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一種投影方法、裝置和電子設(shè)備與流程

文檔序號(hào):11961071閱讀:204來源:國知局
一種投影方法、裝置和電子設(shè)備與流程

本申請(qǐng)涉及信息處理技術(shù)領(lǐng)域,更具體的說是涉及一種投影方法、裝置和電子設(shè)備。



背景技術(shù):

在手機(jī)或者平板電腦等電子設(shè)備上觀看視頻或者圖像已經(jīng)成為一種時(shí)尚。由于手機(jī)或者平板電腦等電子設(shè)備的屏幕面積較小,受限于該電子設(shè)備的屏幕,無法使得多人同時(shí)觀看一臺(tái)電子設(shè)備上展現(xiàn)的內(nèi)容。為了能夠使得多人能夠同時(shí)觀看同一臺(tái)電子設(shè)備上展現(xiàn)出的內(nèi)容,可以將電子設(shè)備與投影儀建立連接,從而通過投影機(jī)將電子設(shè)備上展現(xiàn)出的內(nèi)容進(jìn)行投影,從而達(dá)到多人同時(shí)觀看到該電子設(shè)備上展現(xiàn)出的內(nèi)容。然而由于投影儀不適合移動(dòng),且大部分家庭內(nèi)并不會(huì)配備投影儀,這樣,多個(gè)用戶可能只能依次觀看電子設(shè)備中展現(xiàn)的內(nèi)容,造成了觀看不便的問題。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

有鑒于此,本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N投影方法、裝置和電子設(shè)備,以實(shí)現(xiàn)多人基于同一電子設(shè)備進(jìn)行內(nèi)容觀看。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本申請(qǐng)?zhí)峁┤缦录夹g(shù)方案:一種投影方法,包括:

獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容;

確定投射所述目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù);

依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式;

基于所述光束輸出模式,將所述目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)所述光路改變模塊投射至距離所述電子設(shè)備第一距離的投影載體的第一區(qū)域內(nèi);其中,所述光束輸出模式不同時(shí),所述第一區(qū)域的面積大小不同。

優(yōu)選的,所述光路改變模塊具有多個(gè)折射率和/或反射率。

確定投射所述目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù)包括:

確定所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊上的光束變化參數(shù),其中,所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率,或者,投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率。

優(yōu)選的,依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式,包括:

依據(jù)所述光束變化參數(shù),調(diào)整所述光路改變模塊在所述投射光束的待投射方向上的折射率為所述目標(biāo)折射率或者目標(biāo)反射率。

優(yōu)選的,所述光路改變模塊為電致折射率改變型的透光體;

則所述光束變化參數(shù)包括:所述投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率;

所述依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式,包括:

依據(jù)所述目標(biāo)折射率,調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,以使得所述透光體在所述目標(biāo)電壓值下的折射率為所述目標(biāo)折射率。

優(yōu)選的,所述透光體為多面體,且所述透光體至少有一個(gè)平面對(duì)為透光面,其中,所述平面對(duì)包括所述多面體的兩個(gè)相對(duì)平面;

則所述依據(jù)所述目標(biāo)折射率,調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,以使得所述多面透光體在所述目標(biāo)電壓值下的折射率為所述目標(biāo)折射率,包括:

依據(jù)所述目標(biāo)折射率,設(shè)定加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,并調(diào)整所述投射光束的待投射方向與所述透光體中透光的平面對(duì)所在方向相同。

優(yōu)選的,所述透光體的至少一個(gè)面為光反射面;

當(dāng)所述光束變化參數(shù)還包括:所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率;

則所述依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式,還包括:

依據(jù)所述目標(biāo)反射率,從所述至少一個(gè)光反射面中確定目標(biāo)反射面,并調(diào)整所述投射光束的待投射方向?yàn)槌蛩瞿繕?biāo)反射面的方向。

優(yōu)選的,所述光路改變模塊為各個(gè)面的反射率不同的多面體;

則所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率;

則所述依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式,包括:

將所述多面體中反射率為所述目標(biāo)反射率的一面作為所述投射光束的待投射面,調(diào)整所述待投射面處于所述投射光束的待投射方向上。

另一方面,本申請(qǐng)還提供了一種投影裝置,包括:

內(nèi)容獲取單元,用于獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容;

參數(shù)確定單元,用于確定投射所述目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù);

輸出調(diào)整單元,用于依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式;

投影單元,用于基于所述光束輸出模式,將所述目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)所述光路改變模塊投射至距離所述電子設(shè)備第一距離的投影載體的第一區(qū)域內(nèi);其中,所述光束輸出模式不同時(shí),所述第一區(qū)域的面積大小不同。

優(yōu)選的,所述光路改變模塊具有多個(gè)折射率和/或反射率。

則所述參數(shù)確定單元,包括:

