加速電壓相關(guān)聯(lián)的定義的第一輻射特性的第一規(guī)格X射線輻射和具有與第二加速電壓相關(guān)聯(lián)的定義的第二輻射特性的第二規(guī)格X射線輻射按比例組成和/或調(diào)整具有特定輻射特性的X射線輻射，來產(chǎn)生和/或提供X射線輻射。這里，第二規(guī)格X射線輻射不同于第一規(guī)格X射線福射。[0042]通過方法的該實(shí)施例，提供用于產(chǎn)生X射線輻射的設(shè)備。該設(shè)備具有X射線輻射源或者被設(shè)計(jì)為X射線輻射源。
[0043]優(yōu)選地，通過根據(jù)下面進(jìn)一步描述的本發(fā)明的進(jìn)一步的方面的相應(yīng)的實(shí)施例來實(shí)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的上述三個(gè)方面的方法，從而此時(shí)關(guān)于公開內(nèi)容對根據(jù)下面進(jìn)一步描述的本發(fā)明的設(shè)備的相應(yīng)解釋進(jìn)行引用，并且，這些解釋通過引用合并在此。
[0044]本發(fā)明優(yōu)選地涉及低能量和/或軟X射線輻射的產(chǎn)生。該設(shè)備優(yōu)選地是輻射裝置的一部分。
[0045]現(xiàn)在，具體地說，本發(fā)明的基本特征在于，具體地被設(shè)計(jì)在兩個(gè)或更多個(gè)加速電壓處使用的X射線輻射源以這樣的方式被操作，從而，也可以提供位于第一輻射劑量率曲線和第二輻射劑量率曲線之間的輻射劑量率曲線，該第一輻射劑量率曲線具體地與第一加速電壓相關(guān)聯(lián)，該第二輻射劑量率曲線具體地與第二加速電壓相關(guān)聯(lián)。為了此目的，具體地根據(jù)給定的或固定的計(jì)劃的相應(yīng)的設(shè)備用第一加速電壓和第二加速電壓交替地操作，可任選地，也用另外的加速電壓來操作。
[0046]具體地，采用本發(fā)明，可以通過改變加速電壓來進(jìn)行輻射劑量率曲線的調(diào)整。
[0047]與現(xiàn)有技術(shù)中的已知的方案相比，本發(fā)明允許在操作期間(例如，在治療期間)偏離固定的加速電壓。
[0048]例如在X射線輻射源的制造或重新校準(zhǔn)期間，必須只針對幾種(在最小的情況中，兩種)不同的加速電壓測量輻射劑量率曲線(具體地，水中深度劑量率曲線(DDC))。與此不同的輻射劑量率曲線的產(chǎn)生和/或提供可以例如通過對測得的輻射劑量率曲線的調(diào)整(具體地，借助于計(jì)算器具、軟件等)來計(jì)算和/或確定期望的輻射劑量率曲線來由此產(chǎn)生。計(jì)算器具也可以被稱為計(jì)算單元或計(jì)算模塊。
[0049]一般地，已經(jīng)描述或?qū)⒚枋龅谋景l(fā)明的設(shè)備的全部器具均可以被稱為單元或模塊。
[0050]具體地，調(diào)整是通過確定預(yù)定的輻射劑量率曲線的比例關(guān)系和由此得到的照射次數(shù)來進(jìn)行的。連續(xù)的治療可以通過采用計(jì)算出的不同的加速電壓的比例照射來進(jìn)行。
[0051]通過只測量幾種輻射劑量率曲線(具體地，預(yù)定的輻射劑量率曲線)和從這些測量曲線模擬另外的輻射劑量率曲線(具體地，預(yù)定的輻射劑量率曲線)，可以實(shí)現(xiàn)相當(dāng)大的成本降低。
[0052]這將通過舉例的方式來說明。例如，在X射線輻射源的制造期間，已經(jīng)測量或調(diào)查了輻射劑量率曲線，具體地是對于30kV和50kV的加速電壓的水中深度劑量率曲線(DDC)。具體地，這些是預(yù)定的輻射劑量率曲線。根據(jù)這些輻射劑量率曲線，現(xiàn)在可以針對位于其間的40kV (即，來自特定部分30kV和特定部分50kV)的加速電壓產(chǎn)生輻射劑量率曲線，具體地是深度劑量率曲線(DDC)。該輻射劑量率曲線具體地是特定輻射劑量率曲線。例如，可以規(guī)定，可以通過利用50kV的0.69部分輻射劑量率曲線和利用30kV的0.31部分輻射劑量率曲線來制造或產(chǎn)生利用40kV的輻射劑量率曲線。
[0053]優(yōu)選地，關(guān)于本發(fā)明的第一方面，可以從預(yù)定的輻射劑量率曲線確定和/或計(jì)算特定輻射劑量率曲線。關(guān)于本發(fā)明的第二和第三方面，可以從具有定義的輻射特性(具體地，特定輻射劑量率曲線)的規(guī)格X射線輻射確定和/或計(jì)算具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射。為了此目的，具體地，可以提供計(jì)算器具，其中，進(jìn)行計(jì)算和/或確定。為了計(jì)算，可以利用特定軟件和/或計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。上面已經(jīng)進(jìn)一步地描述了該方法的優(yōu)點(diǎn)。具體地，可以從測得的預(yù)定值模擬特定輻射劑量率曲線和/或具有特定輻射特性的X射線輻射。這意味著，實(shí)際上必須進(jìn)行幾次測量，這樣會(huì)導(dǎo)致方法的簡化和成本降低。
[0054]在關(guān)于本發(fā)明的第一方面的另外的實(shí)施例中，可以從關(guān)于特定輻射劑量率曲線的規(guī)格值確定和/或計(jì)算特定輻射劑量率曲線。關(guān)于本發(fā)明的第二和第三方面，可以從關(guān)于具有特定輻射特性(具體地，特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的規(guī)格值確定和/或計(jì)算具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射。這意味著，從用戶方來說，為了特定應(yīng)用目的等，可以做出相應(yīng)的規(guī)格。例如，可以實(shí)現(xiàn)，用戶想要用他已經(jīng)產(chǎn)生的特定輻射劑量率曲線和/或具有特定輻射特性的X射線輻射來照射。通過所提及的實(shí)施例，例如，可以通過在為此目的而提供的產(chǎn)生器具中的相應(yīng)的計(jì)算來執(zhí)行從給定的輻射劑量率曲線和/或規(guī)格X射線輻射的最佳調(diào)整或近似。產(chǎn)生器具也可以被稱為產(chǎn)生單元或產(chǎn)生模塊。下面還將結(jié)合根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備進(jìn)一步詳細(xì)地描述這樣的產(chǎn)生器具。產(chǎn)生器具可以是計(jì)算器具的一部分，或者，可以是計(jì)算器具。用于此目的的調(diào)整參數(shù)確定規(guī)格的比例率，并從而確定各個(gè)照射次數(shù)。
