專利名稱：用于處理平面處理物的方法、處理站和設(shè)備的制作方法
用于處理平面處理物的方法、處理站和設(shè)備本發(fā)明涉及用于處理平面處理物的方法、處理站和設(shè)備。尤其是，本發(fā)明涉及這樣的方法、處理站和設(shè)備，其允許處理具有敏感表面的處理物。本發(fā)明也涉及這樣的方法、處理站和設(shè)備，其中可以減小在待處理的處理物有用區(qū)與堅固元件之間的接觸。在加工平面處理物譬如電路板工業(yè)中的電路板時，處理物的處理通常在濕化學工藝線中進行。為了去除處理液譬如化學試劑或水，可以使用所謂的擠壓輥。這樣的輥例如可以被使用以便在處理站中進行浸漬處理的處理液累積，如其在DE 43 37 988A1中描述的那樣。為了改進在基板表面上的物質(zhì)交換可以使用噴嘴，以便將流體入流到處理物的表面。

圖18是處理站200的示意圖，其中處理液的液體水平高于處理物203的輸送平面，使得處理物203可以被浸漬地輸送。處理物203在水平的輸送方向204上輸送通過處理站。為了輸送處理物設(shè)置有輥對211-216，其與處理物203的向上指向的和向下指向的表面靠置，以便輸送處理物。為了避免處理液的流出，設(shè)置有內(nèi)部容器201，在該內(nèi)部容器中處理液以(未示出的)高水平蓄積。內(nèi)部容器201被外部容器202包圍，使得外部容器202 收集從內(nèi)部容器201中溢流的處理液。從在外部容器202中收集的在外部容器中具有水平 209的處理液208中，借助泵210將處理液泵送回內(nèi)部容器201。處理液可以通過流入噴嘴 206,207或者另外的處理機構(gòu)被回送到內(nèi)部容器201中。為了在內(nèi)部容器201中蓄積處理液，在內(nèi)部容器201的流入?yún)^(qū)域和流出區(qū)域中使用所謂的擠壓輥213、215的對。擠壓輥213、215的對例如可以具有圓柱形外殼面。在該對 213的擠壓輥213a、21!3b和輥對215的擠壓輥靠置在處理物203上時，處理液能夠通過其從內(nèi)部容器201流出的自由橫截面受限。通過相應調(diào)節(jié)泵210的運送率可以調(diào)節(jié)在內(nèi)部容器 201中的處理液的所期望的水平。附加的輥對如輥對211、212、214和216在處理站的流入?yún)^(qū)域和流出區(qū)域中同樣可以用作擠壓輥。如果處理物203具有一個或多個敏感表面，則在擠壓輥對213、215與處理物203 之間的直接接觸會導致處理物203的表面的損傷，其中在傳統(tǒng)擠壓輥的情況下在處理物 203的整個寬度上即在橫向于輸送方向204的整個伸展上存在接觸。對處理物203的表面的損傷例如會通過面擠壓或者粘附到擠壓輥213、215的表面上的顆粒和表面不平坦性引起。此外，在入流噴嘴206、207的區(qū)域中會引起處理物203的不希望的偏向，例如由于在處理站中的流動關(guān)系引起。偏向可以引起處理物203與處理站的其他元件接觸。本發(fā)明所基于的任務是說明一種用于處理平面處理物的方法、處理站和設(shè)備，其中可以降低損傷處理物的敏感表面的危險。本發(fā)明基于的任務也在于說明一種用于制造電路板的方法，其中可以降低對電路板的敏感表面區(qū)域的損傷的危險。根據(jù)本發(fā)明，該任務通過如在獨立權(quán)利要求中所說明的用于處理平面處理物的方法、處理站和設(shè)備。從屬權(quán)利要求限定了本發(fā)明的優(yōu)選的和有利的實施形式。根據(jù)一個方面說明了一種用于處理平面處理物的方法，其中該處理物在用于對處理物以電解或濕化學方式進行處理的設(shè)備中被輸送。在該設(shè)備的處理站中處理物暴露于處理液，處理液覆蓋處理物。在處理站中，帶有輥表面的輥定位為使得輥表面至少與處理物的有用區(qū)(該有用區(qū)連續(xù)地在處理物的邊緣區(qū)域之間延伸)間隔使得在處理物的有用區(qū)與輥表面之間留有間隙。輥表面至少部分設(shè)置在處理液中。輥以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動使得在間隙上引起在輥表面與處理物的表面之間的相對速度。對處理物的表面的損傷的危險在該方法中可以減小，因為設(shè)置有在輥與處理物的有用區(qū)之間延伸的間隙。在一個擴展方案中，輥與整個處理物間隔。通過在間隙的相反的側(cè)上的相對速度可以促進處理物的表面上的物質(zhì)交換和/或減小處理液通過間隙流出。在輥表面與處理物的有用區(qū)之間留有的間隙可以通過設(shè)備的幾何形狀來預先給定或尤其是在處理物具有低固有硬度時由力平衡形成。輥表面的以間隙高度與處理物的表面間隔的部分可以以如下速度運動，該速度與處理物的輸送速度在方向和/或量值上不同。輥可以驅(qū)動為使得輥表面的形成間隙邊界的部分與處理物的輸送方向相反地運動。由此，可以實現(xiàn)間隙上的相對速度，而輥不必以高轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。輥有利地設(shè)置為使得其旋轉(zhuǎn)軸線平行于處理物的輸送平面。輥于是可以驅(qū)動為使得輥表面的環(huán)周速度的量值不同于處理物的輸送速度的量值，尤其是大于輸送速度的量值。在該情況下，輥表面的以間隙高度與處理物的表面間隔的部分在處理物的輸送方向上運動。借助刮擦裝置可以將處理液從輥去除。該刮擦裝置可以調(diào)整為調(diào)節(jié)從輥去除的處理液量。以此方式可以控制通過輥引起的物質(zhì)交換有多強或多強地減小液體從間隙中流
出ο該刮擦裝置可以設(shè)置為使得其距輥表面具有均等的距離。由此可以實現(xiàn)在軸向上對輥的均勻作用。在刮擦裝置與輥表面之間的距離可以調(diào)節(jié)。例如，刮擦裝置可以構(gòu)建為板條，其平行于輥的軸線延伸并且可以以距輥表面不同的間隔來定位。輥可以作為處理機構(gòu)設(shè)置在處理站中。這允許輥例如代替入流噴嘴而設(shè)置。通過將輥用作處理機構(gòu)可以以較低的結(jié)構(gòu)尺寸實現(xiàn)處理站。相應地，可以實現(xiàn)成本節(jié)約。作用于處理物的力可以被減小?？梢越档湍芰块_銷。也可以實現(xiàn)處理浴的維護。在輥用作處理機構(gòu)時，在輥表面與處理物的有用區(qū)之間的最小間隙高度小于 1mm、尤其是小于0. 7mm、尤其是小于0. 5mm。最小間隙高度可以為至少0. 05mm、尤其是至少0. 07mm、尤其是至少0. 09mm。最小間隙高度也可以大于所述的邊界值，然而典型應小于 10.Omm0輥可以設(shè)置為使得通過在輥表面與處理物的表面之間的相對速度提高在處理物的待處理的表面上的物質(zhì)交換。尤其是，輥可以設(shè)置為使得通過輥的轉(zhuǎn)動形成對表面上的或在處理物的鉆孔中的處理液的作用。在輥的在輸送方向上相反的側(cè)上，處理液可以在輥上累積(anstehen)直至處理站的運行水平。該輥也可以完全設(shè)置在處理站的運行水平以下。這允許將輥用作在處理站的可以與流入?yún)^(qū)域和流出區(qū)域間隔的區(qū)段中的處理機構(gòu)。該輥也可以設(shè)置在處理站的流入?yún)^(qū)域或流出區(qū)域中。例如，該輥可以設(shè)置在處理站的內(nèi)部容器的邊緣的周邊中。輥表面在此情況下形成了用于止回處理液的止回面。處理液通過間隙的流出由于在間隙上的相對運動而會降低。在輥表面用作止回面時，在輥表面與處理物的有用區(qū)之間的最小間隙高度可以小于1mm、尤其是小于0. 7mm、尤其是小于0. 5mm。最小間隙高度可以為至少0. 05mm、尤其是為至少0. 07mm、尤其是為最小0. 09mm。具有另一輥表面的另一輥可以定位為使得在處理物的有用區(qū)與該另一輥表面之間留有另一間隙。該輥和該另一輥可以設(shè)置在處理物的輸送平面的相反的側(cè)上。例如，該輥和該另一輥可以設(shè)置為使得其軸線設(shè)置在輸送方向上相同的位置上。在另外的擴展方案中，該輥和該另一輥的軸線可以在輸送方向上間隔。通過設(shè)置該另一輥可以進一步改進處理物的處理和/或可以進一步降低處理液的流出。該另一輥可以以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動，使得該另一輥表面的形成該另一間隙的邊緣的部分具有朝著輸送方向的速度。該另一輥的環(huán)周速度的量值可以等于輸送速度士20%的量值。由此，可以有利地影響具有低固有硬度的處理物的輸送。該另一輥可以以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動，使得該輥和該另一輥同向轉(zhuǎn)動。根據(jù)另一方面，說明了一種用于對處理物電解或濕化學地進行處理的設(shè)備的對平面處理物進行處理的處理站。該處理站構(gòu)建為使得在運行中處理液覆蓋待處理的處理物。 該處理站包括帶有輥表面的輥，該輥設(shè)置為使得該輥表面至少與處理物的連續(xù)地在處理物的邊緣區(qū)域之間延伸的有用區(qū)間隔使得在輥表面與處理物的有用區(qū)之間留有間隙。此外， 該輥設(shè)置為使得輥表面至少部分地設(shè)置在處理液中。驅(qū)動裝置構(gòu)建為以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動該輥，使得在間隙上得到在輥表面與處理物的表面之間的相對速度。對處理物的表面的損傷的危險在該處理站中可以被降低，因為設(shè)置有在該輥與處理物的有用區(qū)之間延伸的間隙。在一個擴展方案中，該輥可以與整個處理物間隔。通過在間隙的相反的邊上的相對速度可以促進在處理物的表面上的物質(zhì)交換和/或減小處理液通過間隙的流出。該驅(qū)動裝置可以構(gòu)建為以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動輥，使得輥表面的形成間隙邊界的側(cè)與處理物的輸送方向相反地運動。該驅(qū)動裝置可以構(gòu)建為以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動該輥使得輥表面的環(huán)周速度的量值與處理物的輸送速度的量值不同，尤其是大于輸送速度的量值。該輥有利地設(shè)置為使得其旋轉(zhuǎn)軸線平行于處理物的輸送平面。該處理站可以包括刮擦裝置，尤其是可相對于該輥可調(diào)整的刮擦裝置，用于將處理液從輥去除。該輥可以作為處理機構(gòu)設(shè)置在該處理站中。在輥的在輸送方向相反的側(cè)上，處理液在輥上累積直至該處理站的運行水平，或者輥可以完全設(shè)置在該處理站的運行水平以下。該輥可以在設(shè)置在該處理站的流入?yún)^(qū)域或流出區(qū)域中，其中輥表面構(gòu)建為止回面用于止回處理液。該輥例如可以設(shè)置在該處理站的內(nèi)部區(qū)域的邊緣上。該處理站可以包括帶有另一輥表面的另一輥，該另一輥定位為使得在處理物的有用區(qū)與該另一輥表面之間留有另一間隙。該輥和該另一輥可以設(shè)置在該處理物的輸送平面的相反的側(cè)上。該驅(qū)動裝置可以構(gòu)建為以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動該另一輥，使得該另一輥表面的形成該另一間隙的邊緣的部分在輸送方向上轉(zhuǎn)動。該另一輥的環(huán)周速度可以等于輸送速度。該驅(qū)動裝置可以構(gòu)建為以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動該另一輥，使得該另一輥和該輥同向轉(zhuǎn)動。該處理站可以構(gòu)建為使得其構(gòu)建用于執(zhí)行根據(jù)所描述的實施形式之一或?qū)嵤├凰龅姆椒ā４送?