參數(shù)確定子單元,用于確定所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊上的光束變化參數(shù),其中,所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率,或者,投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率。

優(yōu)選的,所述輸出調(diào)整單元,包括:

輸出方向調(diào)整單元,用于依據(jù)所述光束變化參數(shù),調(diào)整所述光路改變模塊在所述投射光束的待投射方向上的折射率為所述目標(biāo)折射率或者目標(biāo)反射率。

優(yōu)選的,所述光路改變模塊為電致折射率改變型的透光體;

則當(dāng)所述參數(shù)確定子單元確定出的光束變化參數(shù)包括:所述投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率時(shí),所述輸出調(diào)整單元,包括:

第一輸出調(diào)整單元,用于依據(jù)所述目標(biāo)折射率,調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,以使得所述透光體在所述目標(biāo)電壓值下的折射率為所述目標(biāo)折射率。

優(yōu)選的,所述透光體為多面體,且所述透光體至少有一個(gè)平面對(duì)為透光面,其中,所述平面對(duì)包括所述多面體的兩個(gè)相對(duì)平面;

則所述第一輸出調(diào)整單元,包括:

第一輸出調(diào)整子單元,用于依據(jù)所述目標(biāo)折射率,設(shè)定加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,并調(diào)整所述投射光束的待投射方向與所述透光體中透光的平面對(duì)所在方向相同。

優(yōu)選的,所述透光體的至少一個(gè)面為光反射面;

當(dāng)所述光束變化參數(shù)包括:所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率時(shí),則第一輸出調(diào)整單元,還包括:

第二輸出調(diào)整子單元,用于依據(jù)所述目標(biāo)反射率,從所述至少一個(gè)光反射面中確定目標(biāo)反射面,并調(diào)整所述投射光束的待投射方向?yàn)槌蛩瞿繕?biāo)反射面的方向。

優(yōu)選的,所述光路改變模塊為各個(gè)面的反射率不同的多面體;

則所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率;

則所述輸出調(diào)整單元,包括:

第二輸出調(diào)整單元,用于將所述多面體中反射率為所述目標(biāo)反射率的一面作為所述投射光束的待投射面,調(diào)整所述待投射面處于所述投射光束的待投射方向上。

另一方面,本申請(qǐng)還提供了一種電子設(shè)備,所述電子設(shè)備包括處理器、微型投影芯片、光投射出口以及設(shè)置在所述電子設(shè)備內(nèi)且朝向所述光投射出口的光路改變模塊,其中,所述處理器與所述微型投影芯片以及所述光路改變模塊相連;

所述處理器,用于獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容,并確定所述目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù);依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式;基于所述光束輸出模式,控制所述微型投影芯片對(duì)所述目標(biāo)內(nèi)容進(jìn)行投影;

所述微型投影芯片,用于在所述處理器的控制下,將所述目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)所述光路改變模型和所述光投射出口投射至距離所述電子設(shè)備第一距離的投影載體上,其中,所述光束輸出模式不同時(shí),所述第一區(qū)域的面積大小不同。

優(yōu)選的,所述光路改變模塊為電致折射率改變型的透光體;

所述投射參數(shù)包括:光束經(jīng)所述光路改變模塊發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率;

則所述處理器依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式為:依據(jù)所述目標(biāo)折射率,調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,以使得所述透光體在所述目標(biāo)電壓值下的折射率為所述目標(biāo)折射率。

優(yōu)選的,所述透光體為多面體,且所述透光體至少有一個(gè)平面對(duì)為透光面,其中,所述平面對(duì)包括所述多面體的兩個(gè)相對(duì)平面;

則所述處理器依據(jù)所述目標(biāo)折射率,調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值為:所述處理器依據(jù)所述目標(biāo)折射率,設(shè)定加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,并調(diào)整所述透光體中透光的平面朝向所述投射光束的待投射方向。

優(yōu)選的,所述透光體的至少一個(gè)面為光反射面;

當(dāng)所述光束變化參數(shù)還包括:所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率;

則所述電子設(shè)備所述依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式還包括:依據(jù)所述目標(biāo)反射率,從所述至少一個(gè)光反射面中確定目標(biāo)反射面,并調(diào)整所述投射光束的待投射方向?yàn)槌蛩瞿繕?biāo)反射面的方向。