[0055]優(yōu)選地，在存儲(chǔ)器具中存儲(chǔ)產(chǎn)生和/或提供的特定輻射劑量率曲線或參數(shù)和/或具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的產(chǎn)生和/或提供的X射線輻射的值。下面還將結(jié)合本發(fā)明的器具更加詳細(xì)地描述這樣的存儲(chǔ)器具，該存儲(chǔ)器具也可以被稱為存儲(chǔ)單元或存儲(chǔ)模塊。因此，存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)可用于另外的應(yīng)用。這里，優(yōu)選地規(guī)定，用于產(chǎn)生和/或提供X射線輻射的相應(yīng)的設(shè)備，具體地，這種設(shè)備的計(jì)算器具具有這樣的存儲(chǔ)器具，或者可以至少經(jīng)由接口訪問這樣的存儲(chǔ)器具。
[0056]在另外的實(shí)施例中，優(yōu)選地規(guī)定，根據(jù)本發(fā)明的第一方面的特定輻射劑量率曲線從至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來組成和/或調(diào)整，或者，根據(jù)本發(fā)明的第二方面的具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線福射從第一規(guī)格X射線福射和第二規(guī)格X射線福射以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來組成和/或調(diào)整，或者，根據(jù)本發(fā)明的第三方面的電子束用第一加速電壓和第二加速電壓以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來被加速。例如，這可以借助于時(shí)間切換器具來實(shí)施，該時(shí)間切換器具也可以被稱為時(shí)間切換單元或時(shí)間切換模塊。下面還將結(jié)合根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備進(jìn)一步詳細(xì)地描述這樣的時(shí)間切換器具。
[0057]具體地，這意味著，基于產(chǎn)生和/或提供的結(jié)果的照射可以以連續(xù)(subsequent)的方式或通過改變來進(jìn)行。在任意一種情況中，確保在照射的總持續(xù)時(shí)間之后已經(jīng)進(jìn)行了相應(yīng)地計(jì)算出的各個(gè)照射次數(shù)。例如，在優(yōu)選的實(shí)施例中，可以進(jìn)行每秒或每分鐘的加速電壓的重復(fù)改變。返回參考上述示例，例如，可以規(guī)定，在照射期間執(zhí)行加速電壓的重復(fù)改變，例如，在50kV處0.69*1分鐘，然后在30kV處0.31*1分鐘，并且，例如，對這個(gè)路線進(jìn)行20次。在不同的實(shí)施例中，例如，還可以采用不同的加速電壓按比例以連續(xù)的方式來照射，例如，在50kV處0.69*20分鐘，然后，在30kV處0.31*20分鐘。
[0058]優(yōu)選地規(guī)定，根據(jù)本發(fā)明的第一方面的特定輻射劑量率曲線通過線性組合從至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線組成和/或調(diào)整，或者，根據(jù)本發(fā)明的第二或第三方面的具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射通過線性組合從第一規(guī)格X射線輻射和第二規(guī)格X射線輻射組成和/或調(diào)整。諸如此類的線性組合被稱為數(shù)學(xué)方法。具體地，線性組合是由幾個(gè)其它的向量之和形成的向量。因此，對于所有的加速電壓的全部的輻射劑量率曲線的測量不再是必需的。確切地說，缺失的輻射劑量率曲線可以由幾條測得的輻射劑量率曲線通過測得的輻射劑量率曲線的線性組合來形成。
[0059]在本描述的另外的路線中，描述了不同的設(shè)備，其中，具體地，這些設(shè)備適用于執(zhí)行上述的方法。因此，關(guān)于這些設(shè)備，在公開內(nèi)容方面參考根據(jù)本發(fā)明的方法的上面提及的描述，并且，其內(nèi)容通過引用合并在此，反之亦然。
[0060]根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供用于產(chǎn)生和/或提供用于照射基體的X射線輻射的特定輻射劑量率曲線的設(shè)備，具體地，該第四方面對應(yīng)于本發(fā)明的上述的第一方面。該設(shè)備的特征在于，該設(shè)備具有用于選擇與要產(chǎn)生和/或提供的特定輻射劑量率曲線不同的至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線的選擇器具，并且，該設(shè)備具有用于從至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線按比例組成和/或調(diào)整特定輻射劑量率曲線的器具。選擇器具也可以被稱為選擇單元或選擇模塊。用于組成和/或調(diào)整的器具也可以被稱為用于組成和/或調(diào)整的單元或模塊。關(guān)于設(shè)備的實(shí)施例和功能概念，也參考在上面的關(guān)于根據(jù)本發(fā)明的方法的描述中提供的解釋，并且，其內(nèi)容通過引用合并在此。
[0061]根據(jù)本發(fā)明的第五方面，提供用于產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性的X射線輻射的設(shè)備，具體地，該第五方面對應(yīng)于本發(fā)明的上述的第二方面。該設(shè)備的特征在于，該設(shè)備具有用于產(chǎn)生和/或提供具有定義的第一輻射特性(具體地，具有預(yù)定的第一輻射劑量率曲線)的第一規(guī)格X射線輻射和具有定義的第二輻射特性(具體地，具有預(yù)定的第二輻射劑量率曲線)的第二規(guī)格X射線輻射的器具，其中，第一規(guī)格X射線輻射不同于第二規(guī)格X射線輻射，并且，該設(shè)備具有用于從第一規(guī)格X射線輻射和第二規(guī)格X射線輻射按比例組成和/或調(diào)整具有特定輻射特性(具體地，特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的器具。關(guān)于設(shè)備的實(shí)施例和功能概念，也參考在上面的關(guān)于根據(jù)本發(fā)明的方法的描述中提供的解釋，并且，其內(nèi)容通過引用合并在此。
[0062]根據(jù)本發(fā)明的第六方面，提供用于產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性的X射線輻射的設(shè)備(具體地，之前描述的設(shè)備)，具體地，該第六方面對應(yīng)于本發(fā)明的上述的第三方面。該設(shè)備的特征在于:用于產(chǎn)生電子束的電子源；用于由來自入射在靶上的電子束的電子產(chǎn)生X射線輻射的靶；用于借助于施加的加速電壓使電子束的電子加速的加速器具；用于產(chǎn)生和/或提供具有定義的第一輻射特性(具體地，具有與第一加速電壓相關(guān)聯(lián)的預(yù)定的第一輻射劑量率曲線)的第一規(guī)格X射線輻射和具有定義的第二輻射特性(具體地，具有與第二加速電壓相關(guān)聯(lián)的預(yù)定的第二輻射劑量率曲線)的第二規(guī)格X射線輻射的器具；以及用于從第一規(guī)格X射線輻射和第二規(guī)格X射線輻射按比例組成和/或調(diào)整具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的器具，其中，該器具被設(shè)計(jì)用于影響加速器具，從而使電子束加速或者可以用第一加速電壓和第二加速電壓按比例交替地使電子束加速。關(guān)于設(shè)備的實(shí)施例和功能概念，也參考在上面的關(guān)于根據(jù)本發(fā)明的方法的描述中提供的解釋，并且，其內(nèi)容通過引用合并在此。
