專利名稱：基于紋理特性的hevc幀內(nèi)預(yù)測模式的快速選擇方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及視頻編解碼技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種基于紋理特性的HEVC幀內(nèi)預(yù)測模式的快速選擇方法及裝置。
背景技術(shù)：
HEVC (High Efficiency Video Coding)協(xié)議旨在提供一種比當(dāng)前 H. 264 協(xié)議壓縮率更高且計算復(fù)雜度沒有顯著增加的高分辨率視頻編解碼技術(shù)。HEVC提出了三種更加高效和富有彈性的視頻內(nèi)容表示單元，包括編碼單元(coding unit,⑶)，預(yù)測單元(prediction unit, PU),以及傳輸單兀(transform unit, TU)。其中 F1U 具有最小 4X4，最大64X64五種尺寸。為了適應(yīng)單元的變化以及提高預(yù)測的準(zhǔn)確度，HEVC引入了幀內(nèi)預(yù)測方法(Arbitrary Direction Intra, ADI)。該方法定義了多達35種的巾貞內(nèi)預(yù)測模式，并以率失真優(yōu)化(rate-distortion optimization, RDO)為準(zhǔn)則對35種模式進行搜索,從而確定唯一的最優(yōu)預(yù)測模式。由于RDO的計算非常耗時，直接對全部的35種預(yù)測模式進行RDO篩選在實現(xiàn)上并不可行。因此，HEVC設(shè)計了一種“先粗選后細(xì)選(Rough-to-Fine)”的模式選擇方案，方案的流程如圖I。ADI初始化根據(jù)當(dāng)前I3U的大小，確定當(dāng)前搜索的預(yù)測模式數(shù)為35 (Size>8X8)或18 (Size〈=8X8)。模式粗選(Rough mode decision)使用計算量相對較小的哈達馬變換,計算每種預(yù)測模式的殘差變換絕對值(Sum of absolute transformed differences, SATD),從中篩選出若干具有最小SATD值的候選模式。之后對生成的候選模式進行RDO細(xì)選(RD0mode decision),計算每個候選模式的RD0,最終確定唯一的預(yù)測方向模式。該方案的主要特點是具有較高的編碼質(zhì)量?？墒墙y(tǒng)計結(jié)果表明，采用“先粗選后細(xì)選”篩選策略后，在HEVC推薦的高性能模式配置和低復(fù)雜度模式配置下，幀內(nèi)預(yù)測的模式選擇依然分別占用整個編碼過程78%和62%的處理時間?？梢钥闯?，過多的模式搜索量是使得模式選擇成為整個編碼系統(tǒng)的效率瓶頸的主要原因。因此，提高編碼效率的根本在于在保證編碼質(zhì)量的前提下，盡可能地減少需要搜索的模式方向個數(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
(一)解決的技術(shù)問題過多的模式搜索量使得整個編碼系統(tǒng)的模式選擇效率低下的問題。(二)技術(shù)方案一種基于紋理特性的HEVC幀內(nèi)預(yù)測模式的快速選擇方法，所述方法包括A :確定待預(yù)測單元I3U的邊緣紋理圖中每個元素的幅值及方向；B :對方向進行統(tǒng)計，生成紋理方向統(tǒng)計直方圖；C :對所述PU的強紋理方向進行判定，當(dāng)所述具有強紋理方向且與任一相鄰塊的預(yù)測模式方向匹配時，則將所述強紋理方向?qū)?yīng)的模式作為最終預(yù)測模式；所述強紋理方向為所述PU在任一方向上的幅值能量與所述紋理方向統(tǒng)計直方圖中所有方向總幅值的總能量的比值大于預(yù)設(shè)閾值時的方向。優(yōu)選地，步驟A中利用最大匹配法確定所述邊緣紋理圖中每個元素的方向，所述最大匹配法為用定點運算完成所述方向與預(yù)測模式方向之間匹配度的運算。