，該處理站可以包括多個用于輸送處理物的輸送元件，其例如可以構(gòu)建輸送輥或輸送滾筒。該處理站的改進方案的作用對應于該方法的相應改進方案的作用。根據(jù)另一方面說明了一種用于對平面處理物進行處理的設(shè)備，其包括根據(jù)實施形式或?qū)嵤├龅奶幚碚尽８鶕?jù)另一方面說明了一種用于制造電路板的方法，其中用于制造電路板的材料借助根據(jù)實施形式或者實施例所述的方法來處理。本發(fā)明的實施例允許在用于對處理物以電解或濕化學方式進行處理的設(shè)備中將處理液從處理物去除或擋住或者促進處理物的表面上的物質(zhì)交換。在此，輥表面可以相對于處理物的有用區(qū)間隔地設(shè)置，使得形成間隙以便減小或避免有用區(qū)與堅固元件的直接接觸。本發(fā)明的實施例尤其可以使用在如下設(shè)備中，在該設(shè)備中在水平的輸送平面中或者基本上在水平的輸送平面中輸送具有敏感表面的平面處理物。然而實施例并不限于該應用領(lǐng)域。以下借助優(yōu)選的或有利的實施例參照所附的附圖更為詳細地闡述本發(fā)明。圖1示出了根據(jù)一個實施例的處理站的用于去除或擋住處理液的裝置的示意性前視圖。圖2示出了圖1的裝置的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖3示出了根據(jù)另一實施例的用于去除處理站的處理液的處理站的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖4示出了根據(jù)一個實施例的具有多個用于去除處理液的裝置的處理站的一部分的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖5示出了根據(jù)另一實施例的具有多個用于去除處理液的裝置的處理站的一分部的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖6示出了根據(jù)另一實施例的處理站的用于去除或擋住處理站的處理液的裝置的示意性前視圖。圖7示出了用于去除處理液的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖8示出了根據(jù)一個實施例的在流入?yún)^(qū)域和流出區(qū)域中的帶有用于去除或擋住處理液的處理站的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖9示出了根據(jù)另一實施例的處理站的流出區(qū)域的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖10示出了根據(jù)另一實施例的處理站的流出區(qū)域的示意性、部分剖切的側(cè)視圖。圖11-17分別示出了根據(jù)另外的實施例的處理站的構(gòu)建有輥的處理機構(gòu)的示意性、部分剖切的側(cè)視圖。圖18是帶有擠壓輥對的處理站的示意性、部分剖切的側(cè)視圖。相對于處理物的方向信息或位置信息按慣例相對于輸送方向予以說明。在處理物
8輸送時與輸送方向并行或反平行的方向稱作縱向方向，在輸送平面中的與輸送方向正交的方向稱作處理物的寬度方向。描述了裝置和方法的實施例，其中將處理液從處理物擋住或去除，和/或其中促進了在處理物上的物質(zhì)交換。處理液理解為如下任何液體，處理物在用于以電解或濕化學方式進行處理的設(shè)備中會暴露于該液體，尤其是處理化學試劑、噴灑液如水等等。這些實施例在對處理物進行處理的設(shè)備的背景下予以描述，其中處理物在水平輸送平面中被輸送。如“在輸送平面之上”或“在輸送平面以下”、“上表面”、“下表面”的信息以及對處理液等等的高度或水平的參考相應地相對于垂直方向，只要未予以不同地說明。 在水平輸送平面中的輸送在此尤其可以理解為處理物的輸送，其中處理物的至少三個角部在水平平面中。這并不排除至少處理物的單個區(qū)段或區(qū)域在輸送時在輸送平面之外，例如在具有低固有硬度的處理物的情況下。圖1示出了用于將處理液從處理物10去除的裝置1的示意性前視圖。圖2示出了裝置1的沿著在圖1中用II-II表示的方向的示意性側(cè)視圖。部分剖切的側(cè)視圖的剖切平面是沿著處理物的有用區(qū)在其上被輸送的線來切割的輸送平面的垂直平面。裝置1包括輥2和另一輥3，它們設(shè)置在處理物10的輸送平面的對置的側(cè)上，使得處理物10在輥2和另一輥3之間輸送。該裝置1例如可以作為擠壓輥213或者215的對使用在圖9中的處理站200中。輥2具有止回處理液的構(gòu)建為止回面的輥表面4，其設(shè)置為輥2的外殼面的偏置的區(qū)段。輥2相對于處理物10的輸送路徑定位為使得當處理物10經(jīng)過輥2被輸送時在止回面4與處理物10之間留有間隙8。輥2的外殼面的形成止回面4的區(qū)段可以基本上圓柱形地構(gòu)建。該另一輥3具有用于止回處理液的構(gòu)建為止回面的另一輥表面14，其設(shè)置為輥3 的外殼面的偏置的區(qū)段。該另一輥3相對于處理物10的輸送路徑定位為使得當處理物10 經(jīng)過輥3被輸送時在該另一止回面14與處理物10之間留有間隙18。輥3的外殼面的形成該另一止回面14的區(qū)段可以基本上圓柱形地構(gòu)建。由于有通過輥2和該另一輥3的布置和構(gòu)造形成的間隙8、18，所以處理物10的在處理物10的寬度方向的大部分上延伸的有用區(qū)11不與裝置1的堅固元件觸碰。以此方式可以降低有用區(qū)11中的處理物10的表面損傷的危險。由于止回面4和該另一止回面14的圓柱形，所以間隙8、18具有在處理物10的傳輸方向20上可變的間隙高度或凈高度。間隙8、18的最小間隙高度9、19通過止回面4、14 的如下點來確定，這些點相對于處理物10的與相應的輥2或3對置的表面具有最小距離。即使間隙8、18允許處理液穿過，借助該裝置1也可以將處理液從處理物10去除。 尤其是，該裝置1由于間隙8、18逐漸尖細直至最小間隙高度9、19而會造成壓力損耗，壓力損耗會導致處理液在輥2的兩個在輸送方向20上對置的側(cè)上不同的液體水平。圖2示意性地示出了處理液21，其在輥2的一側(cè)上蓄積直至水平22，并且示出了在處理物10經(jīng)過裝置1之后剩余的處理液23的層，其具有較低的水平M。該裝置1尤其可以構(gòu)建為使得處理液21在輥2、3的一側(cè)上(在圖2中在輥2、3的左側(cè)上)被止回面4 和該另一止回面14蓄積直至水平22，該水平22直接在止回面4上高于間隙8的最小間隙高度9并且高于間隙18的最小間隙高度19，分別從相應的間隙8、18的下邊至具有最小間隙高度的位置來測量。如參照圖3_6、9和10還要更為詳細地闡述的那樣，在處理物10經(jīng)過止回面4、14 之后尚殘留在處理物上的處理液23可以以合適的方式去除，例如通過以流體流入流處理物。裝置1的輥2、3可以不僅構(gòu)建用于將液體從處理物10去除，而且也用于輸送處理物10。為此，輥2可以在其兩個軸向端部上具有提高的邊緣區(qū)段5、6，其在處理物經(jīng)過輥2、 3時與處理物10的邊緣區(qū)域12靠置。提高的邊緣區(qū)段5、6可以轉(zhuǎn)動地驅(qū)動，以便輸送處理物10。為了轉(zhuǎn)動地驅(qū)動邊緣區(qū)段5、6，設(shè)置有軸7，其在使用裝置1時可轉(zhuǎn)動地安置在用于處理物10的處理設(shè)備中。通過邊緣區(qū)段5、6在轉(zhuǎn)動方向25上的轉(zhuǎn)動，處理物10可以被進一步輸送。相應地，輥3可以在其兩個軸向端部上具有提高的邊緣區(qū)段15、16，其在處理物經(jīng)過輥2、3時與處理物10的邊緣區(qū)域12靠置。提高的邊緣區(qū)段15、16可以轉(zhuǎn)動地驅(qū)動以便輸送處理物10。為了轉(zhuǎn)動地驅(qū)動邊緣區(qū)段15、16，設(shè)置有軸17，其在使用裝置1時可轉(zhuǎn)動地安置在用于處理物10的處理設(shè)備中。通過邊緣區(qū)段15、16在轉(zhuǎn)動方向沈上的轉(zhuǎn)動可以進一步輸送處理物10。邊緣區(qū)段5、6和/或邊緣區(qū)段15、16可以與處理物10形成摩擦配合和/或形狀配合，以便輸送處理物。例如，在邊緣區(qū)段5、6上和/或在邊緣區(qū)段15、16上構(gòu)建突出部， 其嚙合到處理物10的對應凹進部中，以便輸送處理物10。在輥2的情況下，提高的邊緣區(qū)段5、6用作輸送區(qū)段，其可以與處理物10耦合用于輸送處理物10。止回面4相對于邊緣區(qū)段5、6偏置。邊緣區(qū)段5、6的提高或相比于止回面4的半徑更大的半徑確定了最小間隙高度9。相應地，在輥3的情況下，提高的邊緣區(qū)段 15、16用作輸送區(qū)段，其可以與處理物10耦合用于輸送處理物10。止回面14相對于邊緣區(qū)段15、16偏置。邊緣區(qū)段15、16的提高或相比于止回面14的半徑更大的半徑確定了最小間隙高度19。邊緣區(qū)段和止回面的半徑可以針對所希望的應用領(lǐng)域合適地選擇。例如，輥2、 3的形成止回面的區(qū)段的半徑可以比輥2、3的用作輸送區(qū)段的邊緣區(qū)段的半徑小了小于 1mm、尤其是小于0. 7mm、尤其是小于0. 5mm。輥2、3的形成止回面的區(qū)段的半徑可以比輥 2、3的用作輸送區(qū)段的邊緣區(qū)段的半徑小了至少0. 05mm、尤其是至少0. 07mm、尤其是至少 0. 09mmo附加地，輥2的軸7和/或該另一輥3的軸17可以通過高度可調(diào)整的軸承安置， 使得軸7距處理物10的上表面的距離和/或軸17距處理物10的下表面的距離可以調(diào)節(jié)。輥2和該另一輥3可以構(gòu)建為使得在用作輸送區(qū)段的邊緣區(qū)段5、6或15、16轉(zhuǎn)動時相應的輥的止回面4或14也與相應的輥的輸送區(qū)段同向地一起轉(zhuǎn)動。為此，輥2或輥3 例如可以構(gòu)建為使得不僅輸送區(qū)段而且止回面在其表面上彼此抗扭地構(gòu)建。因為輥表面與處理物10的有源區(qū)11間隔并且形成間隙8或間隙18邊界的部分4或14相對于輸送區(qū)段 5、6或15、16偏置，所以輥2、3的輥表面具有不同于處理物10的輸送速度的環(huán)周速度。然而可替選地，輸送區(qū)段可以相對于止回面可轉(zhuǎn)動地設(shè)置，如參照圖8還要更為詳細地闡述的那樣。在一個實施例中，輸送區(qū)段可以相對于止回面可轉(zhuǎn)動地設(shè)置。止回面的角速度可以與輥的輸送區(qū)段的角速度、輸送區(qū)段的半徑和輥的形成止回面的區(qū)段的半徑有關(guān)地選擇。該裝置1的多個變形方案可以實現(xiàn)在不同的實施例中。例如在裝置1的輥2、3在其軸向端部上具有提高部5、6、15、16期間，在輥2上或者在該另一輥3上也可以設(shè)置有多于兩個的提高的區(qū)段。另外的提高的區(qū)段在此可以尤其設(shè)置在輥2上和/或在該另一輥3上，使得其在如下表面區(qū)域上觸碰處理物10，在這些表面區(qū)域上這樣的機械接觸是不重要的。例如，處理物在處理物10的縱向方向上延伸的表面區(qū)域可以借助輥2和/或該另一輥3的另外的提高部支撐，如果在處理物的側(cè)之一上，則這種接觸應是不重要的。通過另外的提高部作用的附加的支承作用可以降低處理物10在其有用區(qū)中的不希望的觸碰的危險。當在裝置1中與處理物的表面形成間隙的止回面4、14不僅設(shè)置在輸送平面之上而且之下時，在根據(jù)另一實施例的裝置中也可以僅僅在一側(cè)上設(shè)置有止回面，其與處理物的表面形成間隙。例如，這樣的形成間隙的止回面僅僅可設(shè)置在輸送平面的上側(cè)上或在下側(cè)上。在對置的側(cè)上，例如可以設(shè)置輥，其具有基本上恒定的直徑。設(shè)置在另外的側(cè)上的形成間隙的止回面可以導致施加到處理物的表面上的力減小，以便減小對表面的損傷的危險。