[0063]上述的設(shè)備首先具有電子源。借助于電子源，產(chǎn)生電子，具體地，電子作為電子束被發(fā)射。因此，電子源具體地用來產(chǎn)生電子束。此外，設(shè)備具有靶，其中，例如，靶可以由金制成。靶用于X射線輻射的實(shí)際產(chǎn)生。由電子源產(chǎn)生的電子作為電子束入射在靶上。通過入射在靶上的電子束的電子，產(chǎn)生從靶發(fā)出的X射線輻射。
[0064]根據(jù)本發(fā)明的方法以及根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備可以具體地用于術(shù)中照射的領(lǐng)域。這里，使用X射線輻射，具體地是短范圍的X射線輻射，該X射線輻射可以直接被引入照射位置中或到照射位置，例如，腫瘤或腫瘤床。在用于此目的的X射線輻射源中，在電子源中產(chǎn)生電子。用加速電壓使電子作為電子束向著靶加速，例如，該靶由金制成。這里，具體地，產(chǎn)生低能量X射線輻射，該低能量X射線輻射具體地被各向同性地發(fā)射和穿透到要被照射的組織中。
[0065]具有由鈹制成的尖端的X射線探頭通常用于這樣的照射治療。鈹是對于X射線輻射幾乎透明的材料。X射線探頭優(yōu)選地被設(shè)計(jì)為真空電子束管。在該電子束管中，電子束由電子源產(chǎn)生，然后，該電子束通過加速電壓被加速。電子束向著靶引導(dǎo)。在靶上，電子突然變慢，然后，產(chǎn)生X射線輻射。
[0066]這種設(shè)備優(yōu)選地具有用于通過加速電壓使電子加速的加速器具，該加速器具也可以被稱為電子加速器。加速器具或加速器也可以被稱為加速單元或加速模塊。電子的加速具體地通過在加速器具處施加的高電壓來實(shí)現(xiàn)。優(yōu)選地，該設(shè)備被設(shè)計(jì)用于致動(dòng)加速器具。例如，這意味著，該設(shè)備被設(shè)計(jì)用來以這樣的方式處理加速器具，通過該加速器具，提供期望的加速電壓。加速器具的致動(dòng)優(yōu)選地以這樣的方式來進(jìn)行，具體地，在設(shè)備的操作期間，通過致動(dòng)加速器具，用于使入射在靶上的電子束加速的加速電壓改變，或者可以針對加速電壓值改變。優(yōu)選地規(guī)定，可以經(jīng)由加速器具在不同的加速電壓之間切換。因此，加速器具被設(shè)計(jì)用于在至少兩條不同的加速電壓之間選擇性地切換。例如，加速器具可以是計(jì)算器具的一部分，或者，可以由計(jì)算器具控制。
[0067]由于該優(yōu)選實(shí)施例，具體地，與固定的加速電壓的偏離變成可能，從而具體地可以產(chǎn)生不同的輻射劑量率曲線。這意味著，該設(shè)備優(yōu)選地被設(shè)計(jì)用來以這樣的方式處理加速器具，經(jīng)由該加速器具，可以通過不同的加速電壓來使電子束加速到靶。
[0068]本發(fā)明并不局限于某些加速電壓。優(yōu)選地，施加O和150kV之間的加速電壓。為了照射組織，優(yōu)選地施加10和IOOkV之間的加速電壓。
[0069]優(yōu)選地，該設(shè)備具有用于從預(yù)定的輻射劑量率曲線確定和/或計(jì)算特定輻射劑量率曲線或者用于從具有定義的輻射特性(具體地，特定輻射劑量率曲線)的規(guī)格X射線輻射確定和/或計(jì)算具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的計(jì)算器具。
[0070]可替換地或者另外，該設(shè)備優(yōu)選地具有用于存儲(chǔ)特定輻射劑量率曲線或參數(shù)和/或具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的值的存儲(chǔ)器具。
[0071]在另外的實(shí)施例中，該設(shè)備可以具有用于接收的接口和/或用于特定輻射劑量率曲線的規(guī)格值或者具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的規(guī)格值的輸入的輸入器具。規(guī)格值經(jīng)由接口(具體地，從外部)發(fā)送到設(shè)備。也可以被稱為輸入單元或輸入模塊的輸入器具可以是，例如，鍵盤、觸摸面板、用于讀取數(shù)據(jù)的讀取器等。
[0072]在另外的實(shí)施例中，該設(shè)備可以具有用于從規(guī)格值產(chǎn)生特定輻射劑量率曲線或者具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的產(chǎn)生器具。關(guān)于這種設(shè)備的功能概念，也參考在上面的關(guān)于根據(jù)本發(fā)明的方法的描述中提供的解釋，并且，其內(nèi)容通過引用合并在此。[0073]優(yōu)選地，該設(shè)備具有時(shí)間切換器具，該時(shí)間切換器具被設(shè)計(jì)為使得特定輻射劑量率曲線從至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來組成和/或調(diào)整或者可以組成和/或調(diào)整，或者，具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線福射從第一規(guī)格X射線福射和第二規(guī)格X射線福射以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來組成和/或調(diào)整或者可以組成和/或調(diào)整，或者，電子束用第一加速電壓和第二加速電壓以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來被加速或者可以被加速。關(guān)于這種時(shí)間切換器具的功能概念，也參考在上面的關(guān)于根據(jù)本發(fā)明的方法的描述中提供的解釋，并且，其內(nèi)容通過引用合并在此。
[0074]根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備具體地具有用于實(shí)現(xiàn)上面描述的根據(jù)本發(fā)明的方法的模塊，從而在其公開內(nèi)容方面針對方法進(jìn)行的解釋和陳述也適用于設(shè)備，反之亦然。
[0075]現(xiàn)在將參照附圖針對示例性實(shí)施例來更加詳細(xì)地解釋本發(fā)明，在附圖中:
[0076]圖1示出通過照射裝置照射基體的示意圖；
[0077]圖2示出用于產(chǎn)生X射線輻射的設(shè)備的示圖；
[0078]圖3示出用于照射基體的示例性輻射劑量率曲線的示圖；
[0079]圖4示出示例性的水中深度劑量率曲線的示圖；
[0080]圖5示出定義的輻射劑量率曲線和目標(biāo)輻射劑量率曲線之間的偏差的示圖；以及
