專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板處理裝置，具體地說，將用于進行顯像、蝕刻、剝離工序的處理部和儲存部構(gòu)成一體結(jié)構(gòu)，并在內(nèi)部設(shè)置用于循環(huán)藥液的抽吸裝置，從而提高處理效率的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
通常，顯示器裝置制作工序中，在玻璃基板上形成電路圖的工序由以下工序組成在基板表面涂敷感光樹脂(photosensitive-polymer)，形成感光膜的工序；通過一定的電路圖案將感光膜曝光、顯像的工序；蝕刻基板表面的工序；蝕刻工序之后利用有機溶劑等進行剝離的工序。
這些顯示器裝置制作工序中，上述蝕刻工序分為濕法蝕刻和干式蝕刻工序。
即，濕法蝕刻是利用化學(xué)溶液進行蝕刻的工序，而干式蝕刻是利用等離子體等氣體進行蝕刻的工序。
這種濕法蝕刻及剝離裝置，通常由以下部分組成進行蝕刻及剝離工序的處理部；獨立于上述處理部設(shè)置，且儲存藥液的儲存部；連接儲存部，并向處理部供應(yīng)藥液的泵。
因此，對基板進行蝕刻及剝離工序時，通過泵將儲存在儲存部的藥液供應(yīng)至處理部，并進行處理工序。
但是，這種基板處理裝置中，泵和處理部分開設(shè)置，以此來循環(huán)藥液，因此在藥液循環(huán)過程中易發(fā)生熱損失，在蝕刻工序中藥液難以維持適當(dāng)?shù)臏囟取?br> 而且，泵與處理部的分開設(shè)置，會導(dǎo)致藥液循環(huán)過程中藥液泄漏的問題。
另外，儲存部與處理部的分開設(shè)置，需要增加用于設(shè)置儲存部的空間，因此增加了設(shè)備的體積。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述問題而作，其目的在于提供一種將用于抽吸藥液的泵設(shè)置在與處理部構(gòu)成一體結(jié)構(gòu)的儲存部內(nèi)部，從而使藥液循環(huán)過程中發(fā)生的熱損失達到最少而可維持蝕刻工序中所需溫度的基板處理裝置。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種使泵與儲存部成為一體結(jié)構(gòu)，從而可防止藥液在循環(huán)過程中泄漏的基板處理裝置。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種通過縮小儲存部的占有空間而提高空間利用率，并使各個浴槽成為模塊化，從而可迅速對應(yīng)工序變化的基板處理裝置。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種可減少電機驅(qū)動時的震動，從而可提高工藝穩(wěn)定性的基板處理裝置。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種基板處理裝置，其包括
供應(yīng)基板的箱體；與上述箱體的上部構(gòu)成一體結(jié)構(gòu)，并對上述基板進行藥液處理工序的處理部；與上述箱體的下部構(gòu)成一體結(jié)構(gòu)，并儲存上述藥液處理工藝所需藥液的儲存部；位于上述儲存部的內(nèi)部，并將藥液循環(huán)至上述處理部的抽吸裝置；以及連接于上述抽吸裝置，并將抽吸到的藥液噴射至上述處理部中基板的噴射部。
本發(fā)明具有如下優(yōu)點。
第一，由于在儲存部的內(nèi)部一體形成用于抽出藥液的抽吸裝置，因此可使藥液循環(huán)時所發(fā)生的熱損失及壓力下降，以此維持適合進行蝕刻工序的藥液溫度和壓力，從而具有可防止產(chǎn)生污垢、提高反應(yīng)性的優(yōu)點。
第二，由于抽吸裝置設(shè)置在儲存部內(nèi)部，因此可防止藥液在循環(huán)過程中的泄漏。
第三，由于儲存部和處理部一體形成，因此縮小了儲存部的占有空間，隨此提高了空間利用率，而且由于每個浴槽成為模塊化，因此可迅速對應(yīng)工序變化。
第四，降低了因電機驅(qū)動而產(chǎn)生的震動，從而可增加工藝穩(wěn)定性。
第五，通過將處理部、儲存部、抽吸裝置構(gòu)成一體結(jié)構(gòu)，可縮小設(shè)備體積而節(jié)省制作費用。