在另一實施例中，具有恒定直徑(即直徑沿著輥的軸向方向不變化)的輥的外殼面也可以用作止回面，止回面限定了在止回面與處理物的表面之間的間隙。間隙的構(gòu)造、尤其最小間隙高度可以以調(diào)節(jié)方式實現(xiàn)，其方式是輥借助軸承安置，該軸承可相對于輸送平面而高度可調(diào)節(jié)。也可以設(shè)置兩個這樣的輥，以便在處理物的上側(cè)和在下側(cè)上去除液體，其中在相應的輥與處理物之間保持形成間隙。圖3是根據(jù)另一實施例的用于去除處理物的裝置31的示意性側(cè)視圖。該裝置31 例如可以在圖18的處理站200的流出區(qū)域中使用，代替擠壓輥214、215、216的對。裝置31 的在其功能和/或構(gòu)型中對應于裝置1的元件或裝置的元件或裝置設(shè)置同樣的附圖標記并且不再深入闡述。裝置31包括構(gòu)建為用于止回液體的止回面4的輥表面。該裝置31構(gòu)建使得止回面4與處理物10的與止回面對置的表面(在圖3中與處理物10的上表面)形成間隙8。 止回面4設(shè)置在以可轉(zhuǎn)動方式安置的輥2上。輥2可以如參照圖1和2所描述的那樣構(gòu)建。 尤其是，如參照圖1和2所描述的那樣，在間隙8上的輥表面的環(huán)周速度可以不同于處理物 10的輸送速度。止回面4將處理液從經(jīng)過止回面4來輸送的處理物10去除。由于間隙8 在一個實施例中允許液體穿過，所以在處理物通過帶有止回面4的輥2之后在處理物10上還可以存在處理液34。此外，裝置31包括具有噴嘴裝置的入流裝置32。入流裝置32在輸送方向上與輥 2和設(shè)置在輥2上的止回面4間隔地設(shè)置。入流裝置32在輸送方向上在下游，即在輸送方向上設(shè)置在具有止回面4的輥2之后。入流裝置32構(gòu)建為將通過間隙8之后在處理物10 上殘留的處理液34的部分從處理物10去除。入流裝置32尤其可以構(gòu)建為將通過間隙8 之后在處理物10上殘留的處理液34的大部分從處理物10去除。入流裝置32可以輸出流體流33、尤其是氣體流、例如空氣流，以便將處理液34從處理物10吹走或以其他方式以流體流33去除。流體流33可以具有朝著裝置31的產(chǎn)生間隙的止回面4的至少一個流動分量(在圖3中為向右的分量)。在止回面4上，處理液可以從處理物側(cè)向流動。入流裝置也可以構(gòu)建為使得流體流33具有流動分量，該流動分量平行于輸送平面和橫向于輸送方向20，即平行于輥2的軸向方向，在輥2上構(gòu)建止回面4。以此方式處理液34從處理物10側(cè)向地去除。入流裝置32可以在處理物10的整個寬度上即處理物10橫向于輸送方向的伸展上延伸通過處理物10。為了輸出流體流33，入流裝置32可以具有一個或多個噴嘴開口。噴嘴開口例如可以構(gòu)建為連續(xù)的槽、多個槽或多個孔，其在處理物10的寬度方向上構(gòu)建在入流裝置32上。入流裝置32可以構(gòu)建為使得噴嘴開口距處理物10的表面的距離在處理物的整個寬度上基本上等大。入流裝置32可以包括直的通道體，其平行于輸送平面并且橫向于輸送方向20地取向。可替選地，通道體也可以平行于輸送平面并且傾斜于輸送方向20地取向。在一個實施例中，入流裝置32可以成形為使得在處理物的寬度方向上入流裝置 32的中部區(qū)段比入流裝置32的邊緣區(qū)段更靠近形成間隙的止回面4地設(shè)置。例如，入流裝置32可以具有如下形狀，其在從垂直于輸送平面的方向上來看的俯視圖中(即在圖3中在垂直從上看輸送平面時)具有朝著由止回面4形成的間隙8凸面的形狀。例如，入流裝置 32在俯視圖中可以具有V形狀，其尖端指向止回面4。這樣構(gòu)建的入流裝置構(gòu)建為輸出帶有朝著處理物的邊緣的速度分量的流體流，以便有效地將處理液輸送到處理物的邊緣并且這樣去除處理液。入流裝置32可以構(gòu)建為，以便輸出氣體流尤其是空氣流并且由此入流處理物。入流裝置32可以構(gòu)建為使得氣體流33的出流速度為至少2m/sec、尤其是為至少lOm/sec、尤其是為至少30m/sec。入流裝置32也可以構(gòu)建為以便輸出液體流并且由此入流處理物。入流裝置32可以構(gòu)建為使得液體流33的出流速度為至少0. lm/sec、尤其是為至少lm/sec、尤其是為至少 3m/sec ο入流裝置32可以構(gòu)建為使得流體流33的出流方向可以平行于處理物的表面或傾斜于該表面。尤其是，入流方向32可以構(gòu)建為使得流體流從入流裝置32的噴嘴開口朝著間隙8和/或橫向于輸送方向朝著處理物10的邊緣出流。可替選地，出流方向也可以垂直于處理物10的表面。入流裝置32可以構(gòu)建為使得流體流33并不穿過間隙8，即并不進入在形成間隙的止回面4的相反的側(cè)上蓄積的處理液中。以此方式可以避免或抑制流體流32在處理液21 中引起氣泡形成。為了避免流體流33穿過間隙8，例如可以相應地調(diào)節(jié)來自入流裝置32的流體流33的體積流、出流速度和/或出流方向中的一個或多個。該裝置31可以構(gòu)建為使得在間隙8與入流裝置32的噴嘴開口之間的距離或不同的距離為最高IOOmm并且最小10mm。如在圖3中所示，裝置31還可以具有設(shè)置在輸送平面下方的另外的構(gòu)建為止回面 14的輥表面，其可以構(gòu)建在另一輥3上。在另外的實施例中可以實現(xiàn)裝置31的多個變形方案。而例如參照圖3闡述了用于去除液體的裝置31 (其中入流裝置32在處理物10的輸送方向上設(shè)置在帶有形成間隙的止回面4的輥2之后)，用于擋住處理液的裝置也可以構(gòu)建為使得入流裝置在處理物的輸送方向上設(shè)置在形成間隙的止回面之前或設(shè)置在其上游。這樣構(gòu)建的裝置例尤其可以使用在處理站的流入?yún)^(qū)域中。在根據(jù)另一實施例的用于去除或擋住處理液的裝置中，入流裝置32可以可替選地或附加地設(shè)置在輸送平面下方，以便將液體從處理物10的下側(cè)吹走或者以其他方式以由入流裝置發(fā)出的流體流33從處理物10去除。如果入流裝置設(shè)置在輸送平面下方，則其可以構(gòu)建為使得由入流裝置產(chǎn)生的流體流具有平行于輸送方向的速度分量，該輸送方向背離產(chǎn)生間隙的止回面。例如，在處理站的一個流出區(qū)域中設(shè)置的入流裝置中，由入流裝置產(chǎn)生的流體流可以具有在輸送方向上的速度分量。如果用于去除處理液的入流裝置設(shè)置在輸送平面之上，在輸送平面以下的相應的位置上可以設(shè)置輸送元件。類似地，如果用于去除處理液的入流裝置設(shè)置在輸送平面之下， 則在輸送平面之上的相應位置上設(shè)置有輸送元件。輸送元件和入流裝置可以在輸送方向上在輸送平面的相對側(cè)上設(shè)置在相同位置上。輸送元件例如可以構(gòu)建為支撐和/或輸送處理物。輸送元件可以構(gòu)建輥。該輥可以具有偏置的止回面，但也可以具有在軸向方向上基本上恒定的直徑。輸送元件也可以構(gòu)建為小輪軸，在小輪軸上設(shè)置有多個小輪。這些小輪可以構(gòu)建為以便觸碰處理物來輸送處理物。圖4是處理站的流出區(qū)域41的示意性側(cè)視圖。這樣的流出區(qū)域41在圖18的處理站200中可以設(shè)置在內(nèi)部容器201的端部上，在該端部上處理物離開處理站。在流出區(qū)域中，處理物10從處理區(qū)域42在輸送方向20上被進一步輸送，在該處理區(qū)域中處理液21
覆蓋處理物。流出區(qū)域41包括用于將處理液從處理物10去除的多個裝置43、44和45。用于去除處理液的裝置43、44和45彼此在輸送方向20上間隔地沿著處理物10的輸送路徑設(shè)置。 裝置43、44和45的每個可以具有止回面，該止回面相對于輸送平面設(shè)置為使得在止回面與處理物10的對置于該止回面的表面之間形成間隙。裝置43、44和45可以構(gòu)建為根據(jù)一個實施例的用于去除處理液的裝置。在該實施例中，該裝置43可以具有一對輥51、52，其設(shè)置為使得處理物10可以穿過其間。在裝置 43的輥51、52的至少一個上可以構(gòu)建用于止回處理液的形成間隙的止回面，使得在處理物經(jīng)過輥51、52時在止回面與處理物10的與該止回面對置的表面之間形成間隙。尤其是，輥 51,52的至少一個可以具有用于輸送處理物10的提高的邊緣區(qū)域和設(shè)置在其間的偏置的止回面。該裝置43例如可以如參照圖1和2所闡述的裝置1那樣地構(gòu)建。至少其上構(gòu)建有形成間隙的止回面的輥51、52被驅(qū)動為使得輥表面在間隙的邊緣處即輥表面沿著其通過最小間隙高度與處理物10分離的線上的環(huán)周速度與處理物10的輸送速度在方向和/或量值上不同。裝置44可以具有設(shè)置在輸送平面之上的輥53和入流裝置M和設(shè)置在輸送平面之下的輥55和入流裝置56。在裝置44的輥53、55的至少一個上可以構(gòu)建有用于止回處理液的形成間隙的止回面，使得在處理物經(jīng)過輥53、55時在止回面與處理物10的與該止回面對置的表面之間形成間隙。尤其是，輥53、55的至少一個可以具有用于輸送處理物10的提高的邊緣區(qū)域和設(shè)置在其間的偏置的止回面，如參照圖1和2所闡述的那樣。入流裝置M和56以流體流33例如空氣流入流處理物10，以便去除在處理物上殘留的處理液。為此，由入流裝置M和56發(fā)出的流體流33可以被取向為使得其使處理液朝著處理物的邊緣運動并且于是去除。該裝置45可以具有設(shè)置在輸送平面之上的輥57和入流裝置58和設(shè)置在輸送平面之下的輥59和入流裝置60。在裝置45的輥57、59的至少一個上可以構(gòu)建有用于止回處理液的形成間隙的止回面，使得在處理物經(jīng)過輥57、59時在止回面與處理物10的與該止回面對置的表面之間形成間隙。尤其是，輥57、59的至少一個可以具有用于輸送處理物10 的提高的邊緣區(qū)域和設(shè)置在其間的偏置的止回面，如參照圖1和2所闡述的那樣。入流裝置58和60以流體流33例如空氣流入流處理物10，以便去除在處理物上殘留的處理液。為此，由入流裝置58和60發(fā)出的流體流33可以被取向為使得其使處理液朝著處理物的邊緣運動并且于是去除。在輥53、55、57、59中至少在相應的輥與處理物之間形成間隙的輥可以轉(zhuǎn)動，使得輥在間隙處的環(huán)周速度與處理物10的輸送速度在量值和/或方向上不同。處理物10相繼通過的裝置43、44和45的形成間隙的止回面可以具有不同的構(gòu)型。例如，在這些裝置上的間隙可以越來越窄。例如，裝置43可以構(gòu)建為使得在裝置43的止回面與處理物10的對置的表面之間形成具有第一最小間隙高度的間隙，而在輸送方向上設(shè)置在該裝置43之后的裝置44構(gòu)建為使得在該裝置44的止回面與處理物10的對置的表面之間形成具有第二最小間隙高度的間隙。在此，在該裝置44上的第二最小間隙高度可以比在該裝置43上的第一最小間隙高度小，即這些間隙可以在處理站的流出區(qū)域中從一個用于去除處理液的裝置到在輸送方向上設(shè)置在該裝置之后的另一裝置具有越來越小的尚度。形成處理區(qū)42邊界的裝置43構(gòu)建為使得調(diào)節(jié)處理液在輥51的在輸送方向上的相反的側(cè)之間的水平差。在處理區(qū)域42中將處理液21蓄積直至水平71，而在相鄰的區(qū)域中在輥51的另一側(cè)上將處理液蓄積直至水平72。在輸送方向上設(shè)置在裝置43之后的裝置44構(gòu)建為使得在處理物10通過輥53、55 時處理液從處理物10去除。在處理物10經(jīng)過輥53、55之后在處理物10上還存在的處理液73通過入流裝置M、56至少部分被去除。通過在輸送裝置上設(shè)置在該裝置44之后的裝置45可以將處理液的在通過該裝置44之后還會在處理物10上存在的另一部分從處理物去除。即使在處理物10和止回面之間留有間隙，通過使用多個用于去除處理液的裝置可以可靠地將處理液從處理物10去除。