優(yōu)選地，所述方法進一步包括當(dāng)所述包含nXn像素，則可得到大小為mXm的幅值表；其中，m=n-l。優(yōu)選地，步驟B具體包括將所述邊緣紋理圖中所有方向一致的元素的幅值進行累加，通過比較各個方向的累加值，生成紋理方向統(tǒng)計直方圖。優(yōu)選地，所述累加值最大的紋理方向為紋理主方向；生成紋理方向統(tǒng)計直方圖時采用相鄰方向加權(quán)投票機制；所述相鄰方向加權(quán)投票機制為邊緣紋理圖中的每個元素將自身幅值向紋理主方向投票的同時，將幅值與加權(quán)系數(shù)的乘積值投票給紋理主方向的相鄰方向。優(yōu)選地，在步驟C中，當(dāng)判定不存在所述強紋理方向或者當(dāng)所述具有強紋理方向但與任一相鄰塊的預(yù)測模式方向不匹配時，則確定最小搜索方向集合。優(yōu)選地，當(dāng)紋理方向統(tǒng)計直方圖中非零值少于最小搜索方向個數(shù)時，則舍棄零值方向，從而得到非零值的模式；對非零值的模式計算SATD值并進行篩選，得到具有最小SATD值的候選模式。優(yōu)選地，當(dāng)次小SATD值與最小SATD值的比值超過預(yù)定閾值時，則所述最小SATD值對應(yīng)的模式為最終預(yù)測模式。優(yōu)選地，若次小SATD值與最小SATD值的比值未超過預(yù)定閾值，則對所述候選模式進行RDO計算，從而得到最終預(yù)測模式。一種基于紋理特性的HEVC幀內(nèi)預(yù)測模式的快速選擇裝置，所述裝置包括紋理幅值計算與方向判定模塊，用于計算待預(yù)測單元的邊緣紋理圖中每個元素的幅值和判定所述I3U的邊緣紋理圖中每個元素的方向；紋理方向統(tǒng)計直方圖生成模塊，用于根據(jù)對所述方向進行統(tǒng)計，生成紋理方向統(tǒng)計直方圖；強紋理方向判定模塊，用于判定所述是否具有強紋理方向和所述強紋理方向是否與任一相鄰塊的預(yù)測模式方向匹配；當(dāng)所述具有強紋理方向且與任一相鄰塊的預(yù)測模式方向匹配時，則將所述強紋理方向?qū)?yīng)的模式作為最終預(yù)測模式； 所述強紋理方向為所述PU在任一方向上的幅值能量與所述紋理方向統(tǒng)計直方圖中所有方向總幅值的總能量的比值大于預(yù)設(shè)閾值時的方向。(三)有益效果本發(fā)明通過考察待預(yù)測單元的紋理方向分布特征，從全部的待搜索方向集合中篩選出最有可能的一個或幾個模式方向，在保證編碼質(zhì)量的前提下，減少了搜索次數(shù)，有效降低模式選擇的計算時間，顯著提高模式選擇速度。


為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖I為HEVC幀內(nèi)預(yù)測流程圖；圖2為本發(fā)明提供的基于紋理特征的快速模式選擇算法流程圖；圖3為本發(fā)明提供的紋理幅值計算與方向判定流程圖；圖4為本發(fā)明提供的紋理方向統(tǒng)計流程圖；圖5為本發(fā)明提供的強紋理方向判定流程圖；圖6為本發(fā)明提供的生成最小搜索方向集合流程圖；圖7為本發(fā)明提供的像素與紋理表元素之間的對應(yīng)關(guān)系圖。
具體實施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述。實施例I本發(fā)明提出了一種基于紋理特性的HEVC幀內(nèi)預(yù)測模式的快速選擇方法，所述方法包括A :確定待預(yù)測單元I3U的邊緣紋理圖中每個元素的幅值及方向；B :對方向進行統(tǒng)計，生成紋理方向統(tǒng)計直方圖；C :對所述PU的強紋理方向進行判定，當(dāng)所述具有強紋理方向且與任一相鄰塊的預(yù)測模式方向匹配時，則將所述強紋理方向?qū)?yīng)的模式作為最終預(yù)測模式；所述強紋理方向為所述PU在任一方向上的幅值能量與所述紋理方向統(tǒng)計直方圖中所有方向總幅值的總能量的比值大于預(yù)設(shè)閾值時的方向。優(yōu)選地，步驟A中利用最大匹配法確定所述邊緣紋理圖中每個元素的方向，所述最大匹配法為用定點運算完成所述方向與預(yù)測模式方向之間匹配度的運算。