專利名稱：可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于光學晶體生長設備技術領域。
背景技術：
在現(xiàn)有技術中，高頻或者中頻感應真空晶體生長爐是由爐體、爐門構成，爐中有感應線圈，另有抽真空裝置。盛有生長晶體用的原料的坩堝置于感應線圈中，坩堝由金屬制作，通過感應而發(fā)熱，給其中的原料加熱。生長爐工作時，爐門緊閉，爐內抽真空。爐門由金屬制作，有循環(huán)水冷卻。爐門中部安裝有觀察窗，就是一塊在垂直方向上鑲嵌在爐門上的條狀玻璃，操作者透過該觀察窗隨時掌握爐內的情況，控制晶體的生長全過程。

發(fā)明內容
現(xiàn)有技術存在的問題是，有些生長晶體的原料在真空下加熱會產生非常嚴重的揮發(fā)，部分揮發(fā)物粘附在觀察窗內側表面上，嚴重影響視線。而在生長過程中由于爐內呈真空狀態(tài)，不能打開爐門清理觀察窗上的揮發(fā)物。為了能夠在真空晶體生長爐工作過程中隨時清理觀察窗內側表面粘附的揮發(fā)物，我們設計了本實用新型之可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗。
本實用新型是這樣實現(xiàn)的，見圖1、圖2所示，在爐門1中部垂直方向上開出條狀窗口，鑲嵌觀察窗玻璃2，玻璃2的厚度薄于爐門1的厚度，并在爐門1厚度方向上居中，在爐門1內、外兩側分別形成槽形空間，在這兩個槽形空間中分別放置一個磁性滑塊3、4，二者在磁力的作用下相對吸附在玻璃2的內、外兩側，在爐門1內側的觀察窗部位安裝一塊條狀保持架5，在保持架5中間也開有條狀窗口，該窗口二維方向上的尺寸小于觀察窗窗口的尺寸，這樣的話，它在將滑塊3保持在槽形空間內的同時，不至于遮擋視線，在玻璃2外側上拉動滑塊4，玻璃2內側的滑塊3隨之在玻璃2內側表面滑動，由其與玻璃2接觸的邊緣將玻璃2內表面粘附的揮發(fā)物除去。
根據以上設計，可以完全解決現(xiàn)有技術存在的問題。在拉動滑塊4帶動滑塊3祛除粘附的揮發(fā)物的過程中，不必打開爐門1，可以隨時進行。滑塊3、4之間沒有連接物，不論是在靜止還是在移動過程中，都不會在爐門1內外存在任何導通，從而影響真空度。只需在生長爐停止工作后，清理爐門1內側的槽形空間和滑塊3即可。


圖1是本實用新型之觀察窗內側主視示意圖。圖2是本實用新型之觀察窗在軸線A-A方向上的剖面左視示意圖。圖3是圖2的局部，用作摘要附圖。
具體實施方式
見圖1、圖2所示，在爐門1中部垂直方向上開出條狀窗口，鑲嵌觀察窗玻璃2，玻璃2的厚度薄于爐門1的厚度，并在爐門1厚度方向上居中，爐門1的厚度d1為30mm，玻璃2的厚度d2為10mm。于是在爐門1內、外兩側分別形成一個形狀、尺寸相同的槽形空間，槽形空間的厚度d3為10mm。在這兩個槽形空間中分別放置一個磁性滑塊3、4，二者在磁力的作用下相對吸附在玻璃2的內、外兩側。磁性滑塊3、4材質、形狀、尺寸相同。材質為釹鐵硼，其磁能積在400KJ·m-3以上，工作溫度為150℃，形狀為圓柱形，尺寸為φ30×10。在爐門1內側的觀察窗部位安裝一塊條狀保持架5，在保持架5中間也開有條狀窗口，該窗口二維方向上的尺寸小于觀察窗窗口的尺寸，這樣的話，它在將滑塊3保持在槽形空間內的同時，不至于遮擋視線。保持架5上的窗口寬度D1為25mm，觀察窗窗口的寬度D2為30mm?；瑝K3、4在槽形空間中與玻璃2、保持架5以及觀察窗窗口兩側呈動配合狀態(tài)。在玻璃2外側上拉動滑塊4，玻璃2內側的滑塊3隨之在玻璃2內側表面滑動，由其與玻璃2接觸的邊緣將玻璃2內表面粘附的揮發(fā)物除去。
權利要求1.一種可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗，位于高頻或者中頻感應真空晶體生長爐爐門中部，鑲嵌在爐門上，呈條狀，垂直方向長，透過觀察窗玻璃可以觀察爐內晶體的生長情況，其特征在于，玻璃(2)的厚度薄于爐門(1)的厚度，并在爐門(1)厚度方向上居中，在爐門(1)內、外兩側分別有槽形空間，在這兩個槽形空間中各有一個磁性滑塊(3、4)，二者相對處在玻璃(2)的內、外兩側，在爐門(1)內側的觀察窗部位有一塊條狀保持架(5)，在保持架(5)中間也開有條狀窗口，該窗口二維方向上的尺寸小于觀察窗窗口的尺寸，保持架(5)將滑塊(3)保持在槽形空間內，滑塊(4)能夠在玻璃(2)外側移動，滑塊(3)能夠在玻璃(2)內側表面隨之滑動。
2.根據權利要求1所述的可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗，其特征在于，磁性滑塊(3、4)材質為釹鐵硼，其磁能積在400KJ·m-3以上，工作溫度為150℃，形狀為圓柱形，尺寸為φ30×10。
3.根據權利要求1所述的可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗，其特征在于，滑塊(3、4)在槽形空間中與玻璃(2)、保持架(5)以及觀察窗窗口兩側呈動配合狀態(tài)。
專利摘要可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗屬于光學晶體生長設備技術領域。現(xiàn)有的真空晶體生長爐觀察窗沒有任何清除揮發(fā)物的裝置，在拉制晶體的過程中無法除去粘附在觀察窗內壁上的揮發(fā)物，影響觀察。本實用新型是在觀察窗內外兩側安放一對磁性滑塊，二者在磁力的作用下相對吸附在觀察窗的內、外兩側。在觀察窗內側安裝一塊保持架，該保持架將內側磁性滑塊保持在槽形空間內，保持架上也開有窗口，與觀察窗窗口相對。在真空晶體生長爐工作過程中，可以隨時拉動外側磁性滑塊，帶動內側磁性滑塊清理觀察窗上的揮發(fā)物。本實用新型可應用于高頻或者中頻感應真空晶體生長設備領域。
文檔編號C30B35/00GK2844146SQ20052012190
公開日2006年12月6日 申請日期2005年9月22日 優(yōu)先權日2005年9月22日
發(fā)明者李建利, 曾繁明, 萬玉春, 關效賢, 孫晶, 劉景和 申請人:長春理工大學