經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知,在利用電子設(shè)備投射目標(biāo)對(duì)象的投射光束需先經(jīng)光路改變模塊再投射至投影載體上,而該光路改變模塊的光束輸出模式不同時(shí),該光路改變模塊對(duì)該投影光束的路徑改變也會(huì)不同,從而使得從該光路改變模塊投射出的投影光束與該投影載體的夾角可變,進(jìn)而在電子設(shè)備與該投影載體的距離不變的情況下,使得該目標(biāo)對(duì)象在該投影載體的投影面積可以隨著該光束輸出模式而改變,實(shí)現(xiàn)了靈活改變投影面積,從而有利于根據(jù)用戶人數(shù)來調(diào)整投影面積,以利用用戶觀看投影。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請(qǐng)實(shí)施例的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申 請(qǐng)的實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1示出了本申請(qǐng)一種投影方法一個(gè)實(shí)施例的流程示意圖;

圖2示出了本申請(qǐng)一種投影方法另一個(gè)實(shí)施例的流程示意圖;

圖3示出了本申請(qǐng)一種投影方法另一個(gè)實(shí)施例的流程示意圖;

圖4示出了本申請(qǐng)中的一種透光體的主視圖示意圖;

圖5a和圖5b分別示出了本申請(qǐng)兩種投影方式的示意圖;

圖6示出了本申請(qǐng)一種投影裝置一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖7示出了本申請(qǐng)一種電子設(shè)備一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本申請(qǐng)實(shí)施例中的附圖,對(duì)本申請(qǐng)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本申請(qǐng)一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒旧暾?qǐng)中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本申請(qǐng)保護(hù)的范圍。

參見圖1,其示出了本申請(qǐng)一種投影方法一個(gè)實(shí)施例的流程示意圖,本實(shí)施例的方法可以包括:

101,獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容。

待投影的目標(biāo)內(nèi)容可以有多種,如,可以為圖像、文檔、視頻、PPT等等。

該電子設(shè)備可以為手機(jī)、平板電腦、掌上電腦等。

102,確定投射該目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù)。

在本申請(qǐng)實(shí)施例中,該投射參數(shù)可以為表征該目標(biāo)內(nèi)容的投射光束的投射角度、光束方向以及光束路徑等的參數(shù)信息。

其中,該投影參數(shù)可以由用戶設(shè)定;也可以是由電子設(shè)備根據(jù)該待投射的目標(biāo)內(nèi)容來確定投射參數(shù),如,可以設(shè)定不同類型的目標(biāo)內(nèi)容所對(duì)應(yīng)的不同投影參數(shù)。

103,依據(jù)該投影參數(shù),調(diào)整該目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在該光路改變模塊的光束輸出模式。

其中,該光路改變模塊能夠改變投影光束的傳輸路徑,如,可以是投射光束在投射至該光路改變模塊的表面時(shí),該投射光束的路徑發(fā)生改變;又如,也可以是該投射光束在該光路改變模塊內(nèi)部發(fā)生路徑變化。

依據(jù)該投射參數(shù)可以確定出投射該目標(biāo)內(nèi)容時(shí),該投射光束在該光路改變模塊所需的輸出模式,調(diào)整該光路改變模塊處于相應(yīng)的光束輸出模式。

104,基于該光束輸出模式,將該目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)該光路改變模塊投射至距離該電子設(shè)備第一距離的投影載體的第一區(qū)域內(nèi)。

其中,該光束輸出模式不同時(shí),所述第一區(qū)域的面積大小不同。

其中,該投影載體可以為現(xiàn)有的任意能夠承載投影圖像的載體,如投影載體可以為投影幕布,墻壁等。

可以理解的是,該目標(biāo)內(nèi)容的投射光束并不是單一的一條光束,而是由一定區(qū)域內(nèi)的多條投影光束組成的一層或多層光束面。

在本申請(qǐng)實(shí)施例中,在對(duì)該目標(biāo)內(nèi)容進(jìn)行投影時(shí),該目標(biāo)內(nèi)容的所有投影光束都需要經(jīng)過該光路改變模塊,然后才能夠投射至該投射載體上。

由于投射光束向光路改變模型投射以及同經(jīng)過該光路改變模型的過程中,都是基于已經(jīng)該光路改變模塊當(dāng)前的光束輸出模式,而光束輸出模式不同,該光路改變模塊對(duì)投影光束的光路徑的改變方式和改變程度不同從而使得從該光路改變模塊輸出的投射光束的路徑可以存在多種變化。而可以理解的是,在投影載體距離該電子設(shè)備距離不變的情況下,當(dāng)從光路改變模塊透射出的投射光束與該投影載體的夾角不同,則該目標(biāo)內(nèi)容在該投射載體上的投影區(qū)域的面積也會(huì)有所不同。因此,通過改變投射光束在光投射路徑,使得從該光路改變模塊投出的投射光束投射在該投影載體上的面積可以有所不同。