[0081]圖6示出用于照射基體的流程圖。
[0082]在圖1中，示出通過照射裝置照射基體I的示意圖。一般地，在照射期間，輻射源3被置于要照射的基體I的表面上，該輻射源3可以例如被引入或放置在施用器4中。照射的目的可能是，照射可能是腫瘤的基體2內(nèi)的位置2。
[0083]用戶，例如醫(yī)生，確定或設(shè)置用于照射的輻射劑量，該輻射劑量要發(fā)射到或者到達(dá)要照射的位置2或者被該位置2吸收。例如，這可以通過用戶設(shè)置要施加在要照射的位置2的特定點(diǎn)(例如，點(diǎn)C)處的輻射劑量來執(zhí)行，該輻射劑量也可以被稱為輻射劑量值。
[0084]然后，該輻射劑量按照從輻射源3發(fā)出的輻射劑量率和照射時(shí)間來施加。在點(diǎn)C處所需的輻射劑量(是指所需的輻射劑量值)按照在點(diǎn)C處存在的輻射劑量率值和照射時(shí)間來施加。但是，因?yàn)檩椛湓?在(由箭頭5所示的)所有的空間方向上發(fā)射，所以在基體I內(nèi)的點(diǎn)A和B處也施加輻射劑量率值。
[0085]圖1中的點(diǎn)A直接在基體I的表面處，這是指在輻射源3所放置的位置處。點(diǎn)C在基體I內(nèi)，或者，更具體地，點(diǎn)C確切地在要照射的位置2處，這是指離基體I的表面一距離。點(diǎn)B也在基體I內(nèi)，但是，沒有點(diǎn)C那樣深。點(diǎn)B在點(diǎn)A和點(diǎn)C之間。
[0086]因?yàn)閺妮椛湓?開始的要照射的位置2的照射期間的輻射在所有的空間方向上傳播，所以在照射期間在點(diǎn)A、B和C處存在不同的輻射劑量率值。由于輻射劑量率由輻射源3提供，所以這些隨著離輻射源3的等中心的距離增加而減小地發(fā)生。
[0087]因?yàn)檩椛鋭┝繉?yīng)于輻射劑量率或者輻射劑量率值和照射時(shí)間之積，所以由于照射時(shí)間而導(dǎo)致在點(diǎn)A、B和C處發(fā)生特定輻射劑量。
[0088]在點(diǎn)A處存在的輻射劑量率值大于或高于在點(diǎn)B和C處存在的輻射劑量率值，因此，在點(diǎn)A處存在的輻射劑量大于或高于在點(diǎn)B和C處存在的輻射劑量。在點(diǎn)B處存在的輻射劑量率值和輻射劑量又高于在點(diǎn)C處存在的輻射劑量率值和輻射劑量。
[0089]X射線輻射的產(chǎn)生可以由圖2中示出的設(shè)備30來執(zhí)行。設(shè)備30具體地用于術(shù)中照射的領(lǐng)域。
[0090]設(shè)備30首先具有電子源31。通過電子源31產(chǎn)生電子，具體地，電子作為電子束32被發(fā)射。因此，電子源31具體地用來產(chǎn)生電子束32。此外，設(shè)備具有靶33，其中，例如，靶33可以由金制成。靶33用于由在靶33處開始的箭頭所示的X射線輻射的實(shí)際產(chǎn)生和/或X射線輻射場。靶33在其遠(yuǎn)端處被置于X射線探頭的真空管14中。
[0091]由電子源31產(chǎn)生的電子作為電子束32入射在靶33上。這里，電子束32的電子變慢，由此，產(chǎn)生從靶33發(fā)出的具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射。
[0092]此外，設(shè)備30具有計(jì)算器具35。通過該計(jì)算器具35，影響X射線輻射成為可能。
[0093]此外，規(guī)定，設(shè)備30具有用于使電子束32偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)器具36。例如，偏轉(zhuǎn)器具36可以是磁偏轉(zhuǎn)線圈。通過偏轉(zhuǎn)器具36,可以產(chǎn)生磁場，以便使向著祀33加速的電子束32的電子偏轉(zhuǎn)，如電子束的虛線所示。這樣允許設(shè)置電子入射在靶33上的位置。由此，具體地，可以調(diào)整產(chǎn)生和發(fā)射的X射線輻射的空間輻射分布。通過偏轉(zhuǎn)器具36，電子束32可以在靶33之上和其上移動(dòng)。
[0094]另外，設(shè)備30具有用于通過施加的加速電壓(具體地，高電壓)使電子加速的加速器具37。計(jì)算器具35被設(shè)計(jì)用于致動(dòng)加速器具37，如圖2中對應(yīng)的連接線所示。這意味著，計(jì)算器具35被設(shè)計(jì)用來以這樣的方式來處理加速器具37，經(jīng)由加速器具37，提供期望的加速電壓。經(jīng)由計(jì)算器具35致動(dòng)加速器具37是這樣實(shí)現(xiàn)的，提供致動(dòng)加速器具37，用于使入射在靶33上的電子束32加速的加速電壓改變。通過計(jì)算器具35，可以規(guī)定，在照射期間，加速電壓在至少兩個(gè)不同的加速電壓值之間切換。為了此目的，經(jīng)由計(jì)算器具35，對應(yīng)地致動(dòng)(例如，控制)加速器具37。
[0095]如結(jié)合其它附圖描述的，計(jì)算器具35可以用來從預(yù)定的輻射劑量率曲線確定和/或計(jì)算特定輻射劑量率曲線或者從具有定義的輻射特性(具體地，具有預(yù)定的輻射劑量率曲線)確定和/或計(jì)算具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射。
[0096]產(chǎn)生或計(jì)算出的輻射劑量率曲線或參數(shù)和/或具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射的值可以被存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器具38中。存儲(chǔ)器具38可以與計(jì)算器具35 —起分配或者被包括在計(jì)算器具35中。
[0097]此外，計(jì)算器具35可以具有接口 39和輸入器具40，以便能夠接收或輸入用于實(shí)現(xiàn)本發(fā)明必要的所需的規(guī)格值。
[0098]在產(chǎn)生器具41中，可以從規(guī)格值產(chǎn)生特定輻射劑量率曲線，或者具有特定輻射特性(具體地，具有特定輻射劑量率曲線)的X射線輻射，該產(chǎn)生器具41優(yōu)選地是計(jì)算器具35的一部分。
[0099]通過時(shí)間切換器具42，可以按照連續(xù)的方式或改變的方式來執(zhí)行基于產(chǎn)生和/或提供的結(jié)果的照射，該時(shí)間切換器具42優(yōu)選地是計(jì)算器具35的一部分。
[0100]設(shè)備30用來產(chǎn)生和/或提供X射線照射場50、51、52，從而可以照射基體1，例如，組織(未示出)。
[0101]想要根據(jù)圖1照射基體I (其中，精確地說，要照射基體的被照射的位置2)的用戶預(yù)先確定在照射時(shí)間之后在點(diǎn)A、B和C處施加的輻射劑量。[0102]例如，可以通過圖3中示出的示圖來進(jìn)行這種確定。在圖3中，示出具有用于照射基體I的示例性輻射劑量率曲線的示圖。在y軸上給出以物理單位戈瑞[Gy]的輻射劑量，在X軸上給出以物理單位毫米[mm]的離等中心的距離。