圖1是表示本發(fā)明的優(yōu)選實施例的用于濕法蝕刻及剝離工序的基板處理裝置內(nèi)部結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖2是圖1的側(cè)面剖視圖。
圖3是圖2中抽吸裝置的放大圖。
具體實施例方式
下面，參照附圖詳細說明本發(fā)明的優(yōu)選實施例所涉及的基板處理裝置。
圖1是表示本發(fā)明的優(yōu)選實施例的用于濕法蝕刻及剝離工序的基板處理裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)立體圖，圖2是圖1的側(cè)面剖視圖。
如圖所示，本發(fā)明所提供的基板處理裝置可適用于各種不同的基板處理工序，但是常用于進行顯像工序、濕法蝕刻工序及剝離工序的裝置，因此，下面按照適用于顯像、蝕刻及剝離工序的實施例來進行說明。
本發(fā)明提供的基板處理裝置，包括箱體3，其內(nèi)部分為上下部分；處理部5，其位于所述箱體3的上部，進行藥液處理工序；儲存部7，其與所述箱體3的下部構(gòu)成一體，并儲存藥液；抽吸裝置15，其位于所述儲存部7的內(nèi)部，將藥液抽吸至上述處理部5；噴射部11，其連接于上述抽吸裝置15，并將抽吸到的藥液噴射到處理部5中的基板G上。
具有上述結(jié)構(gòu)的基板處理裝置中，上述箱體3在其內(nèi)部具有一定的空間，并且其內(nèi)部由分隔板9分成上下部分。
即，分隔板9的上部設(shè)置有處理部5，分隔板9的下部設(shè)置有儲存部7。
而且，在上述處理部5的內(nèi)部設(shè)置有支撐并傳送基板G的傳送滾輪R。因此，通過箱體3的一側(cè)上具備的進料口14，基板G可以傳送至處理部5內(nèi)部。
另外，上述儲存部7與處理部5的下部為一體結(jié)構(gòu)，用以儲存由處理部5供應(yīng)的藥液。
此時，區(qū)分上述處理部5和儲存部7的分隔板9上，具備形成有若干個貫通孔的開口部13，因此可使處理部5中的藥液滴落到儲存部7中。
如此，處理部5與儲存部7成為一體的結(jié)構(gòu)，可減少處理部和儲存部獨立設(shè)置的現(xiàn)有技術(shù)中，用來設(shè)置儲存部7的另外空間。
而且，通過把處理部5和儲存部7形成一體，使處理生產(chǎn)線的浴槽成為模塊化，由此可靈活地對應(yīng)工藝變化。
上述內(nèi)容中，箱體內(nèi)部分為上下部分，但是本發(fā)明并不局限于此，還可以采用將箱體內(nèi)部分為左右部分，或省略分隔板的實施方式。
所述儲存部7中具有藥液循環(huán)管，因此可適當(dāng)更換被污染的藥液。所述藥液循環(huán)管包括位于儲存部7的兩側(cè)的流入管27和流出管25，所述流入管27和流出管25分別連接有閥門26a、26b，因此可進行開閉操作。
因此，當(dāng)更換因長時間的使用而被污染的藥液時，可通過該流入管27和流出管25更換新的藥液。
此時，可同時具備上述流入管27和流出管25，或具備其中之一。
如上所述，儲存部7所儲存的藥液可通過上述抽吸裝置15供應(yīng)至處理部5。
上述抽吸裝置15由安裝在儲存部7內(nèi)部的泵17和，位于上述箱體3的外部、并通過磁力以非接觸方式向泵17傳遞旋轉(zhuǎn)力的磁性驅(qū)動部構(gòu)成。
更詳細地說，如圖3所示，上述的泵17通常包括外部經(jīng)過耐化學(xué)性涂敷處理的特氟隆泵或FRP泵等化工泵。
上述泵17包括殼體31，其位于儲存部7的內(nèi)底部；轉(zhuǎn)軸37，可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在上述殼體31的內(nèi)部；葉輪35，其安裝于上述轉(zhuǎn)軸37上，并且在上述磁性驅(qū)動部19傳遞磁力的情況下，進行轉(zhuǎn)動而產(chǎn)生吸力；第1磁板42，位于上述轉(zhuǎn)軸37上，并從磁性驅(qū)動部19接受磁力。
具有上述結(jié)構(gòu)的泵中，上述殼體31，在其入口處具有吸入藥液的吸入口21，且在出口處具有將殼體31內(nèi)部的藥液排出到外部的排出口33。
因此，儲存部7的藥液可通過上述殼體31的吸入口21吸入后，通過排出口33排出到上述噴射部11。
另外，上述轉(zhuǎn)軸37的上端部分，由軸承39可旋轉(zhuǎn)地固定在位于殼體31頂部的肋條38的內(nèi)部。而且，上述轉(zhuǎn)軸37的下端部分，由肋條40和軸承41可旋轉(zhuǎn)地固定在殼體31的底部。