可見,可以根據(jù)實(shí)際需要來調(diào)整光路改變模塊的光路輸出模式,從而達(dá)到調(diào)整投影圖像的面積的目的。

在本申請(qǐng)實(shí)施例中,在利用電子設(shè)備投射目標(biāo)對(duì)象的投射光束需先經(jīng)光路改變模塊再投射至投影載體上,而該光路改變模塊的光束輸出模式不同時(shí),該光路改變模塊對(duì)該投影光束的路徑改變也會(huì)不同,從而使得從該光路改變模塊投射出的投影光束與該投影載體的夾角可變,進(jìn)而在電子設(shè)備與該投影載體的距離不變的情況下,使得該目標(biāo)對(duì)象在該投影載體的投影面積可以隨 著該光束輸出模式而改變,實(shí)現(xiàn)了靈活改變投影面積,從而有利于根據(jù)用戶人數(shù)來調(diào)整投影面積,以利用用戶觀看投影。

可以理解的是,在本申請(qǐng)任意一個(gè)實(shí)施例中,該電子設(shè)備可以內(nèi)置有微型投影光學(xué)組件,從而實(shí)現(xiàn)將該目標(biāo)內(nèi)容以投射光束的形式往外投射。

需要說明的是,在本申請(qǐng)實(shí)施例中,該光路改變模塊可以有多種形式。如該光路改變模塊為至少兩對(duì)相對(duì)面為透光面的中空多面體,也就是說該中空多面體可以有至少兩條傳輸路徑,投影光束可以從任意一個(gè)透光面投射入該多面體內(nèi)部。該多面體內(nèi)部各面為平面鏡,這樣,當(dāng)投影光束從一個(gè)透光面進(jìn)入該多面體后,該投射光束會(huì)將該平面鏡反射而使得投射路徑發(fā)生改變,這樣該投射光束最終經(jīng)另一透光面投射出去后,該投射光束與投影載體的夾角就會(huì)改變。而由于投射光束進(jìn)入該多面體所經(jīng)的透光面不同,在該多面體內(nèi)部光束被反射最終投射出該多面體的光投射路徑就會(huì)不同,從而使得目標(biāo)對(duì)象的投影面積不同。

可選的,考慮到可以通過光折射或反射的原理來實(shí)現(xiàn)光路改變,本申請(qǐng)實(shí)施例中的光路改變模塊設(shè)置具有多個(gè)折射率和/或反射率。如,參見圖2,其示出了本申請(qǐng)實(shí)施例中一種投影方法另一個(gè)實(shí)施例的流程示意圖,本實(shí)施例的方法可以包括:

201,獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容。

202,確定該目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在該光路改變模塊上的光束變化參數(shù)。

其中,該光束變化參數(shù)包括:該投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率,或者,投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率。

在本申請(qǐng)實(shí)施例中,該光路改變模塊可以對(duì)該投射光束進(jìn)行反射或者折射。因此,可以確定該目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在該光路改變模塊上的光束變化方式以及在該方式上的變化率。

203,依據(jù)該光束變化參數(shù),調(diào)整該目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在該光路改變模塊的光束輸出模式。

當(dāng)該光束變化參數(shù)為投射光束發(fā)射折射,則調(diào)整該光路改變模塊的光束輸出模式為投射光束投射到該光路改變模塊上或者是進(jìn)入該光路改變模塊 后,投射光束會(huì)發(fā)生折射,并設(shè)定該光路改變模塊對(duì)該投射光束的折射率為目標(biāo)折射率。

當(dāng)該光束變化參數(shù)為投射光束發(fā)生反射,則調(diào)整該光路改變模塊的光束輸出模式為對(duì)投射光束進(jìn)行折射,以使得該投射光束投射到該光路改變模塊上或者進(jìn)入該光路改變模塊后,對(duì)投射光束以該目標(biāo)反射率進(jìn)行反射。

可以理解的是,如,光路改變模塊可以具有多路光束輸出路徑,每一路輸出路徑對(duì)投射光束的光束輸出模式不同。如,該光路改變模塊的多路輸出路徑中一些路徑中可以分別內(nèi)置不同折射率的透鏡,從而使得投射光束穿過的透鏡不同,該投射光束被折射后的路徑不同。又如,在該多路輸出路徑中的一些路徑中可以設(shè)置有具有不同反射率的平面,從而使得該投射光束經(jīng)不同的平面反射后的路徑不同。

204,基于該光束輸出模式,將該目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)該光路改變模塊投射至距離該電子設(shè)備第一距離的投影載體的第一區(qū)域內(nèi)。

其中,該光束輸出模式不同時(shí),所述第一區(qū)域的面積大小不同。

基于調(diào)整后的光束輸出模式,輸出的該投射光束的光傳播路徑就當(dāng)前的光束輸出模式相關(guān),從而使得不同光束輸出模式下,該投影光束在該投影載體上的面積不同。

