專(zhuān)利名稱(chēng)：發(fā)光元件和發(fā)光元件的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及包含有機(jī)發(fā)光層的發(fā)光元件的制造方法、以及包含有機(jī)發(fā) 光層的發(fā)光元件的制造裝置。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，能薄形化的平面型顯示裝置的實(shí)用化不斷發(fā)展，正在取代
以往使用的CRT ( Cathode Ray Tube )。例如，有機(jī)電致發(fā)光元件(有 機(jī)EL元件)具有自發(fā)光、高速響應(yīng)等特征，所以作為下一代顯示裝置 用的元件引人注目。此外，有機(jī)EL元件除了顯示裝置以外，有時(shí)也作 為面發(fā)光元件使用。
有機(jī)EL元件是在正電極和負(fù)電極之間夾持包含有機(jī)EL (發(fā)光層) 的有機(jī)層而構(gòu)成的?？昭◤恼姌O向該發(fā)光層注入，電子從負(fù)電極向該 發(fā)光層注入，它們進(jìn)行復(fù)合而發(fā)光。
此外，在有機(jī)層中，按照需要，在正電極和發(fā)光層之間插入空穴輸 送層，并且/或者在負(fù)電極和發(fā)光層之間插入電子輸送層，由此能改善 發(fā)光效率。
形成所述發(fā)光元件的一般方法如下所述。首先，利用蒸鍍法在形成 了由銦錫氧化物(ITO)構(gòu)成的正電極圖案的襯底上形成有機(jī)層。所謂 蒸鍍法，例如是在被處理襯底上淀積蒸發(fā)或者升華了的蒸鍍?cè)隙纬?薄膜的方法。接著，在該有機(jī)層上，通過(guò)蒸鍍法等，形成成為負(fù)電極的 鋁(Al)。
這樣，就形成了在正電極和負(fù)電極之間形成了有機(jī)層的發(fā)光元件 (例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)l)。
圖l是示意地表示構(gòu)成以往的發(fā)光元件的制造裝置的一部分的蒸鍍 裝置的圖。
參照?qǐng)D1，蒸鍍裝置10具有在內(nèi)部劃分了內(nèi)部空間11A的處理容器11。在內(nèi)部空間11A中設(shè)置有蒸鍍?cè)?2、與蒸鍍?cè)?2相對(duì)的襯底保 持臺(tái)15。內(nèi)部空間IIA通過(guò)排氣管14從排氣泵等(未圖示)排氣，保 持預(yù)定的減壓狀態(tài)。
在蒸鍍?cè)?2上設(shè)置有加熱器13，用加熱器13把保持在內(nèi)部的原料 12A加熱。據(jù)此，原料12A蒸發(fā)或者升華，產(chǎn)生氣體原料G。該氣體原 料淀積到保持于襯底保持臺(tái)15的被處理襯底S上。
使用所述成膜裝置10能形成發(fā)光元件的有機(jī)層(發(fā)光層)、有機(jī)層 上的電極等。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本專(zhuān)利申請(qǐng)爿iS開(kāi)公報(bào)第2004-225058號(hào)
可是，在以往的發(fā)光元件的制造裝置中，例如使用蒸鍍法進(jìn)行成膜 時(shí)，為了在被處理襯底上淀積從處理容器內(nèi)的蒸鍍?cè)凑舭l(fā)或者升華的原 料，需要把成膜面朝下(face down)來(lái)保持被處理襯底。因此，在被 處理襯底變大時(shí)，產(chǎn)生了被處理襯底的處理變得困難，發(fā)光元件的生產(chǎn) 性下降的問(wèn)題。
特別是近年來(lái)的平板顯示器逐漸大型化，使用發(fā)光元件(有機(jī)EL 元件)的顯示裝置有大型化的傾向。因此，形成發(fā)光元件的被處理襯底 與此相伴，也存在大型化的傾向，被處理襯底的輸送和安裝等處理變得 曰益困難起來(lái)。
此外，在制造發(fā)光元件的多個(gè)襯底處理步驟中，如果面朝下保持襯 底的處理裝置和面朝上保持襯底的處理裝置混合存在，則被處理襯底的 輸送和處理變得很復(fù)雜，將產(chǎn)生發(fā)光元件的生產(chǎn)性下降，制造成本增大 的問(wèn)題。