[0103]如從圖3中的示圖可以得到，在點(diǎn)A處，在考慮圖1的情況中將施加10戈瑞的輻射劑量。在點(diǎn)B處，因此，在點(diǎn)B處施加7戈瑞的輻射劑量。在點(diǎn)B處施加3.5戈瑞的輻射劑量。例如B和C的不同點(diǎn)的輻射劑量可以由箭頭7和8確定。
[0104]在圖3中繪出輻射劑量與離等中心的距離的關(guān)系圖，如從圖3中可以進(jìn)一步得到的，根據(jù)圖1的點(diǎn)A在基體I的表面處，這是指直接在輻射源3處。點(diǎn)B對應(yīng)于基體I內(nèi)的10毫米深度處的點(diǎn)A和C之間的圖1。與根據(jù)圖1要照射的位置2相對應(yīng)的點(diǎn)C在基體I的表面下方的30毫米的深度中，這是指在基體I內(nèi)。
[0105]由于用于點(diǎn)A、B和C的固定的輻射劑量，所以可以產(chǎn)生輻射劑量曲線6。通過該輻射劑量曲線6，例如，還可以確定用于另外的點(diǎn)(未示出)的輻射劑量。
[0106]對于不同的輻射劑量和對于不同的輻射劑量率，可以執(zhí)行通過連接不同的點(diǎn)來產(chǎn)生曲線。在第一種情況中，形成輻射劑量曲線。在第二種情況中，形成輻射劑量率曲線，在圖4中示出三條曲線。
[0107]在圖4中，示出示例性的水中深度劑量率曲線10、11、12的示圖，在下文中，水中深度劑量率曲線也被稱為輻射劑量率曲線。如針對圖3已經(jīng)描述的，水中深度劑量率曲線由幾個(gè)距離依賴輻射劑量率值組成。
[0108]在圖4中，示出水中輻射劑量率的值或者輻射劑量率曲線與離輻射源3的等中心的距離之間的關(guān)系。
[0109]水中輻射劑量率是必須在照射時(shí)間內(nèi)在基體上施加的輻射劑量率，以便產(chǎn)生或施加定義的輻射劑量。輻射時(shí)間也可以被稱為照射時(shí)間幀、持續(xù)時(shí)間，或者治療時(shí)間、時(shí)間幀或持續(xù)時(shí)間。簡單地說，輻射劑量可以由輻射劑量率和照射時(shí)間之積來產(chǎn)生。
[0110]水中輻射劑量率和/或深度劑量率的物理單位以戈瑞每分鐘[Gy/min]來給出。在圖4中示出的水中深度劑量率在y軸上給出。通常以對數(shù)的方式執(zhí)行繪圖。在圖4的示圖的X軸上，示出到等中心的距離。該距離以物理單位毫米[mm]給出。
[0111]從輻射源3發(fā)出的輻射是緊鄰在發(fā)射的位置之后最高的，例如，其可以在圖4中由如下事實(shí)得到，在離等中心3的小距離處的輻射劑量率曲線具有最高的值。
[0112]在圖4中，示出共三條曲線10、11、12。這三條曲線10、11、12是特定輻射劑量率曲線10和兩個(gè)預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12。預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12的路線是通過在輻射源3處相應(yīng)地施加加速電壓而產(chǎn)生的。
[0113]通過在輻射源3處施加加速電壓，從輻射源3產(chǎn)生并發(fā)射在緊鄰輻射源3的附近比在遠(yuǎn)離輻射源3的距離處高的X射線輻射。例如，可以從圖2得到X射線輻射的產(chǎn)生。簡單地說，可以說，輻射的強(qiáng)度或輻射隨著離輻射源3或等中心的距離增加而減小。該行為也在圖4中示出的三條輻射劑量率曲線10、11、12中示出。
[0114]如果用定義的輻射照射基體，例如組織，則輻射所到達(dá)的位置是至關(guān)重要的。情況是這樣，因?yàn)槿鐖D1所示的輻射源3通?？梢圆恢苯右龑?dǎo)到要照射的位置2或者到該位置中，從而在要照射的位置2和輻射源3之間存在一距離。
[0115]如圖1和圖3所示，對于照射在離基體I的表面30毫米的點(diǎn)C處的要照射的位置2，施加3.5戈瑞的輻射劑量。通過使用圖4，通常可以在考慮預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12的情況下確定哪些條件(這意味著，輻射劑量率曲線值和照射時(shí)間)對于此而言是必要的。
[0116]如上面已經(jīng)描述的，考慮預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12是通過施加加速電壓來產(chǎn)生的。這意味著，特定加速電壓導(dǎo)致特征輻射劑量率曲線11、12。相反地，不同的加速電壓導(dǎo)致不同的輻射劑量率曲線11、12。例如，圖4中示出的預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12可以通過施加兩種不同的加速電壓來產(chǎn)生。
[0117]例如，可以產(chǎn)生X射線輻射，其中，用五十千伏的加速電壓使電子束加速。例如，由于該加速電壓，可以形成輻射劑量率曲線11。通過施加例如三十千伏的AC，例如，可以形成輻射劑量率曲線12。
[0118]如果作為示例在圖1的在三十毫米深度處的點(diǎn)C處要施加3.5戈瑞的所需的輻射劑量，則這可以例如通過使用預(yù)定的輻射劑量率曲線11或者預(yù)定的輻射劑量率曲線12來實(shí)現(xiàn)。
[0119]如果例如可以施加兩種加速電壓，則可以實(shí)現(xiàn)輻射劑量率曲線11和12。
[0120]如從圖4中可以得到，通過在離基體I的表面的三十毫米深度(點(diǎn)C)中使用預(yù)定的輻射劑量率曲線11或12，使用0.2戈瑞每分鐘(預(yù)定的輻射劑量率曲線11)或者0.05戈瑞每分鐘(預(yù)定的輻射劑量率曲線12)的輻射劑量率值，這從箭頭21和22顯然可知。
[0121]為了在點(diǎn)C處施加3.5戈瑞的所需的輻射劑量，在使用輻射劑量率曲線11時(shí)，照射將持續(xù)17.5分鐘，而在使用輻射劑量率曲線12時(shí)，照射將持續(xù)70分鐘。
[0122]如可以由圖3得到，由用戶設(shè)置在點(diǎn)A和點(diǎn)B處也施加定義的輻射劑量。因此，在所有的三個(gè)點(diǎn)(A、B、C)處施加定義的輻射劑量，這對于預(yù)定的輻射劑量率曲線11或預(yù)定的輻射劑量率曲線12自身而言是不可能的。如果例如通過使用輻射劑量率曲線11在點(diǎn)A、B、C處施加三種輻射劑量，則可能的是，在對于點(diǎn)C必需17.5分鐘的照射時(shí)間的情況中，在點(diǎn)A處施加多于10戈瑞的輻射劑量，在點(diǎn)B處施加多于7戈瑞的輻射劑量。但是，這種結(jié)果對于用戶來說是不可接受的。這同樣可以適用于輻射劑量率曲線12。
[0123]但是，還可能的是，可以通過特定輻射劑量率曲線10來施加用于點(diǎn)A、B、C的所需的輻射劑量。此外，可能的是，通過40kV的加速電壓來實(shí)現(xiàn)輻射劑量率曲線10，但是，對此，迄今為止沒有測量值可用。在這種條件下，使用根據(jù)本發(fā)明的方法的照射是可能的。
[0124]如已經(jīng)解釋的，所需的輻射劑量可以以特定輻射劑量率曲線10的形式通過輻射劑量率值被實(shí)現(xiàn)為輻射劑量曲線。這里，總照射時(shí)間可以，例如，被計(jì)算為10分鐘。這意味著，在使用通過施加40kv的加速電壓實(shí)現(xiàn)的輻射照射基體的過程中，在所有的三個(gè)點(diǎn)A、B、C中或處，在10分鐘的照射時(shí)間之后，施加所需的輻射劑量。