在處理站的內(nèi)部容器的底部46與該裝置43的設(shè)置在輸送平面之下的輥52之間設(shè)置有溢吝47。借助溢吝47可以調(diào)節(jié)在該裝置43的兩個側(cè)上的液體水平71、72之間的水平差74。為此在溢吝47中構(gòu)建開口 61，例如以長孔、鉆孔或槽的形式。開口 61可以封閉， 以便通過溢吝47調(diào)節(jié)液體穿過并且因此調(diào)節(jié)在液體水平71和72之間的水平差74。在與處理區(qū)域42相鄰的區(qū)域中的水平72通過處理液的流入和流出的流的平衡來確定。為了可以調(diào)節(jié)這并且因此調(diào)節(jié)水平72，在底部46中在溢吝47、48之間設(shè)置有一個或多個開口例如可封閉的鉆孔。通過合適選擇在溢吝47中被打開的開口和在底部46中打開的開口可以選擇在與處理區(qū)域42相鄰的區(qū)域中的所希望的水平72的基本調(diào)節(jié)。附加地，在形成處理站側(cè)向邊界的元件上、例如在設(shè)置用于安置輥51、52、53和55的軸承容納部設(shè)置有溢流溢吝。附加收縮的液體量可以越過溢流溢吝排出。為了補償處理液的從處理區(qū)域42流出的流，可以借助(未示出的)泵將處理液運送到處理區(qū)域42中。在處理站的內(nèi)部容器的底部46與該裝置44的設(shè)置在輸送平面之下的輥55之間設(shè)置溢吝48。溢吝48不必具有用于調(diào)節(jié)液體水平的可封閉的開口。溢吝48有助于降低處理液從處理區(qū)域中的流出。在另外的實施例中可以實現(xiàn)流出區(qū)域41的變形。在一個實施例中例如可以省去裝置45。相應地，在流出區(qū)域中可以設(shè)置兩個用于去除處理液的裝置。至少在輸送方向上這些裝置的最后的裝置可以具有入流裝置。入流裝置可以至少設(shè)置在輸送平面之上。在另一實施例中，可以設(shè)置有多個用于去除液體的裝置，其具有帶有一個開口或多個開口的溢吝，用于調(diào)節(jié)水平差。該溢吝可以分別具有如其參照溢吝47所闡述的構(gòu)型。 在一個實施例中，例如在流入?yún)^(qū)域或流出區(qū)域中可以設(shè)置有分別帶有至少一個輥的兩個裝置，其具有用于止回液體的止回面，其與經(jīng)過其上的處理物形成間隙，其中在裝置的每個中在輸送平面之下設(shè)置有帶有一個開口或多個開口的溢吝，如其針對溢吝47所描述的那樣。 在輸送方向上與這兩個裝置間隔地可以設(shè)置有另一裝置，其具有對應于該裝置44的構(gòu)型。 以此方式例如可以在流入?yún)^(qū)域或流出區(qū)域中構(gòu)建至少兩個具有相對于處理區(qū)域下降的處理液水平的區(qū)域。在用于去除液體的裝置43-45中不僅在輸送平面之下而且在輸送平面之上分別設(shè)置一個輥，其與經(jīng)過其的處理物形成間隙，而在另一實施例中這些用于去除液體的裝置的每個都構(gòu)建為使得僅僅在設(shè)置在輸送平面之上的輥設(shè)置有止回面，其空出在止回面與經(jīng)過其的處理物之間的間隙。設(shè)置在輸送平面之下的輥可以具有在輥的軸向方向上恒定的直徑。在一個實施例中，入流裝置M、56之一可以通過輸送元件代替。該輸送元件可以構(gòu)建為支撐和/或輸送處理物。該輸送元件例如可以構(gòu)建為輥或者小輪軸?？商孢x地或附加地，入流裝置58、60之一可以通過輸送元件代替。該輸送元件可以構(gòu)建為支撐和/或輸送處理物。該輸送元件例如可以構(gòu)建為輥或者小輪軸。在一個實施例中，設(shè)置在輸送平面之下的入流裝置56、60之一可以構(gòu)建為使得由入流裝置56、60產(chǎn)生的流體流33具有在流出區(qū)域41中指向輸送方向的速度分量。圖5是處理站的流出區(qū)域81的示意性側(cè)視圖。這種流出區(qū)域81在圖18的處理站200中可以設(shè)置在內(nèi)部容器201的端部上，在該端部上處理物離開內(nèi)部容器201。在流出區(qū)域中，處理物從處理區(qū)域82在輸送方向20上進一步輸送，在處理區(qū)域中處理液21覆蓋處理物。在其功能和/或構(gòu)建方面對應于流出區(qū)域41的元件或裝置的流出區(qū)域81的元件或裝置設(shè)置有相同的附圖標記并且不再深入闡述。在確定的處理站中會值得期望的是，在處理區(qū)域82中調(diào)節(jié)相對高的液體水平91。 在處理區(qū)域82中的液體水平91例如可以設(shè)置在輸送平面之上至少15mm。流出區(qū)域81設(shè)置有多個用于去除或擋住處理液的裝置83、44和45。該裝置83包括輥84、85，其設(shè)置為使得處理物10可以穿過其間。在該裝置83的輥84、85的至少一個上可以構(gòu)建用于止回處理液的形成間隙的止回面，使得在處理物經(jīng)過輥84、85時在止回面與處理物84、85的與該止回面對置的表面之間形成間隙。尤其是，輥84、85的至少一個可以具有用于輸送處理物10的提高的邊緣區(qū)域和設(shè)置在其間的偏置的止回面。該對的輥84、 85例如如參照圖1和2所闡述的裝置1地構(gòu)建。至少在其上構(gòu)建有形成間隙的止回面的輥84、85驅(qū)動為使得輥表面在間隙處即沿著其上輥表面通過最小間隙高度與處理物10分離的線的環(huán)周速度與處理物10的輸送速度在方向和/或量值上不同。為了實現(xiàn)將處理液蓄積直至高的水平91，該裝置83在輥84之上具有另一止回元件86。該另一止回元件86構(gòu)建為在處理區(qū)域82中高液體水平的情況下在蓄積處理液時一起作用，其方式是其用作用于蓄積的液體的壁。該另一止回元件86例如可以構(gòu)建為輥，其與輥84互補地構(gòu)建使得輥84、85緊密地封閉并且僅允許液體少量或甚至不穿過在輥84、86 之間。該另一元件86的其他構(gòu)型是可能的，例如以豎立構(gòu)件形式。該裝置83構(gòu)建為使得在處理區(qū)域82中的水平91與在與其相鄰的在該裝置83的另外的側(cè)上的區(qū)域之間的處理液的水平差97通過該裝置83來調(diào)節(jié)和保持。在處理物10 通過該裝置44時，在輸送方向上設(shè)置在該裝置83之后的裝置44將其他處理液從處理物10 去除。代替水平92，在處理物10通過該裝置44的輥對時，在處理物10上僅還有較少量的處理液93。在輸送方向上設(shè)置在該裝置44之后的裝置45還可以將另外的液體從處理物去除，只要這在通過裝置44之后還是必要的。為了調(diào)節(jié)水平差97，在溢吝47中設(shè)置可封閉的開口 61。在與處理區(qū)域82相鄰的區(qū)域中的水平92通過處理液的流入和流出的流構(gòu)成的平衡來確定。為了可以調(diào)節(jié)該平衡和由此調(diào)節(jié)水平92，在底部46中在溢吝47、48之間可以設(shè)置一個或多個開口 96，例如可封閉的鉆孔。通過合適選擇在溢吝47中被打開的開口 61和在底部46中打開的開口 96可以選擇在與處理區(qū)域82相鄰的區(qū)域中的所希望的水平92的基本調(diào)節(jié)。附加地，在形成處理站側(cè)向邊界的元件上、例如在設(shè)置用于安置裝置83和84的輥的軸承容納部設(shè)置有溢流溢吝。附加收縮的液體量可以通過溢流溢吝排出。為了補償處理液的從處理區(qū)域82流出的流，可以借助泵94將處理液的流95運送到處理區(qū)域82中。在參考圖4和5描述處理站的流出區(qū)域的構(gòu)型時，用于去除或者擋住處理液的裝置相應地也可以設(shè)置在處理站的流入?yún)^(qū)域中。尤其是，在流入?yún)^(qū)域中也可以設(shè)置多個在輸送方向上彼此間隔的用于去除或擋住處理液的裝置，以便防止在處理物在流入?yún)^(qū)域中被引入處理站之前處理液流到處理物上。形成間隙的止回面的構(gòu)型可以根據(jù)特定的應用領(lǐng)域地以合適方式選擇。圖6是根據(jù)另一實施例的用于去除或擋住處理液的裝置101的示意性前視圖。該裝置101包括輥102和另一輥103。該輥102和該另一輥103設(shè)置為使得處理物10可以穿過輥102和103輸送。輥102的外殼面具有止回面104，其構(gòu)建為用于止回處理液。帶有止回面104的輥102構(gòu)建為使得在處理物10經(jīng)過輥102時在輥102的止回面 104與處理物10的與該止回面對置的表面之間留有間隙8。在處理物在其縱向邊緣上借助保持軌保持時，輥102的軸向端部區(qū)段105構(gòu)建為具有比輥102的限定止回面104的中部區(qū)段更小的直徑，以便在處理物10在其縱向邊緣處借助保持軌來保持時用作輸送處理物 10的輸送區(qū)段。另外的輥103的外殼面具有另一止回面106，其構(gòu)建為用于止回處理液。帶有另外的止回面106的該另一輥103構(gòu)建為使得在處理物10經(jīng)過該另一輥103時在該另一輥 103的該另一止回面106和處理物10的與該另一止回面對置的表面之間留有間隙18。在處理物在其縱向邊緣上借助保持軌保持時，該另一輥103的軸向端部區(qū)段107構(gòu)建為具有比該另一輥103的限定該另一止回面106的中部區(qū)段更小的直徑，以便用作輸送處理物10 的輸送區(qū)段。在處理物10的縱向邊緣上設(shè)置保持軌108、109，其保持處理物用于輸送處理物 10。這樣的保持軌108、109尤其可以在輸送具有低固有硬度的處理物時被用于給予處理物附加穩(wěn)定性。該裝置101的輥102和另一輥103構(gòu)建為其具有較小直徑的軸向端部區(qū)段 105、107與保持軌108、109靠置。通過輥102和另一輥103轉(zhuǎn)動可以將處理物10通過保持軌108、109進一步輸送。在裝置101中，輥102、103的止回面104、106相對于輥102、103的軸向端部上設(shè)置的輸送區(qū)段偏置，使得在處理物10經(jīng)過止回面104、106時，在止回面104、106與處理物 10的與這些止回面對置的表面之間形成具有所希望的最小間隙高度的間隙8、18。在該裝置101中，輥102、103并不直接觸碰處理物10。處理物10的輸送通過輸送區(qū)段105、107與保持軌108、109的耦合來進行，在保持軌上保持處理物10。在該裝置101中，在輥102的在一側(cè)形成間隙8的邊界的、形成止回面104的輥表面上具有小于處理物10的輸送速度的環(huán)周速度。輥103的在一側(cè)形成間隙18邊界的、形成止回面106的輥表面具有小于處理物10的輸送速度的環(huán)周速度。在該裝置101的變形方案中，輥102、103可以構(gòu)建為使得其在保持軌108、109旁的邊緣區(qū)域中觸碰處理物10，以便輸送該處理物。為此，在輥102、103上可以設(shè)置提高的輸送區(qū)段，其在保持軌108、109旁觸碰處理物。輥102、103還可以構(gòu)建為使得在輥102、 103與保持軌108、109之間也形成間隙用于置換液體。為此，相對于輥的輸送區(qū)段相應回退的凹陷或槽孔設(shè)置在輥102、103上，用于將液體從保持軌擠壓出。在輥和保持軌之間形成的間隙可以具有最小間隙高度，其可以小于1mm、尤其是小于0. 7mm、尤其是小于0. 5mm。 在輥與保持軌之間形成的間隙可以具有最小間隙高度，其可以至少為0. 05mm、尤其是至少 0. 07mm、尤其是為至少0. 09mm。此外，用于將所保持的處理物的液體擠壓出的裝置101還可以包括入流裝置。入流裝置可以如參照圖3所闡述的那樣構(gòu)建。入流裝置尤其可以構(gòu)建為使得由入流裝置輸出的流體流將處理液也從保持軌去除。在保持軌108、109中設(shè)置通道，其能夠?qū)崿F(xiàn)液體橫向于輸送方向穿過保持軌。輥102、103可以構(gòu)建為具有如下力分量的力施加到至少設(shè)置在縱向邊緣之一上的保持軌108、109，該力分量在輸送平面中并且橫向于輸送方向。