另外被處理襯底破損的概率增大，此外，關(guān)于被處理襯底的翹曲量， 也必須予以充分考慮，有可能產(chǎn)生生產(chǎn)性下降的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于，提供解決所述問(wèn)題的新的有用的發(fā)光元 件的制造裝置和發(fā)光元件的制造方法。
本發(fā)明的具體的課題在于，提供能以良好的生產(chǎn)性制造具有包含有
6機(jī)層的多個(gè)層的發(fā)光元件的發(fā)光元件制造裝置、以良好的生產(chǎn)性制造具 有包含有機(jī)層的多個(gè)層的發(fā)光元件的發(fā)光元件制造方法。
本發(fā)明的第1方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，具有進(jìn)行襯底處 理的多個(gè)處理室，該襯底處理用于在被處理襯底上形成具有包含有機(jī)層
的多個(gè)層的發(fā)光元件；該多個(gè)處理室分別構(gòu)成為以被處理襯底的形成 發(fā)光元件的元件形成面朝向與重力方向相反的方向的方式，對(duì)被處理襯 底進(jìn)行預(yù)定的處理。
本發(fā)明的第2方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，是第1方式的發(fā) 光元件的制造裝置，具有連接多個(gè)處理室并且對(duì)多個(gè)處理室輸送被處理 襯底的輸送室，在輸送室中，以被處理襯底的元件形成面朝向與重力方 向相反的方向的方式保持并輸送被處理襯底。
本發(fā)明的第3方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，是第2方式的發(fā) 光元件的制造裝置，還具有多個(gè)輸送室。
本發(fā)明的第4方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，是第1~第3方式 中的任意一個(gè)方式的發(fā)光元件的制造裝置，多個(gè)處理室包括用于進(jìn)行 有機(jī)層的成膜的有機(jī)層成膜室、用于進(jìn)行對(duì)有機(jī)層施加電壓的電極的成 膜的電極成膜室。
本發(fā)明的第5方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，是第4方式的發(fā) 光元件的制造裝置，有機(jī)層成膜室構(gòu)成為具有多層構(gòu)造的有機(jī)層通過(guò) 蒸鍍法連續(xù)地成膜，該多層構(gòu)造包括通過(guò)施加電壓而發(fā)光的發(fā)光層。
本發(fā)明的第6方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，是第5方式的發(fā) 光元件的制造裝置，在有機(jī)層成膜室中設(shè)置有保持被處理襯底的保持 臺(tái)、把用于蒸鍍的多個(gè)成膜原料氣體提供到被處理襯底上的多個(gè)成膜原 料氣體供給部。
本發(fā)明的第7方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，是第6方式的發(fā) 光元件的制造裝置，具有使蒸鍍的原料蒸發(fā)或升華而生成成膜原料氣 體的成膜原料氣體生成部；從成膜原料氣體生成部對(duì)成膜原料氣體供給 部輸送成膜原料氣體的輸送路。
本發(fā)明的第8方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，是第7方式的發(fā)光元件的制造裝置，分別具有與多個(gè)成膜原料氣體供給部對(duì)應(yīng)的多個(gè)成 膜原料氣體生成部和多個(gè)輸送路。
本發(fā)明的第9方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，是第8方式的發(fā) 光元件的制造裝置，保持臺(tái)與成膜對(duì)應(yīng)地沿著多個(gè)成膜原料氣體供給部 的排列來(lái)移動(dòng)。
本發(fā)明的第10方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，是第4 第9方 式中的任意一個(gè)方式的發(fā)光元件的制造裝置，電極成膜室構(gòu)成為通過(guò) 使用彼此相對(duì)的2個(gè)靶的濺射法來(lái)進(jìn)行電極的成膜。