[0125]如上所述，這可以通過兩種或更多種的預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12的按比例使用來實(shí)現(xiàn)。在圖4中示出的示例中，適合的(是指特定的)輻射劑量率曲線10位于在預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12之間。
[0126]當(dāng)使用根據(jù)本發(fā)明的方法時(shí)，特定輻射劑量率曲線10是通過預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12的比例組成來產(chǎn)生的。例如，這通過合適的控制算法來實(shí)現(xiàn)。
[0127]例如，可以通過針對離等中心的距離或幾個(gè)距離來確定定義的輻射劑量率值來執(zhí)行該調(diào)整。這可以由用戶直接設(shè)置或者通過計(jì)算程序來設(shè)置。例如，這些確定的輻射劑量率值導(dǎo)致特定輻射劑量率曲線10。[0128]在這種情況中，所需的特定輻射劑量率曲線10可以通過如下方式由預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12來形成:針對離輻射源3的等中心的對應(yīng)距離(是指相同的距離)，按比例使用可用的預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12的輻射劑量率值。
[0129]為了更好地理解，現(xiàn)在將通過舉例的方式再次對此進(jìn)行描述。在離基體I的表面的下方的30毫米的點(diǎn)C處，施加3.5戈瑞的輻射劑量。例如，這可以通過用可用的兩條輻射劑量率曲線11、12 (這是指預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12)調(diào)整照射時(shí)間來實(shí)現(xiàn)。但是，如果在離基體I的表面的10毫米深度的點(diǎn)B處施加7戈瑞的輻射劑量，則在使用用于點(diǎn)C的照射時(shí)間時(shí)不能實(shí)現(xiàn)在點(diǎn)B處所需的輻射劑量。
[0130]但是，可能的是，通過預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12的比例組合，可以在點(diǎn)B和C處施加所需的輻射劑量?？紤]例如可以被設(shè)置為10分鐘的照射時(shí)間，例如，可以通過使用預(yù)定(第一)輻射劑量率曲線11中的0.69部分或分?jǐn)?shù)和預(yù)定(第二)輻射劑量率曲線12中的0.31部分或分?jǐn)?shù)來在點(diǎn)B和C處施加所需的輻射劑量。如上面已經(jīng)描述的，這些部分的確定可以通過控制算法來執(zhí)行。在這種情況中，規(guī)定以對應(yīng)的方式來切換加速電壓。為了實(shí)現(xiàn)比例調(diào)整，可以對輻射源3交替地施加不同的加速電壓是必要的。這里，可以自由地選擇改變或切換。如已經(jīng)解釋的，例如，可以通過計(jì)算機(jī)程序或模擬程序來進(jìn)行這種調(diào)整。
[0131 ] 因?yàn)椴荒芨淖冊邳c(diǎn)B和C處的輻射劑量率值或者預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12，所以當(dāng)使用預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12時(shí)，確定的部分對所得到的照射時(shí)間有影響。關(guān)于上述的其中照射時(shí)間被假定為10分鐘的示例，當(dāng)使用預(yù)定的(第一)輻射劑量率曲線11時(shí)將會(huì)導(dǎo)致0.69乘以10分鐘的照射時(shí)間，當(dāng)使用預(yù)定的(第二)輻射劑量率曲線12時(shí)將會(huì)導(dǎo)致0.31乘以10分鐘的照射時(shí)間。
[0132]在圖5中，示出了這樣的示圖，其中，繪出了通過兩個(gè)預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12按比例組成的特定輻射劑量率曲線10與目標(biāo)輻射劑量率曲線之間的偏差。
[0133]在示圖的y軸上以百分率給出特定輻射劑量率值與目標(biāo)輻射劑量率值之間發(fā)生的偏差。在示圖的X軸上，又給出離等中心(是指輻射源)的距離。
[0134]如從圖5中的示圖可以得到，通過兩條或更多條預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12來產(chǎn)生特定輻射劑量率曲線10會(huì)發(fā)生誤差，因?yàn)槟繕?biāo)輻射劑量率曲線不是由至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12的比例組成完美近似的。這由于如下事實(shí)導(dǎo)致的:通過調(diào)整特定輻射劑量率曲線10，只執(zhí)行對目標(biāo)輻射劑量率曲線的近似。盡可能精確地進(jìn)行對特定輻射劑量率曲線10的計(jì)算，從而使誤差盡可能地小，這意味著可能很好地反映現(xiàn)實(shí)。
[0135]如從圖5中的示圖還可以得到，由兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12按比例組成的特定輻射劑量率曲線10和目標(biāo)輻射劑量率曲線(是指測得或計(jì)算出的輻射劑量率曲線)的調(diào)整之間的誤差在百分之幾的范圍中，在當(dāng)前的情況中，在百分之一到負(fù)百分之五的范圍中。該誤差如此低以至于即使發(fā)生誤差也可以充分精確地考慮調(diào)整。這由如下事實(shí)支持:即使設(shè)計(jì)相同，所有的輻射源3也并不全部產(chǎn)生相同的輻射劑量率曲線11、12。
[0136]在圖6中，示出用于照射基體I的兩種不同的方法。
[0137]在以流程圖給出的圖6中示出的方法總體參照圖1、3和4中的示例。
[0138]為了通過輻射源3照射基體1，用戶針對離等中心的不同距離確定不同的所需的輻射劑量(步驟100)，或者，他們設(shè)置這些輻射劑量。例如，這在圖3中示出。
[0139]在進(jìn)一步的步驟101中，基于所需的輻射劑量來確定所需的輻射劑量曲線。[0140]通過對基體I的已知的照射，通常，只有一個(gè)輻射劑量率曲線11或12(是指，只有一個(gè)預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12)是有用的。如果兩個(gè)預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12可用，則用戶從預(yù)定的輻射劑量率曲線選擇或選定最合適的輻射劑量率曲線11、12 (DDC)(步驟200 )?；谶x定的預(yù)定的輻射劑量率曲線11或12，用戶確定所需的照射時(shí)間(步驟201)。然后，進(jìn)行對基體I的照射(步驟400)。
[0141]通過該方法，可能發(fā)生的是，不能實(shí)現(xiàn)作為輻射劑量曲線的用戶期望和指定的輻射劑量，從而不能如期望的那樣照射基體I。