該力可以定向為使得設(shè)置在對置的縱向邊緣上的保持軌108、109彼此擠壓開，以便橫向于輸送方向張緊處理物10。 為此，例如保持軌108和/或109可以在處理物的至少一個縱向邊緣上具有一個或多個磁體，尤其是永磁體。設(shè)置在輸送平面之上的輥102和/或設(shè)置在輸送平面之下的輥103可以具有一個磁體或多個磁體，以便將電磁力施加到保持軌上。該力可以定向為使得保持軌在處理物10的對置的縱向邊緣上彈性地彼此擠壓開。圖7是用于去除或擋住處理液的裝置111的示意性側(cè)視圖。在該裝置111中，止回面并不設(shè)置在可轉(zhuǎn)動地安置的輥上。根據(jù)一個實施例，該裝置111可以與具有參照圖1-6所描述的擴展方案的輥結(jié)合地設(shè)置在處理站中。該裝置111包括兩個基本上方形的元件112、113，其可以用作在用于對處理液10 進行處理的設(shè)備中的插入物。插入物112可以設(shè)置在輸送平面之上，而插入物113設(shè)置在輸送平面之下。插入物112、113的表面用作止回面，該止回面止回處理液。該裝置111的插入物112、113可以相對于處理物10的輸送路徑設(shè)置為使得在處理物10經(jīng)過該裝置111時在處理物10的上表面之一與插入物112的朝著該上表面的側(cè)面 114之間留有間隙115，并且，當處理物10經(jīng)過裝置111時，在處理物10的下表面與插入物 113的朝向該下表面的側(cè)面117之間留有間隙118。插入物112的側(cè)面114與插入物117 的側(cè)面117可以具有平面的構(gòu)型，使得間隙115和118沿著輸送方向以恒定的間隙高度延伸。該裝置111的插入物112、113具有相對于輸送方向20打開的流入?yún)^(qū)域，其通過在插入物112、113上的傾斜部116、119形成。這樣的流入?yún)^(qū)域例如可以用于引導具有小的固有硬度的處理物例如膜。具有插入物112、113的裝置111可以使用在用于處理物10的電解或者濕化學處理的設(shè)備中用于蓄積處理液21。在處理物10從設(shè)置在插入物的第一側(cè)(圖7中的左邊) 上的處理區(qū)域經(jīng)過插入物112、113時(在處理區(qū)域中處理液21蓄積直至水平121)，在處理物10上殘留具有較小的厚度122的處理液的層。插入物112、113可以根據(jù)其中使用該裝置111的設(shè)備的結(jié)構(gòu)事實被合適地配置。 例如，插入物112、113可以構(gòu)建為使得間隙115、118在輸送方向20上盡可能長。插入物112、113可以抗扭地安裝在用于以電解或濕化學方式進行處理的設(shè)備中。 插入物112、113在該設(shè)備中尤其是也可以安置在輸送方向上固定的位置上。插入物112、 113可以安置為使得其可以彼此垂直地運動。在該裝置111的變形方案中，在輸送平面之上設(shè)置有方形插入物，而在輸送平面之下設(shè)置有輥用于輸送處理物。方形插入物例如可以具有如該裝置111的插入物112 —樣的構(gòu)型。圖8示出了處理站131的示意性側(cè)視圖，其中在流入?yún)^(qū)域中設(shè)置有一對輥132、133 而在流出區(qū)域中設(shè)置有另一對輥134、135。輥132在流入?yún)^(qū)域中設(shè)置在輸送平面之上而輥 133在流入?yún)^(qū)域中設(shè)置在處理物10的輸送平面之下。輥134在流出區(qū)域中設(shè)置在輸送平面之上而輥135在流出區(qū)域中設(shè)置在處理物10的輸送平面之下。借助輥對在處理站131中將處理液21蓄積直至水平136。輥132-135的每個都在其軸向端部上具有提高部5、15形式的輸送區(qū)段，用于輸送處理液。在設(shè)置在端部上的輸送區(qū)段之間構(gòu)建有更小的直徑的止回面4、14。如參照圖1和 2所闡述的那樣，構(gòu)建為止回面4、14的輥表面與經(jīng)過輥的處理物一起形成間隙，該間隙在處理物的寬度方向上延伸。在流入?yún)^(qū)域中的輥132的不同區(qū)段以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動，使得輸送區(qū)段5和設(shè)置在輸送平面之上的輥132的設(shè)置在其間的止回面4同向轉(zhuǎn)動。在流入?yún)^(qū)域中的輥133的不同區(qū)段以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動使得輸送區(qū)段15和設(shè)置在輸送平面之下的輥133的設(shè)置在其間的止回面14同向轉(zhuǎn)動。設(shè)置在輸送平面之上的輥132的輸送區(qū)段5的轉(zhuǎn)動方向141選擇為使得輸送區(qū)段5在其與處理物10的觸碰點上在輸送方向20上運動，以便將處理物10在輸送方向20上輸送。設(shè)置在輸送平面之下的輥133的輸送區(qū)段15的轉(zhuǎn)動方向143選擇為使得輸送區(qū)段15在其與處理物10的觸碰點上在輸送方向20上運動，以便在輸送方向20上輸送處理物10。設(shè)置輸送平面之上的輥132的止回面4與輥132的輸送區(qū)段5在轉(zhuǎn)動方向142 上同向轉(zhuǎn)動，使得止回面4的恰好指向處理物10的區(qū)段朝著較高的液體水平(在圖8向右)運動。類似地，設(shè)置在輸送平面之下的輥133的止回面14與輸送區(qū)段15 —起在轉(zhuǎn)動方向144上同向地轉(zhuǎn)動，使得止回面14的恰好指向處理物10的區(qū)段朝著較高的液體水平 (在圖8中向右)運動。通過輥132、133的合適構(gòu)建可以蓄積足夠高的液體水平136，而止回面4相對于具有高的液體水平的區(qū)域的運動充分地降低液體穿過在輥132、133的止回面4上構(gòu)建的間隙。為此，輥132、133可以構(gòu)建為使得在止回面4、14與處理物10的與止回面對置的表面之間形成具有小于0.3mm(例如大約0.1mm)的最小間隙高度的間隙。例如，輸送區(qū)段可以相對于止回面提高小于0. 3mm，例如大約0. 1mm。在流出區(qū)域中，輥134、135的輸送區(qū)段5、15以轉(zhuǎn)動方向145、147轉(zhuǎn)動，使得輸送區(qū)段5、15在其與處理物10的觸碰點上在輸送方向20上運動。為了借助在流出區(qū)域中的輥134、135降低液體穿過在流出區(qū)域中形成的間隙，設(shè)置在輸送平面之上的輥134可以構(gòu)建為使得輥134的止回面4可相對于輥134的輸送區(qū)段 5轉(zhuǎn)動。類似地，設(shè)置在輸送平面之下的輥135可以構(gòu)建為使得輥135的止回面14可相對于輥135的輸送區(qū)段15轉(zhuǎn)動。在流出區(qū)域中，設(shè)置在輸送平面之上的輥134的止回面4可以在轉(zhuǎn)動方向146上轉(zhuǎn)動，該轉(zhuǎn)動方向與輥134的輸送區(qū)段5的轉(zhuǎn)動方向145相反。設(shè)置在輸送平面之下的輥135的止回面14可以在轉(zhuǎn)動方向148上轉(zhuǎn)動，該轉(zhuǎn)動方向與輥135的輸送區(qū)段15的轉(zhuǎn)動方向147相反。以此方式也可以在流出區(qū)域中進行止回面4、14的轉(zhuǎn)動， 使得設(shè)置在輸送平面之上的輥134的止回面4的恰好指向處理物10的區(qū)段朝著較高的液體水平(在圖8中向左)運動。類似地，輥135的止回面14可以相對于輸送區(qū)段15相反地轉(zhuǎn)動使得輥135的止回面14的恰好指向處理物10的區(qū)段朝著較高的液體水平(在圖8 中向左)運動。輥134的用作止回面4的輥表面在此轉(zhuǎn)動為使得輥表面的緊接著輸送平面的點在與處理物10的輸送方向相反的方向上(在圖8向左)運動。以此方式在間隙8的上邊緣處的輥表面4與處理物10之間產(chǎn)生相對運動。輥135的用作止回面5的輥表面轉(zhuǎn)動為使得輥表面的緊接著輸送平面的點在與處理物10的輸送方向相反的方向上(在圖8向左) 運動。以此方式在間隙9的下邊緣處的輥表面與處理物10之間產(chǎn)生相對運動。在流出區(qū)域中的輥134、135也可以構(gòu)建為使得在止回面4、14與處理物10的與該止回面對置的表面之間形成具有小于0. 3mm例如大約0. Imm的最小間隙高度的間隙。例如， 輸送區(qū)段可以相對于止回面提高小于0. 3mm，例如提高大約0. 1mm?？商孢x地或附加地，在處理站131的流入?yún)^(qū)域中和/或在流出區(qū)域中可以分別設(shè)置一個或多個入流裝置，以便以流體流去除穿過間隙的處理液，如參照圖3所闡述的那樣。通過合適地構(gòu)建在流入?yún)^(qū)域和/或流出區(qū)域中的輥對可以降低液體穿過在輸送處理物時留出的間隙，使得在處理站的流入?yún)^(qū)域和/或流出區(qū)域中未設(shè)置用于吹走處理液的入流裝置。在流入?yún)^(qū)域中和/或在流出區(qū)域中也可以分別設(shè)置多個用于去除或擋住處理液的裝置，如參照圖4和5所闡述的那樣。根據(jù)不同的實施例的裝置和方法在用于處理物的以電解或濕化學方式進行處理的設(shè)備中允許將處理液從處理物去除或擋住或者提高處理物上的物質(zhì)交換，其中在堅固元件與處理物的有用區(qū)之間的直接接觸可以被減小或避免。圖9是處理站的流出區(qū)域221的部分剖切的側(cè)視圖。所示的用于去除液體的裝置可以包括一對輥231、232、刮擦裝置235、入流裝置236和驅(qū)動裝置238。該裝置例如可以代替擠壓輥214和/或215使用在圖18的處理站200中。該處理站具有帶有底部222的內(nèi)槽。處理液在處理站的區(qū)域中具有相對于底部 222帶有高度2 的運行水平223。運行水平223調(diào)節(jié)為使得處理物10在通過該對輥231、 232之前被處理液遮蓋。如已參照圖4和5所描述的那樣，可以通過溢吝227與該對輥231、 232結(jié)合實現(xiàn)處理液在溢吝227下游僅僅達到處理物10的輸送平面之下的水平225。處理液在溢吝227下游的高度226小于在溢吝上游的高度224。在輥231、232構(gòu)建為使得其在任何情況下都與處理物10的有用區(qū)間隔，有用區(qū)連續(xù)地在對置的邊緣區(qū)段之間延伸。輥231設(shè)置在處理物的輸送平面之上。輥232設(shè)置在處理物的輸送平面之下。輥231、232的每個均至少在其環(huán)周的一部分上以處理液覆蓋。輥 231、232可以構(gòu)建為使得其在處理物10經(jīng)過輥231、232時與整個處理物10間隔。尤其是， 輥231、232可以構(gòu)建為使得其并不在輸送處理物10時一同作用。輥231、232可以具有圓柱形的輥表面2 或229。在輥231的輥表面228與處理物10之間的間隙連續(xù)地在處理物 10的邊緣區(qū)域之間在寬度方向上延伸。在輥232的輥表面2 與處理物10之間的另一間隙連續(xù)地在處理物10的邊緣區(qū)域之間在寬度方向上延伸。輥231、232由驅(qū)動裝置238以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動。驅(qū)動裝置可以包括執(zhí)行器例如馬達和用于將執(zhí)行器的轉(zhuǎn)矩傳輸?shù)捷?31、232的合適部件。用于輥231、232的驅(qū)動裝置238可以具有如下部件，其同時是用于其他部件例如用于輸送輥的驅(qū)動裝置的組成部分。有利地， 驅(qū)動裝置238可以設(shè)置在處理站內(nèi)。至少驅(qū)動裝置238的馬達可以被封裝。驅(qū)動裝置238驅(qū)動輥231使得其具有量值為vl的環(huán)周速度。