本發(fā)明的第11方式提供一種發(fā)光元件的制造裝置，是第4~第10 方式中的任意一個(gè)方式的發(fā)光元件的制造裝置，多個(gè)處理室包括用于蝕 刻有機(jī)層而形成圖案的蝕刻室。
本發(fā)明的第12方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，在被處理襯底 的元件形成面上形成具有包含有機(jī)層的多個(gè)層的發(fā)光元件，具有在多 個(gè)處理室中分別實(shí)施的多個(gè)襯底處理步驟。在多個(gè)處理室中，以被處理 襯底的形成元件的面朝向與重力方向相反的方向的方式保持被處理襯 底，對(duì)該,皮處理襯底進(jìn)4于襯底處理。
本發(fā)明的第13方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，是第12方式的 發(fā)光元件的制造方法，在連接在多個(gè)處理室上，把被處理襯底輸送到多 個(gè)處理室中的輸送室中，以被處理襯底的元件形成面朝向與重力方向相 反的方向的方式保持并輸送被處理襯底。
本發(fā)明的第14方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，是第13方式的 發(fā)光元件的制造方法，被處理襯底通過(guò)多個(gè)輸送室輸送到多個(gè)處理室。
本發(fā)明的第15方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，是第12 第14 方式中的任意一個(gè)方式的發(fā)光元件的制造方法，多個(gè)襯底處理步驟包 括用于進(jìn)行有機(jī)層的成膜的有機(jī)層成膜步驟、用于進(jìn)行對(duì)有機(jī)層施加 電壓的電極的成膜的電極成膜步驟。
本發(fā)明的第16方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，是第15方式的 發(fā)光元件的制造方法，在有機(jī)層成膜步驟中，具有多層構(gòu)造的有機(jī)層通 過(guò)蒸鍍法連續(xù)地成膜，該多層構(gòu)造包含通過(guò)施加電壓而發(fā)光的發(fā)光層。本發(fā)明的第17方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，是第16方式的 發(fā)光元件的制造方法，在有機(jī)層成膜步驟中，通過(guò)成膜處理室進(jìn)行有機(jī) 層的成膜，該成膜處理室具有用于保持被處理襯底的保持臺(tái)、把用于 蒸鍍的多個(gè)成膜原料氣體提供到被處理襯底上的多個(gè)成膜原料氣體供 給部。
本發(fā)明的第18方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，是第17方式的 發(fā)光元件的制造方法，從使蒸鍍的原料蒸發(fā)或升華而生成成膜原料氣體 的成膜原料氣體生成部，通過(guò)輸送成膜原料氣體的輸送路向多個(gè)成膜原 料氣體供給部供給成膜原料氣體。
本發(fā)明的第19方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，是第18方式的 發(fā)光元件的制造方法，從多個(gè)成膜原料氣體生成部，通過(guò)多個(gè)輸送路向 對(duì)應(yīng)的多個(gè)成膜原料氣體供給部，分別供給多個(gè)成膜原料氣體。
本發(fā)明的第20方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，是第19方式的 發(fā)光元件的制造方法，與成膜對(duì)應(yīng)地沿著多個(gè)成膜原料氣體供給部的排 列來(lái)移動(dòng)保持臺(tái)。
本發(fā)明的第21方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，是第15~第20 方式中的任意一個(gè)方式的發(fā)光元件的制造方法，在電極成膜步驟中，通 過(guò)使用彼此相對(duì)的2個(gè)靶的濺射法，進(jìn)行電極的成膜。