可選的,為了能夠準(zhǔn)確并較為方便的調(diào)整該光路改變模塊的光束輸出模式,在本實(shí)施例中,可以依據(jù)該光束變化參數(shù),調(diào)整該光路改變模塊在該投射光束的待投射方向上的折射率為該目標(biāo)折射率或者目標(biāo)反射率。這樣,投射該目標(biāo)內(nèi)容的投射光束后,在該投射方向上該投射光束便經(jīng)過該光路改變模塊進(jìn)行設(shè)定的折射或者反射。

需要說明的是,使得該光路改變模塊在待投射方向上折射率為該目標(biāo)折射率或者目標(biāo)反射率,可以是調(diào)整該光路改變模塊的方向,以使得該光路改變模塊正對(duì)該待投射方向的光傳輸路徑的折射率為該目標(biāo)折射率或者目標(biāo)反射率;也可以是將微型投影組件設(shè)置有多個(gè)光投射出口,不同的光投射輸出對(duì)準(zhǔn)該光路輸出模塊的不同光路輸出路徑入口,從而可以根據(jù)當(dāng)前的光束輸出模式,確定投射光束從該微型投影組件的輸出口。當(dāng)然,也可以是將該微 型投影組件設(shè)置為單一光投射口,但是該微型投影組件為方向可調(diào),從而使得該光投射口對(duì)準(zhǔn)該光路改變模塊的不同光路傳輸路徑。

可選的,在本申請(qǐng)實(shí)施例中為了設(shè)計(jì)簡(jiǎn)潔,為了實(shí)現(xiàn)光路改變模塊具有不同反射率,該光路改變模塊為各個(gè)面反射率不同的多面體,當(dāng)確定出光束變化參數(shù)為投射光束發(fā)射反射以及目標(biāo)反射率時(shí),將該多面體中反射率為目標(biāo)反射率的一面作為待投射面,并將調(diào)整該待投射面處于所述投射光束的待投射方向上,如,旋轉(zhuǎn)該多面體,使得該待投射面對(duì)準(zhǔn)該投射光束的投射口。這樣,當(dāng)投射該目標(biāo)內(nèi)容的投射光束后,該投射光束被投射到該待投射面上然后發(fā)生反射,從而改變投射光束的投射路徑。如,該光路改變模塊可以為一個(gè)正方體,且正方體各面的反射率不同,例如,可以該正方體的各面粘貼具有不同反射率的反射膜,這樣,根據(jù)需要可以將該投射光束投射到該正方體的不同面上,以達(dá)到改變光傳播路徑的目的,進(jìn)而使得最終輸出該電子設(shè)備的投射光束的投射面積可變。

在本申請(qǐng)實(shí)施例中,為了實(shí)現(xiàn)該光路改變模塊具有不同的折射率,該光路改變模塊可以為電致折射率改變型的透光體。則當(dāng)光束變化參數(shù)包括投射光束以及目標(biāo)折射率時(shí),則可以根據(jù)該目標(biāo)折射率,調(diào)整加載到該透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,其中,在該透光體在該目標(biāo)電壓值下的折射率為該目標(biāo)折射率,從而使得該透光體在加載該目標(biāo)電壓后折射率變?yōu)槟繕?biāo)折射率。當(dāng)然,可以理解的是,當(dāng)該透光體也可以不加載電壓,即加載的電壓為零,以使得透光體具有在不加載電壓時(shí)的一個(gè)折射率。

其中,該透光體的形狀可以為任意形狀,可選的,該透光體可以為至少有一個(gè)平面對(duì)為透光面的透光體,其中,所述平面對(duì)包括所述多面體的兩個(gè)相對(duì)平面,如,該透光體可以為正方體、長方體等立方體。則確定出目標(biāo)折射率后,可以設(shè)定加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,并調(diào)整該投射光束的待投射方向與該透光體中透光的平面對(duì)所在方向相同。當(dāng)然,如果該透光體的任意平面均透光,則加載電壓后,可以將該待投射方向?qū)?zhǔn)任意該透光體的任意一個(gè)面均可。

進(jìn)一步的,為了實(shí)現(xiàn)該透光體既能對(duì)該投射光束進(jìn)行反射,又能對(duì)該投射光束進(jìn)行折射,在透光體可以為至少有一個(gè)平面對(duì)為透光面的基礎(chǔ)上,該透光體的至少一個(gè)平面為光反射面。同時(shí),該透光體上不同光反射面上的反射率不同。如,可以在透光體上不同平面上粘貼反射率不同的反射膜。則該光束變化參數(shù)還可以包括投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率。如果當(dāng)前的光束變化參數(shù)為該投射光束發(fā)生反射且反射率為該目標(biāo)反射率,則依據(jù)目標(biāo)反射率,從該透光體的至少一個(gè)光反射面中確定目標(biāo)反射面,并調(diào)整所述投射光束的待投射方向?yàn)槌蛩瞿繕?biāo)反射面的方向。其中,該目標(biāo)反射面的反射率為所述目標(biāo)反射率。