沿著在其上輥231 的輥表面228以間隙高度與處理物10的有用區(qū)間隔的線233，環(huán)周速度的速度向量234逆著處理物的輸送速度vT定向。由于在輥231與處理液之間有粘附阻力，所以可以降低處理液通過間隙的流出。通常，在處理站的流入?yún)^(qū)域或流出區(qū)域中可以驅(qū)動設(shè)置在輸送平面之上的輥231，使得輥表面在形成間隙的邊界的線上朝著更高的水平運動。速度的量值Vl或輥231的轉(zhuǎn)速可以根據(jù)在輥的兩個側(cè)之間的處理液的所希望的水平差來調(diào)節(jié)。驅(qū)動裝置238驅(qū)動輥232，使得其具有量值為v2的環(huán)周速度。輥231和輥232驅(qū)動為使得其同向轉(zhuǎn)動。在一個擴展方案中，第二輥232的環(huán)周速度在量值上等于處理物的輸送速度vT士20%。由此，可以降低如下危險具有低固有硬度的處理物10極大地偏向， 使得其與輥231、232出現(xiàn)不允許的接觸。輥232也可以驅(qū)動為使得環(huán)周速度的量值v2大于輸送速度的量值vT。在一個實施形式中，輥231、232被驅(qū)動為使得vl = ν2。驅(qū)動裝置238可以驅(qū)動輥231，使得輥231攜帶處理液。所攜帶的處理液的量與輥 231的表面特性有關(guān)，尤其是與表面粗糙度、輥231的轉(zhuǎn)動速度和直徑有關(guān)。刮擦裝置235可以將所攜帶的處理液從輥231去除。刮擦裝置235例如可以構(gòu)建為板條，其平行于輥231的軸線延伸。刮擦裝置235可以構(gòu)建為使得其補償由輥231攜帶的處理液沿著輥231的軸向方向的變化。例如，刮擦裝置235沿著輥231的軸向方向可以距輥表面2 具有恒定的距離。刮擦裝置231可以構(gòu)建為使得其并不將處理液完全從輥231 去除，使得由于輥231的旋轉(zhuǎn)圍繞輥231形成有限厚度的處理液膜。刮擦裝置235可以構(gòu)建為使得圍繞輥231的處理液膜減小了在輥231與處理物10之間的用于處理液流出的間隙的有效橫截面。刮擦裝置235可以是相對于輥231可調(diào)整的，以便調(diào)節(jié)由刮擦裝置235止回的處理液的量。以此方式，所止回的處理液的量可以根據(jù)應用情況例如根據(jù)所希望的水平223 來調(diào)節(jié)。入流裝置236以流體237例如空氣入流處理物10。在處理物10穿過輥231、232 之間之后尚在處理物10上的處理液可以被去除。入流裝置可以如參照圖3-5所描述的那
樣構(gòu)建。圖10是具有用于去除處理液的裝置的處理站的流出區(qū)域Ml的部分剖切的側(cè)視圖。用于去除處理液的裝置包括一對輥231、232、刮擦裝置235、入流裝置236和驅(qū)動裝置 2480該裝置例如可以代替擠壓輥214和/或214使用在圖18的處理站200中。在其構(gòu)型和/或功能上對應于流出區(qū)域221的元件和/或裝置的并且參照圖9所描述的元件和裝置設(shè)置有與圖9中相同的附圖標記。驅(qū)動裝置248構(gòu)建為使得輥232相對于輥231逆向轉(zhuǎn)動。輥232的表面具有量值為v2的環(huán)周速度。沿著在其上輥232以最小間隙高度與處理物10間隔的線，環(huán)周速度逆著處理物的輸送方向。由于在輥232與處理液之間有粘附性阻力，所以可以降低處理液通過在輥232與處理物之間的間隙的流出。尤其是針對具有足夠的固有硬度的處理物10，例如針對具有高固有硬度的電路板，輥vl、v2如圖10所示地相反轉(zhuǎn)動。輥232的環(huán)周速度v2的量值例如可以根據(jù)何種液體流允許通過輥232與處理物 10之間的間隙來選擇。通過較高量值v2的環(huán)周速度可以降低單位時間流出的處理液量。 在一個實施形式中，輥231、232被驅(qū)動為使得Vl = v2。參照圖9和10描述了具有一對輥的裝置，而在另外的實施形式中在處理站的流出區(qū)域中可以設(shè)置多對輥，如其參照圖9和10所描述的那樣。例如，多個這樣的對的輥如參照圖4和5所描述的那樣在輸送方向上彼此間隔地設(shè)置。以此方式，可以實現(xiàn)水平級聯(lián)?？商孢x地或附加地，該對輥可以與在輸送方向上間隔地設(shè)置的具有固定的元件的裝置(如其例如在圖7中所示)組合。參照圖9和10描述了具有一對輥的裝置，而在另外的實施形式中代替這些輥之一例如代替設(shè)置在輸送平面之下的輥232設(shè)置有固定的元件。在另外的實施形式中，輥231 和輥232不必都與處理物10間隔地設(shè)置。如果處理物的朝著一個輥的側(cè)是觸碰敏感的，則根據(jù)實施形式該輥與處理物間隔地設(shè)置。在實施例的情況下描述了將用于去除或擋住處理液的裝置使用在處理站的內(nèi)部區(qū)域的流入?yún)^(qū)域和/或流出區(qū)域中，而這樣的裝置也可以與處理站的流入?yún)^(qū)域和流出區(qū)域間隔地使用，以便置換液體，例如為了改進的物質(zhì)交換，如參照圖11-17詳細描述的那樣。 借助不同的參照圖11-17詳細描述的裝置可以處理處理物的平坦的表面，但有利地也可以處理盲孔或穿通孔。參照圖11-17描述的裝置可以在處理站中與入流噴嘴組合地或替代其地使用。通如果該裝置替代入流噴嘴地使用，則通過合適的機構(gòu)將處理液運送到處理站的內(nèi)部區(qū)域中。圖11是處理站的處理區(qū)段251的部分剖切的側(cè)視圖。區(qū)段251具有一對輥沈1、 262、刮擦裝置265和驅(qū)動裝置沈8。這些元件可以為了促進在處理物表面上的物質(zhì)交換而代替圖18的處理站200的入流噴嘴206、207來使用。處理站具有帶有底部252的內(nèi)槽。處理液在處理站的區(qū)域中具有帶有高度邪4的運行水平253。運行水平253調(diào)節(jié)為使得處理物10在輥沈1、沈2的環(huán)周上被處理液覆蓋。輥沈1、262構(gòu)建為使得其在任何情況下都與處理物10的有用區(qū)間隔，有用區(qū)在對置的邊緣區(qū)段之間延伸。輥261安置在處理物的輸送平面之上。輥262安置在處理物的輸送平面之下。在輥的在輸送方向上相反的側(cè)上，處理液累積直至運行水平253。輥沈2 完全設(shè)置在水平253之下。輥261、262可以構(gòu)建為使得其在處理物10經(jīng)過輥沈1、沈2時與處理物10間隔。 尤其是，輥261、262可以構(gòu)建為使得其并不在處理物10輸送時一起作用。輥沈1、262可以具有圓柱形表面258或259。在輥261與處理物10之間的具有間隙高度9的間隙8連續(xù)地在處理物10的邊緣區(qū)域之間在寬度方向上延伸。在輥262與處理物10之間的另一間隙連續(xù)地在處理物10的邊緣區(qū)域之間在寬度方向上延伸。輥沈1、262可以由驅(qū)動裝置268驅(qū)動。該驅(qū)動裝置可以包括執(zhí)行器，例如馬達和用于將執(zhí)行器的轉(zhuǎn)矩傳輸?shù)捷伾?、沈2的合適部件。用于輥沈1、沈2的驅(qū)動裝置268可以具有如下部件，其同時是用于其他元件例如用于輸送輥的驅(qū)動裝置的組成部分。驅(qū)動裝置268驅(qū)動輥沈1，使得輥表面258具有量值為vl的環(huán)周速度。沿著表示通過輥表面形成的在輥與處理物10之間的間隙的邊界的線沈3，環(huán)周速度的速度向量 264逆著處理物的輸送速度vT。輥的輥表面和處理物10在間隙8的邊緣處以相對速度運動。在處理物10的朝著輥沈1的表面上的物質(zhì)交換于是可以有效地被促進。驅(qū)動裝置238驅(qū)動輥沈2，使得其具有量值為ν2的環(huán)周速度。輥261和輥沈2由驅(qū)動裝置268驅(qū)動，使得其同向轉(zhuǎn)動。尤其是，設(shè)置在輸送平面下的輥262可以被驅(qū)動為使得輥表面沿著在其上輥沈2以間隙高度與處理物10間隔的線在處理物10的輸送速度vT的方向上運動。驅(qū)動裝置265設(shè)置為將處理液從輥261上刮擦。在刮擦裝置265與輥261之間的間距266可以被調(diào)節(jié)。以此方式，由刮擦裝置265止回的處理液的量可以被調(diào)節(jié)。刮擦裝置沈5的構(gòu)型和功能對應于針對刮擦裝置235所描述的構(gòu)型和功能。尤其是，刮擦裝置可以調(diào)節(jié)為使得輥261完全以處理液的膜圍繞。圖12是處理站的處理區(qū)段271的部分剖切的側(cè)視圖。區(qū)段271具有一對輥沈1、 262、刮擦裝置265和驅(qū)動裝置278。這些元件可以用于促進在處理物的表面上的物質(zhì)交換， 例如代替圖18的處理站200的入流噴嘴206、207。在其構(gòu)型和/或功能上對應于區(qū)段251 的元件和/或裝置并且參照圖11所描述的元件和裝置設(shè)置有如圖11中相同的附圖標記。驅(qū)動裝置278驅(qū)動輥261、262使得其同向旋轉(zhuǎn)。沿著在其上輥以間隙高度9 與處理物10的有用區(qū)間隔的線沈3，輥的輥表面以速度274運動，該速度朝著處理物 10的輸送方向來定向。環(huán)周速度的量值Vl可以調(diào)節(jié)為使得其不同于輸送速度的量值VT。 沿著在其上輥262以在輥262與處理物10之間的間隙的間隙高度與處理物10的有用區(qū)間隔的線275，輥262的輥表面以速度276運動，該速度逆著處理物10的輸送方向來定向。這導致在輥沈2的輥表面與處理物10之間在間隙處的相對運動。在另外的實施形式中，驅(qū)動裝置可以構(gòu)建為使得設(shè)置在輸送平面之上的輥261和設(shè)置在輸送平面之下的輥262相反轉(zhuǎn)動，如參考圖13和14所描述的那樣。圖13是處理站的處理區(qū)段的部分剖切的側(cè)視圖。區(qū)段具有一對輥沈1、 262、刮擦裝置265和驅(qū)動裝置觀8。這些元件可以代替圖18的處理站200的入流噴嘴206、 207或者與這些入流噴嘴結(jié)合用于促進處理物的表面上的物質(zhì)交換。在其構(gòu)型和/或功能上對應于區(qū)段251或區(qū)段271的元件和/或裝置、并且參考圖11和圖12所描述的元件和裝置設(shè)置有與在圖11或圖12中相同的附圖標記。驅(qū)動裝置288驅(qū)動輥261、262使得其相反旋轉(zhuǎn)。沿著在其上輥以間隙高度9 與處理物10的有用區(qū)間隔的線沈3，輥261的輥表面以速度觀4運動，該速度逆著處理物10 的輸送方向來定向。沿著在其上輥沈2以在輥262與處理物之間的間隙的間隙高度與處理物10的有用區(qū)間隔的線275，輥沈2的輥表面以速度286運動，該速度逆著處理物10的輸送方向來定向。由此，不僅在處理物10的有用區(qū)與輥之間留有的間隙而且在處理物10 的有用區(qū)與輥262之間留有的另外的間隙引起在處理物與形成間隙的邊界的輥261或262 之間的相對速度。在處理物的兩個側(cè)上可以有效地促進物質(zhì)交換。圖14是處理站的處理區(qū)段的部分剖切側(cè)視圖。區(qū)段291具有一對輥沈1、 262、刮擦裝置265和驅(qū)動裝置四8。這些元件例如可以代替圖18的處理站200的入流噴嘴 206,207或者與處理站的入流噴嘴組合地用于促進處理物的表面上的物質(zhì)交換。在其構(gòu)型和/或功能上對應于區(qū)段251或區(qū)段271的元件和/或裝置、并且參考圖11和圖12所描述的元件和裝置設(shè)置有與在圖11或圖12中相同的附圖標記。驅(qū)動裝置298驅(qū)動輥261、262使得其相反旋轉(zhuǎn)。沿著在其上輥以間隙高度9 與處理物10的有用區(qū)間隔的線沈3，輥的輥表面以速度294運動，該速度在處理物10 的輸送方向上定向。沿著在其上輥沈2以在輥262與處理物之間的間隙的間隙高度與處理物10的有用區(qū)間隔的線275，輥沈2的輥表面以速度296運動，該速度同樣在處理物10的輸送方向上定向。