本發(fā)明的第22方式提供一種發(fā)光元件的制造方法，是第12 第21 中的任意一個(gè)方式的發(fā)光元件的制造方法，多個(gè)襯底處理步驟包括用于 蝕刻有機(jī)層而形成圖案的蝕刻步驟。
根據(jù)本發(fā)明，能提供能以良好的生產(chǎn)性制造具有包含有機(jī)層的多個(gè) 層的發(fā)光元件的發(fā)光元件制造裝置、以良好的生產(chǎn)性制造具有包含有機(jī) 層的多個(gè)層的發(fā)光元件的發(fā)光元件制造方法。


圖l是以往的發(fā)光元件的制造裝置的例子。
圖2 (A) ~ (C)是表示實(shí)施例1的發(fā)光元件的制造方法的一部分 的圖。
9圖3 (D) ~ (E)是表示實(shí)施例1的發(fā)光元件的制造方法的另一部 分的圖。
圖4 (F) ~ (G)是表示實(shí)施例1的發(fā)光元件的制造方法的又一部 分的圖。
圖5是表示實(shí)施例1的發(fā)光元件的制造裝置的一個(gè)例子的圖。 圖6是表示實(shí)施例1的發(fā)光元件的制造裝置的其他例子的圖。 圖7是表示實(shí)施例1的發(fā)光元件的制造裝置的其他例子的圖。 圖8是表示實(shí)施例1的發(fā)光元件的制造裝置的其他例子的圖。 圖9是表示實(shí)施例1的發(fā)光元件的制造裝置的其他例子的圖。 圖IO是表示實(shí)施例1的發(fā)光元件的制造裝置的一個(gè)布局的圖。 圖11是表示實(shí)施例2的發(fā)光元件的制造裝置的其它布局的圖。 圖12是表示實(shí)施例3的發(fā)光元件的制造裝置的又一布局的圖。 符號(hào)說(shuō)明
200-發(fā)光元件;201-襯底;201A-元件形成面;202畫(huà)陽(yáng)極;203-引出 線；204-有機(jī)層;205畫(huà)陰極;205a-引出線;206、 206a畫(huà)保護(hù)層;EL1、 SP1、 SP2、 SP3、 ET1、 CVD1、 CVD2畫(huà)處理室；CLN1、 CLN2畫(huà)清潔處 理室；Ml、 M2、 M3、 M4-掩模輸送室；Ll、 L2、 L3、 L4-加載互鎖室； TM1、 TM2、 TM3、 TM4、 TM5、 TM6、 TM7、 TM8、 TM1A、 TM2A、 TM3A-輸送室
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖，說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。
本發(fā)明的實(shí)施方式的發(fā)光元件的制造裝置具有進(jìn)行襯底處理的多 個(gè)處理室，該襯底處理用于在襯底上形成具有包含有機(jī)層的多個(gè)層的發(fā) 光元件。在這些多個(gè)處理室中，以被處理襯底的形成發(fā)光元件的元件形 成面朝向與重力方向相反的方向的方式保持被處理襯底，進(jìn)行預(yù)定的襯底處理。
因此，在本發(fā)明的實(shí)施方式的發(fā)光元件的制造裝置中，在多個(gè)處理 室中，能在以所謂面朝上的方式保持被處理襯底的狀態(tài)下，形成發(fā)光元 件。因此，對(duì)于所述發(fā)光元件的制造裝置而言，特別是應(yīng)對(duì)大型的被處 理襯底變得容易。
在所述發(fā)光元件的制造裝置中，沒(méi)必要面朝下保持被處理襯底，所
以不需要靜電保持機(jī)構(gòu)(例如，靜電吸盤(pán)(ESC))等抵抗重力來(lái)保持 被處理襯底的機(jī)構(gòu)。在發(fā)光元件的制造工序中，使用這樣的制造裝置時(shí)， 面朝下保持襯底的裝置和面朝上保持襯底的裝置不會(huì)混合存在，所以不 需要把被處理襯底翻面等的動(dòng)作，將減少大型被處理襯底破損的概率。 不必過(guò)度擔(dān)心大型被處理襯底的翹曲量，能改善使用大型被處理襯底的 發(fā)光元件的生產(chǎn)性。
