1.一種投影方法，其特征在于，包括：
獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容；
確定投射所述目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù)；
依據(jù)所述投影參數(shù)，調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式；
基于所述光束輸出模式，將所述目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)所述光路改變模塊投射至距離所述電子設(shè)備第一距離的投影載體的第一區(qū)域內(nèi)；其中，所述光束輸出模式不同時(shí)，所述第一區(qū)域的面積大小不同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述光路改變模塊具有多個(gè)折射率和/或反射率；
確定投射所述目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù)包括：
確定所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊上的光束變化參數(shù)，其中，所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率，或者，投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，依據(jù)所述投影參數(shù)，調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式，包括：
依據(jù)所述光束變化參數(shù)，調(diào)整所述光路改變模塊在所述投射光束的待投射方向上的折射率為所述目標(biāo)折射率或者目標(biāo)反射率。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述光路改變模塊為電致折射率改變型的透光體；
則所述光束變化參數(shù)包括：所述投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率；
所述依據(jù)所述投影參數(shù)，調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式，包括：
依據(jù)所述目標(biāo)折射率，調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值，以使得所述透光體在所述目標(biāo)電壓值下的折射率為所述目標(biāo)折射率。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述透光體為多面體，且所述透光體至少有一個(gè)平面對(duì)為透光面，其中，所述平面對(duì)包括所述多面體的兩個(gè)相對(duì)平面；
則所述依據(jù)所述目標(biāo)折射率，調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值，以使得所述多面透光體在所述目標(biāo)電壓值下的折射率為所述目標(biāo)折射率，包括：
依據(jù)所述目標(biāo)折射率，設(shè)定加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值，并調(diào)整所述投射光束的待投射方向與所述透光體中透光的平面對(duì)所在方向相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述透光體的至少一個(gè)面為光反射面；
所述光束變化參數(shù)還包括：所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率；
則所述依據(jù)所述投影參數(shù)，調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式，還包括：
依據(jù)所述目標(biāo)反射率，從所述至少一個(gè)光反射面中確定目標(biāo)反射面，并調(diào)整所述投射光束的待投射方向?yàn)槌蛩瞿繕?biāo)反射面的方向。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述光路改變模塊為各個(gè)面的反射率不同的多面體；
則所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率；
則所述依據(jù)所述投影參數(shù)，調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式，包括：
將所述多面體中反射率為所述目標(biāo)反射率的一面作為所述投射光束的待投射面，調(diào)整所述待投射面處于所述投射光束的待投射方向上。
8.一種投影裝置，其特征在于，包括：
內(nèi)容獲取單元，用于獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容；
參數(shù)確定單元，用于確定投射所述目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù)；
輸出調(diào)整單元，用于依據(jù)所述投影參數(shù)，調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式；
投影單元，用于基于所述光束輸出模式，將所述目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)所述光路改變模塊投射至距離所述電子設(shè)備第一距離的投影載體的第一區(qū)域內(nèi)；其中，所述光束輸出模式不同時(shí)，所述第一區(qū)域的面積大小不同。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，所述光路改變模塊具有多個(gè)折射率和/或反射率；
則所述參數(shù)確定單元，包括：
參數(shù)確定子單元，用于確定所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊上的光束變化參數(shù)，其中，所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率，或者，投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述輸出調(diào)整單元，包括：
輸出方向調(diào)整單元，用于依據(jù)所述光束變化參數(shù)，調(diào)整所述光路改變模塊在所述投射光束的待投射方向上的折射率為所述目標(biāo)折射率或者目標(biāo)反射率。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述光路改變模塊為電致折射率改變型的透光體；
則當(dāng)所述參數(shù)確定子單元確定出的光束變化參數(shù)包括：所述投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率時(shí)，所述輸出調(diào)整單元，包括：
第一輸出調(diào)整單元，用于依據(jù)所述目標(biāo)折射率，調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值，以使得所述透光體在所述目標(biāo)電壓值下的折射率為所述目標(biāo)折射率。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于，所述透光體為多面體，且所述透光體至少有一個(gè)平面對(duì)為透光面，其中，所述平面對(duì)包括所述多面體的兩個(gè)相對(duì)平面；
則所述第一輸出調(diào)整單元，包括：
第一輸出調(diào)整子單元，用于依據(jù)所述目標(biāo)折射率，設(shè)定加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值，并調(diào)整所述投射光束的待投射方向與所述透光體中透光的平面對(duì)所在方向相同。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其特征在于，所述透光體的至少一個(gè)面為光反射面；
當(dāng)所述光束變化參數(shù)包括：所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率時(shí)，則第一輸出調(diào)整單元，還包括：
第二輸出調(diào)整子單元，用于依據(jù)所述目標(biāo)反射率，從所述至少一個(gè)光反射面中確定目標(biāo)反射面，并調(diào)整所述投射光束的待投射方向?yàn)槌蛩瞿繕?biāo)反射面的方向。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述光路改變模塊為各個(gè)面的反射率不同的多面體；
則所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率；
則所述輸出調(diào)整單元，包括：
第二輸出調(diào)整單元，用于將所述多面體中反射率為所述目標(biāo)反射率的一面作為所述投射光束的待投射面，調(diào)整所述待投射面處于所述投射光束的待投射方向上。
15.一種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備包括處理器、微型投影芯片、光投射出口以及設(shè)置在所述電子設(shè)備內(nèi)且朝向所述光投射出口的光路改變模塊，其中，所述處理器與所述微型投影芯片以及所述光路改變模塊相連；
所述處理器，用于獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容，并確定所述目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù)；依據(jù)所述投影參數(shù)，調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式；基于所述光束輸出模式，控制所述微型投影芯片對(duì)所述目標(biāo)內(nèi)容進(jìn)行投影；
所述微型投影芯片，用于在所述處理器的控制下，將所述目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)所述光路改變模型和所述光投射出口投射至距離所述電子設(shè)備第一距離的投影載體上，其中，所述光束輸出模式不同時(shí)，所述第一區(qū)域的面積大小不同。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述光路改變模塊為電致折射率改變型的透光體；
所述投射參數(shù)包括：光束經(jīng)所述光路改變模塊發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率；
則所述處理器依據(jù)所述投影參數(shù)，調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式為：依據(jù)所述目標(biāo)折射率，調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值，以使得所述透光體在所述目標(biāo)電壓值下的折射率為所述目標(biāo)折射率。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述透光體為多面體，且所述透光體至少有一個(gè)平面對(duì)為透光面，其中，所述平面對(duì)包括所述多面體的兩個(gè)相對(duì)平面；
則所述處理器依據(jù)所述目標(biāo)折射率，調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值為：所述處理器依據(jù)所述目標(biāo)折射率，設(shè)定加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值，并調(diào)整所述透光體中透光的平面朝向所述投射光束的待投射方向。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述透光體的至少一個(gè)面為光反射面；
當(dāng)所述光束變化參數(shù)還包括：所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率；
則所述電子設(shè)備所述依據(jù)所述投影參數(shù)，調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式還包括：依據(jù)所述目標(biāo)反射率，從所述至少一個(gè)光反射面中確定目標(biāo)反射面，并調(diào)整所述投射光束的待投射方向?yàn)槌蛩瞿繕?biāo)反射面的方向。