[0142]通過根據(jù)本發(fā)明的方法，可以通過兩條或更多條預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12來產(chǎn)生任何特定輻射劑量率曲線10，也指隨機(jī)的輻射劑量曲線。
[0143]在開始照射時(shí)，通過根據(jù)本發(fā)明的方法，與上述方法相對應(yīng)地進(jìn)行步驟100和101。
[0144]但是，在確定輻射劑量曲線(步驟101)之后，不選擇一個(gè)預(yù)定的輻射劑量率曲線
11、12，而是產(chǎn)生最合適的輻射劑量率曲線作為目標(biāo)輻射劑量率曲線(步驟300)。
[0145]但是，如果目標(biāo)輻射劑量率曲線不能由輻射源3產(chǎn)生，或者，如果不對該目標(biāo)輻射劑量率曲線進(jìn)行調(diào)查，則在步驟301中，執(zhí)行通過從預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12按比例組成特定輻射劑量率曲線10的對目標(biāo)輻射劑量率曲線的近似。
[0146]在進(jìn)一步的過程(步驟302)中，確定用于從預(yù)定的輻射劑量率曲線11、12的按比例組成的所需的照射時(shí)間。
[0147]與另一種方法一樣，在步驟302之后進(jìn)行對基體I的照射(步驟400)。
[0148]附圖標(biāo)記
[0149]A 點(diǎn)
[0150]B 點(diǎn)
[0151]C 點(diǎn)
[0152]I 基體(組織)
[0153]2 要照射的位置(腫瘤)
[0154]3 輻射源(等中心)
[0155]4 施用器
[0156]5 輻射
[0157]6 輻射劑量曲線
[0158]7 確定點(diǎn)B的輻射劑量
[0159]8 確定點(diǎn)C的輻射劑量
[0160]10確定的輻射劑量率曲線
[0161]11預(yù)定的輻射劑量率曲線(第一)
[0162]12預(yù)定的輻射劑量率曲線(第二)
[0163]21確定箭頭
[0164]22確定箭頭
[0165]30用于產(chǎn)生X射線輻射的設(shè)備
[0166]31電子源
[0167]32電子束[0168]33靶
[0169]34X射線探頭的管
[0170]35計(jì)算裝置
[0171]36偏轉(zhuǎn)器具
[0172]37加速器具
[0173]38存儲(chǔ)器具
[0174]39接口
[0175]40輸入器具
[0176]41產(chǎn)生器具
[0177]42時(shí)間切換器具
[0178]100流程圖步驟
[0179]101流程圖步驟
[0180]200流程圖步 驟
[0181]201流程圖步驟
[0182]300流程圖步驟
[0183]301流程圖步驟
[0184]302流程圖步驟
[0185]400流程圖步驟
【權(quán)利要求】
1.一種用于產(chǎn)生和/或提供用于照射基體的X射線輻射的特定輻射劑量率曲線的方法，其特征在于，通過下述方式來產(chǎn)生和/或提供所述特定輻射劑量率曲線:選擇與要產(chǎn)生和/或提供的所述特定輻射劑量率曲線不同的至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線；以及從所述至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線按比例組成和/或調(diào)整所述特定輻射劑量率曲線。
2.一種用于產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性的X射線輻射的方法，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線，其特征在于，通過從具有定義的第一輻射特性的第一規(guī)格X射線輻射和具有定義的第二輻射特性的第二規(guī)格X射線輻射按比例組成和/或調(diào)整具有所述特定輻射特性的X射線輻射來產(chǎn)生和/或提供所述X射線輻射，所述X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線，所述第二規(guī)格X射線輻射具體地具有預(yù)定的第二輻射劑量率曲線，其中，所述第二規(guī)格X射線輻射不同于所述第一規(guī)格X射線輻射。
3.一種用于產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性的X射線輻射的方法，具體地是根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，通過電子源來產(chǎn)生電子束，其中，電子束通過加速電壓被向著靶加速引導(dǎo)，并且其中，X射線輻射由入射在靶上的電子束的電子產(chǎn)生，其特征在于，通過用第一加速電壓和用第二加速電壓按比例交替加速電子束，從具有與第一加速電壓相關(guān)聯(lián)的定義的第一輻射特性的第一規(guī)格X射線輻射和具有與第二加速電壓相關(guān)聯(lián)的定義的第二輻射特性的第二規(guī)格X射線輻射按比例組成和/或調(diào)整具有特定輻射特性的X射線輻射，來產(chǎn)生和/或提供X射線輻射，其中，第二規(guī)格X射線輻射不同于第一規(guī)格X射線輻射。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，特定輻射劑量率曲線是從預(yù)定的輻射劑量率曲線確定和/或計(jì)算的，或者，具有特定輻射特性的X射線輻射是從具有定義的輻射特性的規(guī)格X射線輻射確定和/或計(jì)算的，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線，該規(guī)格X射線輻射具體地具有預(yù)定的輻射劑量率曲線。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，特定輻射劑量率曲線是從特定輻射劑量率曲線的規(guī)格值確定和/或計(jì)算的，或者，具有特定輻射特性的X射線輻射，具體地是具有特定輻射劑量率曲線的X射線輻射，是從具有特定輻射特性的X射線輻射，具體地是具有特定輻射劑量率曲線的X射線輻射，的規(guī)格值確定和/或計(jì)算的。`
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在存儲(chǔ)器具中存儲(chǔ)所產(chǎn)生和/或提供的輻射劑量率曲線或參數(shù)和/或所產(chǎn)生和/或提供的具有特定輻射特性的X射線輻射的值，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，特定輻射劑量率曲線是從至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來組成和/或調(diào)整的，或者，具有特定輻射特性的X射線輻射是從第一規(guī)格X射線輻射和第二規(guī)格X射線輻射以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來組成和/或調(diào)整的，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線，或者，電子束是用第一加速電壓和第二加速電壓以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來被加速的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，特定輻射劑量率曲線通過線性組合從所述至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線組合和/或調(diào)整，或者，具有特定輻射特性的X射線輻射通過線性組合從第一規(guī)格X射線輻射和第二規(guī)格X射線輻射組成和/或調(diào)整，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線。