可以理解的是,當(dāng)該透光體為電致折射率改變型的透光體,且透光體至少一個(gè)面為反射面的情況下,該透光體同樣可以為任何具有多面的立體結(jié)構(gòu)體,該立體結(jié)構(gòu)體可以為規(guī)則結(jié)構(gòu)體也可以為不規(guī)則結(jié)構(gòu)體。

為了便于理解,下面以該透光體的一種可能的立體結(jié)構(gòu)為例,對(duì)基于該透光體改變投射面積的過程進(jìn)行介紹。參見圖3,其示出了本申請(qǐng)一種投影方法一個(gè)實(shí)施例的流程示意圖,本實(shí)施例的方法可以包括:

301,獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容。

302,確定該目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在該光路改變模塊上的光束變化參數(shù)。

其中,該光束變化參數(shù)包括:該投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率,或者,投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率。

可以理解的是,該光束變化參數(shù)可以由用戶輸入或設(shè)定,用戶通過特定按鍵來調(diào)整折射率或者反射率,以達(dá)到調(diào)整投影面積的目的。當(dāng)然,在實(shí)際應(yīng)用中,用戶可能會(huì)希望更加的調(diào)整投影面積,因此可以在電子設(shè)備上設(shè)置投影面積調(diào)整按鍵,用戶通過觸按或調(diào)節(jié)該按鍵,可以觸發(fā)該電子設(shè)備確定一個(gè)與當(dāng)前用戶操作所設(shè)定的待投影面積,然后確定該投影面積所需對(duì)應(yīng)的折射率。

303,當(dāng)該光束變化參數(shù)為光束發(fā)射折射的目標(biāo)折射率時(shí),控制加載到該透光體的電壓值為目標(biāo)電壓值,并調(diào)整投射光束的待投射方向與透光體中透光平面對(duì)所在方向相同。

其中,該透光體的電壓記載為目標(biāo)電壓值,以設(shè)定透光體的折射率為目標(biāo)。

如圖4所示,其示出了該透光體的主視圖示意圖,由圖可知,該透光體為一面是斜面的直角梯形棱鏡,其中,斜面粘貼有反射面,使得該斜面能夠使得光產(chǎn)生反射。該直角棱鏡除了斜面之外的面為透光面,且該直角棱鏡為電致折射率改變型棱鏡。則通過調(diào)節(jié)加載該直角梯形棱鏡的電壓,使得該直角梯形棱鏡的折射率為目標(biāo)折射率后,可以調(diào)整該直角梯形棱鏡中除該斜面之外的任意一個(gè)平面正對(duì)該微型投影組件的投射口,便可使得投射光束在投射方向上輸出后,投射光束在該直角梯形棱鏡上發(fā)射折射。

為了便于理解可以參見圖5a,示出了微型投影組件直投方式示意圖,在該種投影方式中,該微型投影組件51的投射口正對(duì)該直角梯形棱鏡52的一個(gè)透光面53。該微型投影組件51投射出的投射光束經(jīng)該直角梯形棱鏡52而發(fā)生折射,使得投射光束所在的投射光束面變小,進(jìn)而使得投射到投影屏幕54上的投影面積減小。

如在圖5a中。實(shí)線代表投影光束經(jīng)過直角梯形棱鏡投射后的投射光束所組成的投射光束面,且兩個(gè)曲線與該屏幕交點(diǎn)內(nèi)的區(qū)域標(biāo)識(shí)目標(biāo)內(nèi)容在該投影屏幕上的投影區(qū)域的直徑L1。

虛線所表示的投影光束代表沒有經(jīng)過直角梯形棱鏡折射情況下,該投影光束所成的投影光束面區(qū)域,且在此情況下投影光束投射到該投影屏幕上的面積的直徑為L2。

其中L1與L2的差值經(jīng)過數(shù)據(jù)公式轉(zhuǎn)換可以得出:

<mrow> <mi>L</mi> <mn>2</mn> <mo>-</mo> <mi>L</mi> <mn>1</mn> <mo>=</mo> <mn>2</mn> <mi>d</mi> <mo>[</mo> <mn>1</mn> <mo>-</mo> <mfrac> <mrow> <mi>cos</mi> <mi>I</mi> </mrow> <mrow> <mi>n</mi> <msqrt> <mn>1</mn> <mo>-</mo> <msup> <mi>n</mi> <mn>2</mn> </msup> <msup> <mi>sin</mi> <mn>2</mn> </msup> <mi>I</mi> </msqrt> </mrow> </mfrac> <mo>]</mo> </mrow>