此外，在本說(shuō)明書(shū)中，所謂"面朝上處理"意思是在以被處理襯 底的形成發(fā)光元件的元件形成面朝向與重力方向相反的方向的方式對(duì) 處理襯底進(jìn)行處理的狀態(tài)下，進(jìn)行襯底處理。即、在成膜、蝕刻、表面 處理和其它襯底處理中，將以被處理襯底的處理面朝向與重力方向相反 的方向(在處理室內(nèi)朝上)的方式保持被處理襯底稱(chēng)作面朝上成膜、面 朝上蝕刻等，此外，還稱(chēng)作"面朝上保持襯底"。
在所述發(fā)光元件的制造裝置中，例如在實(shí)施蒸鍍法的處理室(成膜 室)中，使用于成膜的原料蒸發(fā)或升華，生成氣體狀的成膜原料，并輸 送成膜原料，提供到被處理襯底上，可以面朝上處理(面朝上成膜)。 在后面描述這樣的制造裝置。
下面，根據(jù)附圖，按步驟來(lái)說(shuō)明基于所述制造裝置的發(fā)光元件的制 造方法。
此外，本發(fā)明的發(fā)光元件的制造裝置并不局限于所述的構(gòu)造，能進(jìn) 行各種變形和變更。
圖11是示意地表示本發(fā)明實(shí)施例2的發(fā)光元件的制造裝置2的布 局的圖。對(duì)先前說(shuō)明過(guò)的部分賦予相同的符號(hào)，省略說(shuō)明。參照?qǐng)Dll， 本實(shí)施例的發(fā)光元件的制造裝置2，從上方觀察時(shí)，相當(dāng)于實(shí)施例l的 輸送室TM1的輸送室TM1A為五邊形。此外在輸送室TM1A上，與輸 送室TM1時(shí)一樣，連接有加載互鎖室Ll、清潔處理室CLN1、 CLN2 以及處理室EL1。
任任意
的的任此外，相當(dāng)于實(shí)施例1的輸送室TM2、 TM3的輸送室TM2A、 TM3A，與輸送室TM1A—樣，從上方觀察時(shí)為五邊形。連接在輸送室 上的處理室與實(shí)施例1時(shí)一樣。即、在輸送室TM2A上連接有處理室 EL1、 SP1、 SP2、掩模輸送室Ml、加載互鎖室L2。此外，在輸送室 TM3上連接有處理室ET1、 SP3、掩模輸送室M2、加載互鎖室L2、 L3。
在本實(shí)施例的發(fā)光元件的制造裝置2中，與實(shí)施例1的發(fā)光元件的 制造裝置1時(shí)一樣，也能進(jìn)行發(fā)光元件的制造，取得與實(shí)施例1時(shí)同樣 的效果。本實(shí)施例時(shí)，輸送室的形狀不同，所以多個(gè)輸送室(輸送室 TM1A、 TM2A、 TM3A、 TM4)不是排列在直線上。這樣，并不局限 于多個(gè)輸送室排列在直線上的情形，能進(jìn)行各種配置來(lái)構(gòu)成發(fā)光元件的 制造裝置。
圖12是示意地表示本發(fā)明實(shí)施例3的發(fā)光元件的制造裝置3的布 局的圖。對(duì)先前說(shuō)明過(guò)的部分賦予相同的符號(hào)，省略說(shuō)明。參照?qǐng)D12， 在本實(shí)施例的發(fā)光元件的制造裝置3中，從上方觀察時(shí)，分別相當(dāng)于實(shí) 施例1的輸送室TM1、 TM2、 TM3、 TM4的輸送室TM5、 TM6、 TM7、 TM8為八邊形。連接在各輸送室TM6 TM8上的處理室與實(shí)施例1的 輸送室TM1 TM4時(shí)一樣。
在輸送室TM5上連接有加載互鎖室Ll、清潔處理室CLN1、CLN2、 處理室EL1。在輸送室TM6上連接有處理室EL1、 SP1、 SP2、掩模輸 送室M1、加載互鎖室L2。在輸送室TM7上連接有處理室ET1、 SP3、 掩模輸送室M2、加載互鎖室L2、 L3。此外，在輸送室TM8上分別連 接有處理室CVD1、 CVD2、掩模處理室M3、 M4、加載互鎖室L3、 L4。
本實(shí)施例的發(fā)光元件的制造裝置3，與實(shí)施例1的發(fā)光元件的制造 裝置1時(shí)一樣，也能進(jìn)行發(fā)光元件的制造，產(chǎn)生與實(shí)施例1時(shí)同樣的效 果。
這樣，輸送室的形狀或者在輸送室的連接面上連接的處理室的位置 能進(jìn)行各種變形和變更。此外，所連接的處理室的個(gè)數(shù)可鑒于生產(chǎn)性和 制造裝置的成本，進(jìn)行各種變更。以上，針對(duì)優(yōu)選實(shí)施例說(shuō)明了本發(fā)明，但是，本發(fā)明并不局限于所 述特定實(shí)施例，在權(quán)利要求書(shū)中記載的要旨內(nèi)能進(jìn)行各種變形和變更。