因此，上述轉(zhuǎn)軸37可在殼體31內(nèi)部旋轉(zhuǎn)。
另外，上述轉(zhuǎn)軸37的中間部分具有與其構(gòu)成一體的上述葉輪35，且下端部分具有上述第1磁板42。
此時，上述第1磁板42配置成與在后敘述的第2磁板43隔著箱體3互相對應(yīng)的結(jié)構(gòu)。
因此，磁性驅(qū)動部19的第2磁板產(chǎn)生的磁力穿過箱體3，以非接觸方式傳遞給第1磁板42時，葉輪35會轉(zhuǎn)動。
如上所述，當(dāng)葉輪35轉(zhuǎn)動時，葉輪35將會推開殼體31內(nèi)部的藥液而產(chǎn)生一定壓力的吸力，以此經(jīng)過吸入口21吸入儲存部7中的藥液，而吸入的藥液通過排出口33排出到上述噴射部11。
另外，上述磁性驅(qū)動部19連接于產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)力的電機組20和上述電機組20的轉(zhuǎn)軸，并且包括產(chǎn)生磁力且傳遞給上述葉輪35的第2磁板43。
上述的第1磁板42及第2磁板43最好包括磁鐵等磁性體，并且如上所述，兩磁板呈以箱體3為中心，在箱體3的外部及內(nèi)部相隔一定距離互相對應(yīng)的非接觸結(jié)構(gòu)。
另外，上述第1磁板42及第2磁板43，兩個都可以是磁性體，或者也可以是只有第2磁板43為磁性體。此時，磁性體可以是永久磁鐵或電磁鐵。
因此，當(dāng)?shù)?磁板43由電機組19進行轉(zhuǎn)動時，磁力將穿過箱體3，以非接觸方式傳遞到第1磁板42上。
結(jié)果，向葉輪35傳遞動力的過程中可防止因接觸而產(chǎn)生的噪音，而且無需在箱體3上形成連接口等，因此還可防止藥液泄漏。
以上，針對適用磁性驅(qū)動部而以非接觸方式驅(qū)動泵的實施例進行了說明，但是本發(fā)明并不局限于此，本發(fā)明也可采用在箱體內(nèi)部安裝通常的電機組，并將此電機組直接連接泵，并以此來驅(qū)動泵的方式。當(dāng)然，這種情況下所述的電機組應(yīng)具備防水功能。
另外，從上述泵17的排出口33排出的藥液通過上述噴射部11供應(yīng)至處理部5。
上述噴射部11包括通常的公知結(jié)構(gòu)噴射裝置。
即，其結(jié)構(gòu)由連接于泵17的排出口33的輸送管23、供應(yīng)藥液的噴射管45、形成在噴射管45上的多個噴嘴47構(gòu)成。
因此，經(jīng)由噴射管45供應(yīng)的藥液通過噴嘴47噴射，從而供應(yīng)到基板G的表面，以進行處理。
下面，參照附圖，進一步詳細說明本發(fā)明的優(yōu)選實施例所涉及的基板處理裝置的工作過程。
如圖1至圖3所示，利用本發(fā)明提供的基板處理裝置對基板G進行顯像、蝕刻及剝離工序時，首先利用傳送滾輪R將基板G移送至箱體3的內(nèi)部。
之后，驅(qū)動抽吸裝置15抽出存儲在儲存部7內(nèi)的一定水位的藥液，并將其噴射到處理部5的基板G上。
即，當(dāng)驅(qū)動上述抽吸裝置15的磁性驅(qū)動部19時，第2磁板43就會轉(zhuǎn)動，而磁力穿過箱體3，以非接觸方式傳遞給第1磁板42，以此使葉輪35轉(zhuǎn)動。
如上所述，當(dāng)葉輪35在殼體31內(nèi)部，以一定速度轉(zhuǎn)動時，因殼體31內(nèi)部處于存有藥液的狀態(tài)，因此葉輪35就會推開這些藥液，使殼體31內(nèi)部產(chǎn)生負(fù)壓。
隨此，通過殼體31的吸入口21，藥液被吸入到殼體31內(nèi)部，而被吸入的藥液可排出到殼體31外部。
被排出的藥液通過噴射部11的輸送管23供應(yīng)至噴射管45，而供應(yīng)至噴射管45的藥液通過多個噴嘴47噴射在基板G的表面，以此對基板G可進行蝕刻及剝離處理。
如此，噴射在處理部5內(nèi)部的藥液對基板進行處理之后，便通過分隔板9的開口部13滴落而重新回到下部的儲存部7。之后，再重復(fù)進行通過抽吸裝置15被抽吸，并供應(yīng)至處理部5的上述過程。