其中,d為代表該直角梯形棱鏡的厚度;I是代表由微型投影組件投射出的投影光束與該梯形直角棱鏡的投射平面的法線之間的夾角,其中,該投射平面即為透光面53;n是代表直角梯形棱鏡的折射率。由該公式可知,當(dāng)折射率可調(diào)時(shí),L2與L1的差值可變,即目標(biāo)內(nèi)容在該投影屏幕上的投影面積可變。

304,當(dāng)該光束變化參數(shù)為光束發(fā)射反射的目標(biāo)反射率時(shí),則從該透光體至少一個(gè)光反射面中確定反射率為所述目標(biāo)反射率的目標(biāo)反射面,并調(diào)整投射光束的待投射方向朝向該目標(biāo)反射面。

仍以圖4所示的直角梯形棱角的透光體為例。當(dāng)需要利用該直角梯形棱鏡發(fā)生反射時(shí),可以參見圖5b當(dāng)需要利用該直角梯形棱鏡對(duì)投影光束進(jìn)行反射時(shí),可以將該微型投影組件51的投射口正對(duì)該直角梯形棱鏡52中斜面55該微型投影組件51投射出的投射光束經(jīng)該直角梯形棱鏡52的斜面發(fā)生反射,使得投射光束在該投影面積不同于圖5a中投射出的投影面積。如圖5b,該投影光束與該投影屏幕54之間的區(qū)域?yàn)橥队皡^(qū)域??梢岳斫獾氖牵?dāng)該斜面傾斜的程度不同時(shí),該投影面積的大小也有區(qū)別。

305,將該目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)該光路改變模塊投射至距離該電子設(shè)備第一距離的投影載體的第一區(qū)域內(nèi)。

其中,該投射光束經(jīng)過該透光體所發(fā)生的光線變化不同時(shí),所述第一區(qū)域的面積大小也會(huì)有所不同。

另一方面,對(duì)應(yīng)本申請(qǐng)的一種投影方法,本申請(qǐng)還提供了一種投影裝置。

參見圖6,其示出了本申請(qǐng)一種投影裝置一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖,本實(shí)施例的裝置可以包括:內(nèi)容獲取單元601、參數(shù)確定單元602、輸出調(diào)整單元603和投影單元604。

其中,內(nèi)容獲取單元601,用于獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容;

參數(shù)確定單元602,用于確定投射所述目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù);

輸出調(diào)整單元603,用于依據(jù)該投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式;

投影單元604,用于基于該光束輸出模式,將該目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)該光路改變模塊投射至距離該電子設(shè)備第一距離的投影載體的第一區(qū)域內(nèi);其中,該光束輸出模式不同時(shí),該第一區(qū)域的面積大小不同。

可選的,該光路改變模塊具有多個(gè)折射率和/或反射率。

則所述參數(shù)確定單元,可以包括:

參數(shù)確定子單元,用于確定所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊上的光束變化參數(shù),其中,所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率,或者,投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率。

在此基礎(chǔ)上,可選的,該輸出調(diào)整單元,可以包括:

輸出方向調(diào)整單元,用于依據(jù)所述光束變化參數(shù),調(diào)整所述光路改變模塊在所述投射光束的待投射方向上的折射率為所述目標(biāo)折射率或者目標(biāo)反射率。

進(jìn)一步的,在該光路改變模塊具有多個(gè)折射率和/或反射率的前提下,該光路改變模塊可以為電致折射率改變型的透光體。則,當(dāng)該參數(shù)確定子單元確定出的光束變化參數(shù)包括:所述投射光束發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率時(shí),所述輸出調(diào)整單元,可以包括:

第一輸出調(diào)整單元,用于依據(jù)所述目標(biāo)折射率,調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,以使得所述透光體在所述目標(biāo)電壓值下的折射率為所述目標(biāo)折射率。

可選的,該透光體可以為多面體,且所述透光體至少有一個(gè)平面對(duì)為透光面,其中,所述平面對(duì)包括所述多面體的兩個(gè)相對(duì)平面。相應(yīng)的,該第一輸出調(diào)整單元,可以包括:

第一輸出調(diào)整子單元,用于依據(jù)所述目標(biāo)折射率,設(shè)定加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,并調(diào)整所述投射光束的待投射方向與所述透光體中透光的平面對(duì)所在方向相同。

在以上基礎(chǔ)上,可選的,該透光體的至少一個(gè)面為光反射面。

當(dāng)所述光束變化參數(shù)包括:所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率時(shí),則第一輸出調(diào)整單元,還包括:第二輸出調(diào)整子單元,用于依據(jù)所述目標(biāo)反射率,從所述至少一個(gè)光反射面中確定目標(biāo)反射面,并調(diào)整所述投射光束的待投射方向?yàn)槌蛩瞿繕?biāo)反射面的方向。