產(chǎn)業(yè)可利用性
根據(jù)本發(fā)明，可提供能以良好的生產(chǎn)性制造具有包含有機(jī)層的多個(gè) 層的發(fā)光元件的發(fā)光元件制造裝置、以良好的生產(chǎn)性制造具有包含有機(jī) 層的多個(gè)層的發(fā)光元件的發(fā)光元件制造方法。
本國(guó)際申請(qǐng)主張基于2006年6月14日提出申請(qǐng)的日本專(zhuān)利申請(qǐng)第 2006-164965號(hào)的優(yōu)先權(quán)，在這里引用其全部?jī)?nèi)容。
權(quán)利要求
1. 一種發(fā)光元件的制造裝置，具有進(jìn)行襯底處理的多個(gè)處理室，該襯底處理用于在被處理襯底上形成具有包含有機(jī)層的多個(gè)層的發(fā)光元件；所述多個(gè)處理室分別構(gòu)成為以所述被處理襯底的形成所述發(fā)光元件的元件形成面朝向與重力方向相反的方向的方式，對(duì)所述被處理襯底進(jìn)行預(yù)定的處理。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，具有連接在所述多個(gè)處理室上、對(duì)所述多個(gè)處理室輸送所述被處理襯底的輸送室；在所述輸送室中，以所述被處理襯底的所述元件形成面朝向與重力方向相反的方向的方式保持并輸送所述被處理襯底。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，具有多個(gè)所述輸送室。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，所述多個(gè)處理室包括用于進(jìn)行所述有機(jī)層的成膜的有機(jī)層成膜室；以及用于進(jìn)行對(duì)所述有機(jī)層施加電壓的電極的成膜的電極成膜室。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，所述有機(jī)層成膜室構(gòu)成為具有多層構(gòu)造的有機(jī)層通過(guò)蒸鍍法連續(xù)地成膜，該多層構(gòu)造包含通過(guò)施加電壓而發(fā)光的發(fā)光層。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，所述有機(jī)層成膜室設(shè)置有保持所述被處理襯底的保持臺(tái)；以及把用于蒸鍍的多個(gè)成膜原料氣體供給到所述被處理襯底上的多個(gè)成膜原料氣體供給部。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，具有使蒸鍍的原料蒸發(fā)或升華而生成所述成膜原料氣體的成膜原料氣體生成部；以及成膜原料氣體的輸送路。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，分別具有與多個(gè)所述成膜原料氣體供給部對(duì)應(yīng)的多個(gè)所述成膜原料氣體生成部和多個(gè)所述輸送路。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，所述保持臺(tái)構(gòu)成為沿著所述多個(gè)成膜原料氣體供給部的排列方向移動(dòng)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求4 9中任意一項(xiàng)所述的發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，在所述電極成膜室中構(gòu)成為通過(guò)使用彼此相對(duì)的2個(gè)靶的濺射法，進(jìn)行所述電極的成膜。
11. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，所述多個(gè)處理室包括用于蝕刻所述有機(jī)層而形成圖案的蝕刻室。