速度294的量值對應于輥261的環(huán)周速度vl。速度296的量值對應于輥262的環(huán)周速度v2。環(huán)周速度vl和v2的至少一個不同于處理物10的輸送速度vT的量值。由此引起在相應的輥與處理站之間的相對速度。在另外的實施形式中，也可以僅僅將一個輥設(shè)置為處理機構(gòu)。該輥可以設(shè)置在輸送平面之上或設(shè)置在輸送平面之下。輥形式的在輸送平面的另外的側(cè)上不具有對應輥的處理機構(gòu)尤其可以用于處理穿通孔或盲孔。圖15是處理站的處理區(qū)段301的部分剖切側(cè)視圖。區(qū)段301具有輥302、刮擦裝置265和驅(qū)動裝置308。這些元件例如可以代替圖18的處理站200的入流噴嘴206、207或者與處理站的入流噴嘴組合地用于促進處理物的表面上的物質(zhì)交換。在其構(gòu)型和/或功能上對應于區(qū)段251或區(qū)段271的元件和/或裝置、并且參考圖11或圖12所描述的元件和裝置設(shè)置有與在圖11或圖12中相同的附圖標記。輥302設(shè)置在輸送平面之上并且形成了在處理物10的整個有用區(qū)上延伸的在輥 302的表面與處理物10之間的間隙。在輥302的兩側(cè)上，處理液累積直至處理站的運行水平253。驅(qū)動裝置308轉(zhuǎn)動地驅(qū)動輥302。沿著在其上輥302以間隙高度9與處理物10的有用區(qū)間隔的線303，輥302的輥表面以速度304運動，該速度在處理物10的輸送方向上定向。速度304的量值對應于輥302的環(huán)周速度vl。環(huán)周速度的量值Vl不同于處理物10 的輸送速度vT。由此引起在輥302與處理物10之間的在間隙8的邊緣處的相對速度。圖16是處理站的處理區(qū)段311的部分剖切側(cè)視圖。區(qū)段311具有輥312和驅(qū)動裝置318。這些元件例如可以代替圖18的處理站200的入流噴嘴206、207或者與處理站的入流噴嘴組合地用于促進處理物的表面上的物質(zhì)交換。在其構(gòu)型和/或功能上對應于區(qū)段251或區(qū)段271的元件和/或裝置、并且參考圖11或圖12所描述的元件和裝置設(shè)置有與在圖11或圖12中相同的附圖標記。輥312設(shè)置在輸送平面之下并且形成了在處理物10的整個有用區(qū)上延伸的在輥 312的表面與處理物10之間的間隙。輥312完全被處理液圍繞。驅(qū)動裝置318轉(zhuǎn)動地驅(qū)動輥312。沿著在其上輥312以間隙高度19與處理物10的有用區(qū)間隔的線313，輥312的輥表面以速度314運動，該速度在處理物10的輸送方向上定向。速度314的量值對應于輥 312的環(huán)周速度ν2。環(huán)周速度的量值v2不同于處理物10的輸送速度vT。由此引起在輥 312與處理物10之間的在間隙18的邊緣處的相對速度。在另外的實施形式中，區(qū)段301的輥302或區(qū)段311的輥312也可以轉(zhuǎn)動地驅(qū)動， 使得輥302或312沿著線303或313具有逆著處理物10的輸送方向的速度向量。尤其是在具有高固有硬度的處理物的情況下可以使用該構(gòu)型。在另外的實施形式中，一對沿著輸送方向的彼此錯移的輥可以設(shè)置為處理機構(gòu)。 這種處理機構(gòu)尤其可以用于處理穿通孔。圖17是處理站的處理區(qū)段321的部分剖切的側(cè)視圖。區(qū)段具有一對輥沈1、 262、刮擦裝置265和驅(qū)動裝置328。這些元件例如可以代替圖18的處理站200的入流噴嘴 206,207或者與處理站的入流噴嘴組合地用于促進處理物的表面上的物質(zhì)交換。在其構(gòu)型和/或功能上對應于區(qū)段251或區(qū)段271的元件和/或裝置、并且參考圖11和圖12所描述的元件和裝置設(shè)置有與在圖11或圖12中相同的附圖標記。設(shè)置在輸送平面之上的輥和設(shè)置在輸送平面之下的輥262在輸送方向上彼此錯移地設(shè)置。由于輥的該布置關(guān)于輸送平面并不鏡像對稱，所以可以良好地處理穿通孔。驅(qū)動裝置3 驅(qū)動輥沈1、沈2，使得其相反地旋轉(zhuǎn)。沿著在其上輥以間隙高度 9與處理物10的有用區(qū)間隔的線沈3，輥261的輥表面以速度3M運動，該速度在處理物10 的輸送方向上定向。沿著在其上輥沈2以在輥262與處理物之間的間隙的間隙高度與處理物10的有用區(qū)間隔的線275，輥沈2的輥表面以速度3 運動，該速度同樣在處理物10的輸送方向上定向。速度324的量值對應于輥261的環(huán)周速度vl。速度3 的量值對應于輥262的環(huán)周速度v2。環(huán)周速度vl和v2的至少一個不同于處理物10的輸送速度vT。由此引起了相應的輥與處理物之間的相對速度，其促進了處理物的表面上的物質(zhì)交換。在參考附圖所描述的裝置中，在輥和處理物之間的在間隙處的相對速度的量值具有在0. lm/s到20m/s的區(qū)間中的量值、尤其是在0. 2m/s到10m/S的區(qū)間中、尤其是在0. 5m/ s至Ij5m/s的區(qū)間中的量值。如參照圖11-14和17所描述的那樣，設(shè)置在輸送平面的對置的側(cè)上的一對輥可以用作在連續(xù)設(shè)備的處理站中的處理機構(gòu)。在實施形式中，這兩個輥可以同向轉(zhuǎn)動地驅(qū)動。在該情況下，尤其是，設(shè)置在輸送平面下的輥可以驅(qū)動為使得其沿著如下線的環(huán)周速度指向輸送方向，其中該線以間隙高度與處理物的有用區(qū)間隔。在另外的實施形式中，這兩個輥可以相反轉(zhuǎn)動地驅(qū)動。驅(qū)動裝置可以構(gòu)建為使得選擇地通引起輥的同向或相反轉(zhuǎn)動。在參照圖11-14和17所描述的不同的實施形式中，設(shè)置在輸送平面之上的輥的環(huán)周速度Vl和設(shè)置在輸送平面之下的輥的環(huán)周速度v2在量值上相等。在另外的實施形式中， vl > v2、尤其是vl >>v2或vl <v2、尤其是vl << v2。尤其是，v2可以等于處理物的輸送速度的量值vT士 20%。在參照圖9-17所描述的不同的裝置中，輥的表面分別可以是圓柱形的。表面可以構(gòu)建為不帶開口的圓柱形面。這些表面尤其對于處理液是不可穿透的。輥的這些表面有利地是圓柱形的并且在處理物的整個有用區(qū)上延伸，使得形成連續(xù)地在邊緣區(qū)域之間延伸的間隙。在另外的實施形式中，可以將多個輥狀的部分元件組合，以便分區(qū)段地形成在有用區(qū)上延伸的間隙。在附圖中所示的并且詳細描述的實施例的許多變型方案可以實現(xiàn)在其他實施例中。在參考圖11-17描述了裝置，其中刮擦裝置設(shè)置在輥的周圍中，該輥設(shè)置輸送平面之上，在另外的實施形式中固定的元件可以也可以設(shè)置在如下輥的周圍，該輥設(shè)置在輸送平面之下。固定的元件例如可以構(gòu)建為板條。該板條影響在輥的周圍中的流動場。板條可以相對于該輥調(diào)整。在所有這里所描述的實施形式中，輥可以構(gòu)建為用于電解處理的電極。其尤其可以構(gòu)建為惰性陽極。在所有這里所描述的實施形式中，輥可以具有表面，其在處理容差內(nèi)是平滑的。在另外的實施形式中，輥的表面也可以具有結(jié)構(gòu)。在所有這里所描述的實施形式中輥可以設(shè)置為使得輥的軸線與輸送方向成不同于90度的角度。在不同的實施例中描述了止回面，其在處理物的寬度方向上基本上以相同的高度橫向于處理物延伸，形成間隙的止回面也可以構(gòu)建為使得間隙的橫截面尤其是間隙高度在處理物的寬度方向上改變。例如，止回面可以在處理物的寬度方向上是凹面的，使得形成的間隙(根據(jù)在處理物的寬度方向上的位置)在處理物的中部比在邊緣更高。在不同的實施例尤其是可以使用在其中處理物連續(xù)地并且在水平輸送平面中被輸送的處理設(shè)備中時，這些實施例也可以使用在如下設(shè)備中，在其中處理物在垂直的輸送平面上被輸送。例如，在處理物在垂直輸送平面中輸送時由形成間隙的止回面與入流裝置的組合也可以用于蓄積液體。在處理物在垂直輸送平面上被輸送時其軸線指向垂直方向的一個或多個輥可以用作處理機構(gòu)。在實施例的情況下將與處理物的整個有用區(qū)間隔的輥使用在處理站的流入?yún)^(qū)域或流出區(qū)域中或描述為處理機構(gòu)時，而在其他實施形式中處理站可以具有至少一個轉(zhuǎn)動地驅(qū)動的輥作為處理機構(gòu)，如參照圖11-17所描述的那樣，而且具有在流入?yún)^(qū)域和流出區(qū)域中的至少一個轉(zhuǎn)動驅(qū)動的輥，如參考圖1-10所描述的那樣。根據(jù)不同的實施例的裝置和方法例如可以使用在電路板的制造中，如印刷電路板，而其應用并不限于此。附圖標記
1用于去除處理液的裝置
2輥
3另外的輥
4止回面
5、6提高的邊緣區(qū)段
7軸
8間隙
9最小間隙高度
10處理物
11有用區(qū)
12邊緣區(qū)域
14另外的止回面
15，16提高的邊緣區(qū)段
17軸
18另外的間隙
19最小間隙高度
20輸送方向
21處理液
22液體水平
23處理液
24液體水平
25,26轉(zhuǎn)動方向
31用于去除處理液的裝置
32入流裝置
33流體流
34處理液
41流出區(qū)域
42處理區(qū)域
43，44，45用于去除處理液的裝置
46底部
47，48溢吝
51，52 棍
53，55 棍
54，56入流裝置
57，59 棍
58,60入流裝置
61開口
71，72液體水平
73處理液
74水平差
81流出區(qū)域
82處理區(qū)域
83用于去除處理液的裝置
84-86 輥
91，92液體水平
93處理液
94泵
95液體流
96開口
97水平差
101用于去除處理液的裝置
102輥
103另外的輥
104止回面
105回退的邊緣區(qū)段
106另外的止回面
107回退的邊緣區(qū)段
108，109保持軌
111用于去除處理液的裝置
112，113插入物
114，117 側(cè)面
115，118 間隙
116，119傾斜部
131處理站
132-135 棍
136液體水平
141-148轉(zhuǎn)動方向
200處理站
201內(nèi)部容器
202外部容器
203處理物
204輸送方向
206,207入流噴嘴
208處理液
209在外部容器中的水平
210泵
211,212
214，216輸送輥對
213，215擠壓輥對
221流出區(qū)域
222底部
223，225液體水平
224,226 高度
227溢吝
228,229輥表面
231,232 棍
233輥表面上的線
234速度
235刮擦裝置
236入流裝置
237流體流
238驅(qū)動裝置
241流出區(qū)域
248驅(qū)動裝置
251處理區(qū)段
邪2底部
253運行水平
254高度
258,259輥表面
261,262 棍
263輥表面上的線
264速度
265刮擦裝置
266距離
268驅(qū)動裝置
271處理區(qū)段
274速度
275輥表面上的線
276速度
278驅(qū)動裝置
281處理區(qū)段
284，286 速度
288驅(qū)動裝置
291處理區(qū)段
294，296 速度
298驅(qū)動裝置
301處理區(qū)段
302輥
303輥表面上的線
304速度
308驅(qū)動裝置
311處理區(qū)段
312輥
313輥表面上的線
314速度
318驅(qū)動裝置
321處理區(qū)段
324,326 速度
328驅(qū)動裝置
權(quán)利要求