可選的,在該光路改變模塊具有多個(gè)折射率和/或反射率的前提下,該光路改變模塊可以為各個(gè)面的反射率不同的多面體;

則當(dāng)所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率時(shí),所述輸出調(diào)整單元,可以包括:

第二輸出調(diào)整單元,用于將所述多面體中反射率為所述目標(biāo)反射率的一面作為所述投射光束的待投射面,調(diào)整所述待投射面處于所述投射光束的待投射方向上。

另一方面,本申請(qǐng)還提供了一種電子設(shè)備。參見圖7,其示出了本申請(qǐng)一種電子設(shè)備一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖,本實(shí)施例的電子設(shè)備可以包括:處理器701、微型投影芯片702、光投射出口以及設(shè)置在所述電子設(shè)備內(nèi)且朝向所述光投射出口的光路改變模塊703,其中,所述處理器701與所述微型投影芯片702以及所述光路改變模塊703相連。其中,該光投射出口在圖中未畫出,該光投射出口可以為該電子設(shè)備任意位置設(shè)置的可以透光的出口即可,當(dāng)然,為了實(shí)現(xiàn)出口復(fù)用,該光投射出口也可以為電子設(shè)備中已設(shè)有的手電筒出光口。

其中,處理器701,用于獲取電子設(shè)備中當(dāng)前待投影的目標(biāo)內(nèi)容,并確定所述目標(biāo)內(nèi)容的投影參數(shù);依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式;基于所述光束輸出模式,控制所述微型投影芯片對(duì)所述目標(biāo)內(nèi)容進(jìn)行投影。

所述微型投影芯片702,用于在該處理器的控制下,將所述目標(biāo)內(nèi)容對(duì)應(yīng)的投射光束經(jīng)所述光路改變模型和所述光投射出口投射至距離所述電子設(shè)備第一距離的投影載體上,其中,所述光束輸出模式不同時(shí),所述第一區(qū)域的面積大小不同。

可以理解的是,本申請(qǐng)中的該電子設(shè)備可以為平板電腦、掌上電腦等。

可選的,所述光路改變模塊為電致折射率改變型的透光體;

所述投射參數(shù)包括:光束經(jīng)所述光路改變模塊發(fā)生折射以及目標(biāo)折射率;

則所述處理器依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式為:依據(jù)所述目標(biāo)折射率,調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值,以使得所述透光體在所述目標(biāo)電壓值下的折射率為所述目標(biāo)折射率。

在此基礎(chǔ)上,可選的,所述透光體可以為多面體,且所述透光體至少有一個(gè)平面對(duì)為透光面,其中,所述平面對(duì)包括所述多面體的兩個(gè)相對(duì)平面;

則所述處理器依據(jù)所述目標(biāo)折射率,調(diào)整加載到所述透光體上的電壓值為目標(biāo)電壓值為:所述處理器依據(jù)所述目標(biāo)折射率,設(shè)定加載到所述透光體 上的電壓值為目標(biāo)電壓值,并調(diào)整所述透光體中透光的平面朝向所述投射光束的待投射方向。

可選的,所述透光體的至少一個(gè)面為光反射面;

當(dāng)所述光束變化參數(shù)還包括:所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率;

則所述電子設(shè)備所述依據(jù)所述投影參數(shù),調(diào)整所述目標(biāo)內(nèi)容的投射光束在所述光路改變模塊的光束輸出模式還包括:依據(jù)所述目標(biāo)反射率,從所述至少一個(gè)光反射面中確定目標(biāo)反射面,并調(diào)整所述投射光束的待投射方向?yàn)槌蛩瞿繕?biāo)反射面的方向。

可選的,在該光路改變模塊具有多個(gè)折射率和/或反射率的前提下,該光路改變模塊可以為各個(gè)面的反射率不同的多面體;

則當(dāng)所述光束變化參數(shù)包括所述投射光束發(fā)生反射以及目標(biāo)反射率時(shí),,該處理器可以用于將所述多面體中反射率為所述目標(biāo)反射率的一面作為所述投射光束的待投射面,調(diào)整所述待投射面處于所述投射光束的待投射方向上。

本說明書中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述,每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處,各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見即可。對(duì)于實(shí)施例公開的裝置而言,由于其與實(shí)施例公開的方法相對(duì)應(yīng),所以描述的比較簡(jiǎn)單,相關(guān)之處參見方法部分說明即可。

對(duì)所公開的實(shí)施例的上述說明,使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本申請(qǐng)。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的,本文中所定義的一般原理可以在不脫離本申請(qǐng)的精神或范圍的情況下,在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此,本申請(qǐng)將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例,而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。

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