9.一種用于產(chǎn)生和/或提供用于照射基體(1)的X射線輻射的特定輻射劑量率曲線(10)的設(shè)備(30)，其特征在于，該設(shè)備(30)具有用于選擇與要產(chǎn)生和/或提供的特定輻射劑量率曲線(10)不同的至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線(11，12)的選擇器具，并且，該設(shè)備(30)具有用于從所述至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線(11，12)按比例組成和/或調(diào)整所述特定輻射劑量率曲線(10)的器具。
10.一種用于產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性的X射線輻射的設(shè)備(30)，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線(10)，其特征在于，該設(shè)備(30)具有用于產(chǎn)生和/或提供具有定義的第一輻射特性的第一規(guī)格X射線輻射和具有定義的第二輻射特性的第二規(guī)格X射線輻射的器具，第一規(guī)格X射線輻射具體地具有指定的第一輻射劑量率曲線(11)，第二規(guī)格X射線輻射具體地具有預(yù)定的第二輻射劑量率曲線(12)，其中，第二規(guī)格X射線輻射不同于第一規(guī)格X射線輻射，并且，該設(shè)備(30)具有用于從第一規(guī)格X射線輻射和第二規(guī)格X射線輻射按比例組成和/或調(diào)整具有特定輻射特性的X射線輻射的器具，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線(10 )。
11.一種用于產(chǎn)生和/或提供具有特定輻射特性的X射線輻射的設(shè)備(30)，具體地是根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于:用于產(chǎn)生電子束(32)的電子源(31);用于通過來自入射在靶(33)上的電子束(32)的電子產(chǎn)生X射線輻射的靶(33);用于借助于施加的加速電壓使電子束(32)的電子加速的加速器具(37);用于產(chǎn)生和/或提供具有與第一加速電壓相關(guān)聯(lián)的定義的第一輻射特性的第一規(guī)格X射線輻射和具有與第二加速電壓相關(guān)聯(lián)的定義的第二輻射特性的第二規(guī)格X射線輻射的器具，第一規(guī)格X射線輻射具體地具有預(yù)定的第一輻射劑量率曲線(11 )，第二規(guī)格X射線輻射具體地具有預(yù)定的第二輻射劑量率曲線(12)，第二規(guī)格X射線輻射不同于第一規(guī)格X射線輻射；以及用于從第一規(guī)格X射線輻射和第二規(guī)格X射線輻射按比例組成和/或調(diào)整具有特定輻射特性的X射線的器具，該X射線具體地具有特定輻射劑量率曲線(10)，其中，該器具被設(shè)計(jì)用于影響加速器具(37)，從而使電子束(32)按比例交替地用第一加速電壓和第二加速電壓被加速或者能夠被加速。
12.根據(jù)權(quán)利要求9至11中 的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備(30)具有用于從預(yù)定的輻射劑量率曲線確定和/或計(jì)算特定輻射劑量率曲線(10)或者用于從具有定義的輻射特性的規(guī)格X射線輻射確定和/或計(jì)算具有特定輻射特性的X射線輻射的計(jì)算器具(35)，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線(10)，所述規(guī)格X射線輻射具體地具有定義的輻射劑量率曲線(U，12)，并且/或者，該設(shè)備(30)具有用于存儲(chǔ)特定輻射劑量率曲線(10)或參數(shù)和/或具有特定輻射特性的X射線輻射的值的存儲(chǔ)器具(38)，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線(10 )。
13.根據(jù)權(quán)利要求9至12中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備(30)具有用于接收的接口(39)和/或用于輸入特定輻射劑量率曲線(10)的規(guī)格值或者具有特定輻射特性的X射線輻射的規(guī)格值的輸入器具(40)，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率，并且/或者，該設(shè)備(30 )具有用于從規(guī)格值產(chǎn)生特定輻射劑量率曲線(10 )或者具有特定輻射特性的X射線輻射的產(chǎn)生器具(41 )，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線(10)。
14.根據(jù)權(quán)利要求9至11中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備(30)具有時(shí)間切換器具(42)，該時(shí)間切換器具(42)被設(shè)計(jì)為使得特定輻射劑量率曲線(10)從至少兩條預(yù)定的輻射劑量率曲線(11，12)以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來被組成和/或調(diào)整或者能夠被組成和/或調(diào)整，或者，具有特定輻射特性的X射線輻射從第一規(guī)格X射線輻射和第二規(guī)格X射線輻射以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來被組成和/或調(diào)整或者能夠被組成和/或調(diào)整，該X射線輻射具體地具有特定輻射劑量率曲線(10)，或者，電子束(32)用第一加速電壓和第二加速電壓以時(shí)間變化的方式或者以在時(shí)間上連續(xù)的方式來被加速或者能夠被加速。
15.根據(jù)權(quán)利要求9至14中的任意一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備具有用于實(shí)現(xiàn)根據(jù)權(quán)利要求1至8中的一項(xiàng)所述的方法的模塊。
【文檔編號】H05G1/58GK103703869SQ201280036038
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2012年8月14日 優(yōu)先權(quán)日:2011年8月16日
【發(fā)明者】F·維岡德 申請人:卡爾蔡斯醫(yī)藥技術(shù)股份公司