只要是在本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有普通技術(shù)水平的人，都可以在本發(fā)明技術(shù)思想的基礎(chǔ)上，對本發(fā)明進行各種變更及修改，因此本發(fā)明所要求保護的范圍并不局限于上述較佳實施例。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，包括供應(yīng)基板的箱體；與上述箱體的上部是一體結(jié)構(gòu)，并對上述基板進行藥液處理工序的處理部；與上述箱體的下部是一體結(jié)構(gòu)，并儲存上述藥液處理工序中所需藥液的儲存部；位于上述儲存部的內(nèi)部，并將藥液循環(huán)至上述處理部的抽吸裝置；以及連接于上述抽吸裝置，并將藥液噴射至上述處理部上基板的噴射部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于上述箱體內(nèi)部由分隔板分為上下部分，上部為處理部，下部為儲存部，而且上述分隔板的一部分上設(shè)有開口部，從而使藥液從處理部供應(yīng)至儲存部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于上述抽吸裝置包括，位于上述儲存部的內(nèi)部、并用于抽出藥液的泵；位于上述箱體的外部、并通過磁力以非接觸方式向上述泵傳遞旋轉(zhuǎn)力的磁性驅(qū)動部。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于上述泵包括，位于儲存部底部的殼體；可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在上述殼體內(nèi)部的轉(zhuǎn)軸；設(shè)置在上述轉(zhuǎn)軸上，并通過旋轉(zhuǎn)運動吸入流體的葉輪；位于上述轉(zhuǎn)軸的葉輪上，并從上述磁性驅(qū)動部接受磁力而使轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的第1磁板。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于上述泵的外部進行了耐化學(xué)性涂敷處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于上述泵的殼體包括，形成在其一側(cè)、并使藥液流入的吸入口；形成在上述吸入口的另一側(cè)，并用于使流入殼體內(nèi)部的藥液排出至處理部方向的排出口。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于上述轉(zhuǎn)軸的上端及下端各自被肋條和軸承支撐在殼體的頂部和底部，并以此來可旋轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于上述磁性驅(qū)動部包括，通過接受電能而產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)力的電機組；設(shè)置在上述電機組的轉(zhuǎn)軸上，并施加磁力而使上述泵的第1磁板旋轉(zhuǎn)的第2磁板。
9.根據(jù)權(quán)利要求4或8所述的基板處理裝置，其特征在于上述的第1磁板及第2磁板的兩側(cè)或者其中一側(cè)為磁性體。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于上述噴射部包括，連接于上述抽吸裝置的輸送管；連接于上述輸送管，并供應(yīng)藥液的噴射管；位于上述噴射管并向基板噴射藥液的噴嘴。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于上述箱體的儲存部多設(shè)有藥液更換管，由此可以更換上述儲存部內(nèi)的藥液。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于濕法蝕刻及剝離工序的基板處理裝置。所述基板處理裝置包括供應(yīng)基板的箱體；與上述箱體的上部是一體結(jié)構(gòu)，并對上述基板進行藥液處理工序的處理部；與上述箱體的下部是一體結(jié)構(gòu)，并儲存上述藥液處理工序中所需藥液的儲存部；位于上述儲存部的內(nèi)部，并將藥液循環(huán)至上述處理部的抽吸裝置；以及連接于上述抽吸裝置、并將藥液噴射至上述處理部中基板的噴射部。
文檔編號H05K3/06GK1925723SQ20061012770
公開日2007年3月7日 申請日期2006年8月30日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月31日
發(fā)明者樸庸碩 申請人:顯示器生產(chǎn)服務(wù)株式會社