12. —種發(fā)光元件的制造方法，在被處理襯底的元件形成面上形成具有包含有機(jī)層的多個(gè)層的發(fā)光元件，具有在多個(gè)處理室中分別實(shí)施的多個(gè)襯底處理步驟；在所述多個(gè)處理室中，以所述元件形成面朝向與重力方向相反的方向的方式對(duì)所述被處理襯底進(jìn)行處理。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，在連接在多個(gè)處理室上、把所述被處理襯底輸送到所述多個(gè)處理室中的輸送室中，以所述元件形成面朝向與重力方向相反的方向的方式保持并輸送所述被處理襯底。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，所述被處理襯底通過(guò)多個(gè)所述輸送室被輸送到多個(gè)所述處理室。
15. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，所述多個(gè)襯底處理步驟包括用于進(jìn)行所述有機(jī)層的成膜的有機(jī)層成膜步驟；以及用于進(jìn)行對(duì)所述有機(jī)層施加電壓的電極的成膜的電極成膜步驟。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，在所述有機(jī)層成膜步驟中，所述有機(jī)層通過(guò)蒸鍍法連續(xù)地成膜，該 有機(jī)層具有包含通過(guò)施加電壓而發(fā)光的發(fā)光層的多層構(gòu)造。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，在所述有機(jī)層成膜步驟中，通過(guò)成膜處理室來(lái)進(jìn)行所述有機(jī)層的成 膜，該成膜處理室具有用于保持所述被處理襯底的保持臺(tái)、以及把用氣體供給部。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，從使蒸鍍的原料蒸發(fā)或升華而生成所述成膜原料氣體的成膜原料 氣體生成部，通過(guò)輸送該成膜原料氣體的輸送路向所述多個(gè)成膜原料氣 體供給部供給所述成膜原料氣體。
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，從多個(gè)所述成膜原料氣體生成部，通過(guò)多個(gè)所述輸送路向?qū)?yīng)的多 個(gè)所述成膜原料氣體供給部，分別供給多個(gè)所述成膜原料氣體。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的發(fā)光元件的制造方法，其特征在于， 沿著所述多個(gè)成膜原料氣體供給部的排列來(lái)移動(dòng)所述保持臺(tái)。
21. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，在所述電極成膜步驟中，通過(guò)使用彼此相對(duì)的2個(gè)靶的濺射法，進(jìn) 行所述電極的成膜。
22. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，所述多個(gè)襯底處理步驟包括用于蝕刻所述有機(jī)層而形成圖案的蝕 刻步驟。
全文摘要
公開(kāi)了一種發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于具有進(jìn)行襯底處理的多個(gè)處理室，該襯底處理用于在被處理襯底上形成具有包含有機(jī)層的多個(gè)層的發(fā)光元件；多個(gè)處理室分別構(gòu)成為以被處理襯底的形成發(fā)光元件的元件形成面朝向與重力方向相反的方向的方式，進(jìn)行被處理襯底的襯底處理。
文檔編號(hào)H05B33/10GK101467493SQ20078002179
公開(kāi)日2009年6月24日 申請(qǐng)日期2007年6月13日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月14日
發(fā)明者八木靖司, 吉野公彥, 大見(jiàn)忠弘, 河村忠一, 渡邊伸吾, 野沢俊久 申請(qǐng)人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社;國(guó)立大學(xué)法人東北大學(xué)