1.一種用于處理平面處理物(10)的方法，該處理物被輸送通過用于對處理物(10)以電解或濕化學方式進行處理的設(shè)備，其中處理物(10)在該設(shè)備的處理站中暴露于覆蓋處理物(10)的處理液01)，其中在處理站中設(shè)置有帶有輥表面(4,14 ；104,106 ；228, 229 ；258, 259)的輥0，3; 51,52,53,55,57,59 ；84,85 ；102，103 ；132-135 ；231, 232 ；261, 262 ；302 ；312)，使得輥表面 (4,14 ；104，106 ；228, 229 ；258，259)至少與處理物的(10)的有用區(qū)(11)間隔，使得在輥表面(4,14 ；104，106 ；228, 229 ；258，259)與處理物(10)的有用區(qū)之間留有間隙(8，18)，其中該有用區(qū)連續(xù)地在處理物(10)的邊緣區(qū)域(1 之間延伸，其中輥表面(4,14 ；104,106 ；228, 229 ；258, 259)至少部分設(shè)置在處理液Ql)中，并且其中輥(2,3 ；51, 52, 53, 55, 57, 59 ；84,85 ；102，103 ；132-135 ；231, 232 ；261, 262 ；302 ；312) 以轉(zhuǎn)動方式被驅(qū)動使得在間隙(8，18)處引起在輥表面(4,14 ；104,106 ；228, 229 ；258, 259)與處理物(10)的表面之間的相對速度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中輥(134，135 ；231,232 ；261,262)被驅(qū)動為使得輥表面的形成間隙(8，18)邊界的部分033 ；263 ；275)與處理物(10)的輸送方向Q0)相反地運動。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中輥(2,3 ；51,52,53,55, 57, 59 ；84,85 ；102，103；132-135 ；231,232 ；261,262 ；302 ；312) 被驅(qū)動為使得輥表面的環(huán)周速度(vl，v2)與處理物(10)的輸送速度(vT)在量值上不同， 尤其是大于輸送速度(vT)。
4.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中借助刮擦裝置035；265)將處理液從輥 (231 ；261 ；302)去除。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中刮擦裝置035；265)被調(diào)整以便調(diào)節(jié)從輥031 ； 261 ；302)去除的處理液的量。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的方法，其中刮擦裝置035；265)設(shè)置為使得其在輥031 ； 261 ；302)的軸向方向上距輥表面0 ；258)具有均勻的距離。
7.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中輥061，262；302 ；312)作為處理機構(gòu)設(shè)置在處理站中。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中輥061，262；302 ；312)設(shè)置為使得通過在輥表面 (258,259)與處理物(10)的表面之間的相對速度提高了處理物(10)的待處理的表面上的物質(zhì)交換。
9.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中在輥061；302)的在輸送方向上相反的側(cè)上處理液累積直至處理站的運行水平(25 或者其中輥062 ；312)完全設(shè)置在處理站的運行水平(25 之下。
10.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中輥(2,3；51,52,53,55,57,59 ；84,85 ； 102，103 ；132-135 ；231,232)設(shè)置在處理站的流入?yún)^(qū)域或流出區(qū)域(41 ；81 ；221 ；241)中， 其中輥表面形成用于止回處理液的止回面。
11.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中在處理站中將具有另一輥表面(14)的另一輥(3 ；52，55，59 ；85 ；103 ；133，135 ；232 ；262)定位為使得在處理物(10)的有用區(qū)(11) 與所述另一輥表面(14)之間留有另一間隙(18)，其中輥(2 ；51, 53, 57 ；84 ；102 ；132，134 ；231 ；261)和該另一輥(3 ；52, 55, 59 ；85 ；103 ； 133，135 ；232 ；262)定位在處理物(10)的輸送平面的相反的側(cè)上。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中該另一輥032；262)被以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動使得輥 (231 ；261)和該另一輥(232 ；262)同向轉(zhuǎn)動。
13.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中輥用作電極、尤其用作陽極，用于電解處理。
14.一種用于對處理物(10)以電解或濕化學方式進行處理的設(shè)備的對平面處理物 (10)進行處理的處理站，其中處理站構(gòu)建為使得在運行中處理液覆蓋要處理的處理物(10)，該處理站包括帶有輥表面(4，14 ；104，106 ；228, 229 ；258，259)的輥(2,3 ；51，52，53，55，57，59 ；84， 85 ； 102，103 ；132-135 ；231，232 ；261，262 ；302 ；312),其設(shè)置為使得輥表面(4，14 ； 104， 106 ；228, 229 ；258, 259)至少與處理物的(10)的有用區(qū)(11)間隔使得在輥表面(4,14 ； 104,106 ；228, 229 ；258, 259)與處理物(10)的有用區(qū)(11)之間留有間隙(8，18)，其中該有用區(qū)連續(xù)地在處理物(10)的邊緣區(qū)域(12)之間延伸，其中輥表面(4,14 ；104,106 ；228， 229 ；258，259)至少部分設(shè)置在處理液中，以及驅(qū)動裝置(238 ；248 ；268 ；278 ；288 ；298 ；308 ；318 ；328)，其構(gòu)建為輥(2,3 ；51，52，53， 55,57,59 ；84,85 ；102，103 ；132-135 ；231, 232 ；261, 262 ；302 ；312)以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動使得在間隙(8，18)處引起在輥表面(4,14 ；104，106 ；228, 229 ；258，259)與處理物(10)的表面之間的相對速度。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的處理站，其中驅(qū)動裝置038；248 ；268 ；278 ；288)構(gòu)建為以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動輥(134，135 ；231,232 ；261,262)使得輥表面的形成間隙(8，18)邊界的部分 (233,263 ；275)與處理物(10)的輸送方向(20)相反地運動。
16.根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的處理站，其中驅(qū)動裝置038 ；248 ；268 ；278 ；288 ；298 ；308 ；318 ；328)構(gòu)建為以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動輥使得輥表面G，14)的環(huán)周速度(vl，v2)的量值與處理物(10)的輸送速度(vT)的量值不同， 尤其是大于輸送速度(vT)的量值。
17.根據(jù)權(quán)利要求14-16之一所述的處理站，包括刮擦裝置035;265)，尤其是相對于輥(231 ；261 ；302)能夠調(diào)整的刮擦裝置(235 ；265)，用于將處理液從輥(231 ；261 ；302)去除。
18.根據(jù)權(quán)利要求14-17之一所述的處理站，其中輥061，262；302 ；312)作為處理機構(gòu)設(shè)置在處理站中。
19.根據(jù)權(quán)利要求14-18之一所述的處理站，其中在輥O61;302)的在輸送方向上相反的側(cè)上處理液累積直至處理站的運行水平(25 或者其中輥062 ；312)完全設(shè)置在處理站的運行水平(25 之下。
20.根據(jù)權(quán)利要求14-17之一所述的處理站，其中輥(2,3；51, 52, 53, 55, 57, 59 ；84, 85 ；102，103 ；132-135 ；231,232)設(shè)置在處理站的流入?yún)^(qū)域或流出區(qū)域(221 ；241)中，其中輥表面G，14)形成用于止回處理液的止回面。
21.根據(jù)權(quán)利要求14-20之一所述的處理站，包括具有另一輥表面(14)的另一輥(3;. 52,55,59 ；85 ；103 ；133，135 ；232 ；262)，其定位為使得在處理物(10)的有用區(qū)(11)與所述另一輥表面(14)之間留有另一間隙(18)，其中輥(2 ；51, 53, 57 ；84 ；102 ；132，134 ；231 ；261)和該另一輥(3 ；52, 55, 59 ；85 ；103 ； 133，135 ；232 ；262)設(shè)置在處理物(10)的輸送平面的相反的側(cè)上。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的處理站，其中該驅(qū)動裝置038；268 ；278)構(gòu)建為，以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動該另一輥032 ；262)，使得輥031 ；261)和該另一輥032 ；262)同向轉(zhuǎn)動。
23.根據(jù)權(quán)利要求14-22之一所述的處理站，其構(gòu)建為用于實施根據(jù)權(quán)利要求1-13之一所述的方法。
24.—種用于處理平面處理物(10)的設(shè)備，包括根據(jù)權(quán)利要求14-23之一所述的處理站(221 ；241 ；251 ；271 ；281 ；291 ；301 ；311)。
25.一種用于制造電路板的方法，包括借助根據(jù)權(quán)利要求1-13之一所述的方法對材料 (10)進行處理用于制造電路板。
全文摘要
為了將處理液(21)從在用于對處理物(10)以電解或濕化學方式進行處理的設(shè)備中輸送的平面處理物(10)去除，或者為了促進處理物(10)的表面上的物質(zhì)交換，輥設(shè)置有輥表面(4，14)。輥表面(4，14)相對于處理物(10)的輸送路徑設(shè)置，使得在輥表面(4，14)與處理物(10)的與輥表面(4，14)對置的有用區(qū)之間留有間隙(8，18)，該間隙在該有用區(qū)上延伸。輥以轉(zhuǎn)動方式來驅(qū)動，使得在間隙(8，18)上產(chǎn)生輥表面(4，14)與處理物(10)之間的相對速度。
文檔編號H05K3/00GK102422728SQ201080021231
公開日2012年4月18日 申請日期2010年5月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月13日
發(fā)明者亨利·孔策 申請人:埃托特克德國有限公司