優(yōu)選地，所述方法進一步包括當(dāng)所述PU包含ηXη像素，則可得到大小為mXm的幅值表；其中，m=n-l。優(yōu)選地，步驟B具體包括將所述邊緣紋理圖中所有方向一致的元素的幅值進行累加，通過比較各個方向的累加值，生成紋理方向統(tǒng)計直方圖。優(yōu)選地，所述累加值最大的紋理方向為紋理主方向；生成紋理方向統(tǒng)計直方圖時采用相鄰方向加權(quán)投票機制；所述相鄰方向加權(quán)投票機制為邊緣紋理圖中的每個元素將自身幅值向紋理主方向投票的同時，將幅值與加權(quán)系數(shù)的乘積值投票給紋理主方向的相鄰方向。優(yōu)選地，在步驟C中，當(dāng)判定不存在所述強紋理方向或者當(dāng)所述具有強紋理方向但與任一相鄰塊的預(yù)測模式方向不匹配時，則確定最小搜索方向集合。
優(yōu)選地，當(dāng)紋理方向統(tǒng)計直方圖中非零值少于最小搜索方向個數(shù)時，則舍棄零值方向，從而得到非零值的模式；對非零值的模式計算SATD值并進行篩選，得到具有最小SATD值的候選模式。優(yōu)選地，當(dāng)次小SATD值與最小SATD值的比值超過預(yù)定閾值時，則所述最小SATD值對應(yīng)的模式為最終預(yù)測模式。 優(yōu)選地，若次小SATD值與最小SATD值的比值未超過預(yù)定閾值，則對所述候選模式進行RDO計算，從而得到最終預(yù)測模式。實施例2本發(fā)明還提出一種更為具體地基于紋理特性的HEVC幀內(nèi)預(yù)測模式的快速選擇方 法，其算法實現(xiàn)的總體流程如圖2。具體包括紋理幅值計算與方向判定、紋理方向統(tǒng)計直方圖生成，強紋理方向判定，生成最小搜索方向集合，以及基于SATD值的模式舍棄等子過程。這些過程能夠直接嵌入HEVC原有幀內(nèi)預(yù)測處理流程，不需要改動協(xié)議原有的粗選與細(xì)選等標(biāo)準(zhǔn)過程的程序代碼。算法采用2X2濾波器計算待預(yù)測塊的邊緣紋理圖，下面對算法各個子過程的細(xì)節(jié)進行說明。紋理幅值計算與方向判定該過程輸入包含nXn像素的PU，全部的像素以相鄰的4個像素為頂點，構(gòu)成mXm(m=n-l)個最小正方形,對每個正方形按照文獻[I]給出方法,計算當(dāng)前正方形對應(yīng)的邊緣梯度向量G和幅值A(chǔ)mp,從而得到當(dāng)前PU的幅值表,記為Amp [I :mXm]。即幅值表中的第(i, j)個元素對應(yīng)第(i，j)個最小正方形，之后的表述遵循此對應(yīng)關(guān)系。對幅值表中的每個元素進行最大匹配判定，并將判定出的模式方向存儲在紋理方向表Dir35[l :mXm]中。由于HEVC標(biāo)準(zhǔn)協(xié)議規(guī)定，當(dāng)PU的大小為4X4時，預(yù)測方向只有18種,在此情況下,紋理方向表只需要對這18種方向進行記錄,記為Dirl8[l :mXm]。生成幅值表和紋理方向表中第(i，j)個元素的流程如圖3，包括以下步驟I.根據(jù)公式(I)分別計算X、Y方向上的幅值分量Dx(i，j) &Dy(i，j)。2.根據(jù)公式(I)計算 Amp (i, j)。3.根據(jù)公式(3)計算17種匹配值D。4.根據(jù)公式(4)、(5)、(6)確定當(dāng)前元素在33個方向上的匹配值D”5. PU的大小為4X4時,查找協(xié)議規(guī)定的18種預(yù)測方向中的最大匹配值,確定當(dāng)前元素的模式方向，寫入Dirl8(i，j)。PU的大小大于4X4時,查找協(xié)議規(guī)定的35種預(yù)測方向中的最大匹配值,確定當(dāng)前元素的模式方向，寫入Dir35(i，j)。紋理方向統(tǒng)計紋理方向統(tǒng)計是將所有模式方向一致的元素的幅值進行累加，通過比較各個方向的累加值，生成預(yù)測方向統(tǒng)計直方圖，從而確定當(dāng)前PU的預(yù)測方向。其中累加值最大的為紋理主方向。生成紋理方向統(tǒng)計直方圖時采用相鄰方向加權(quán)投票機制，邊緣紋理圖中的每個元素不僅向最大匹配法檢測到的主方向投票自己的幅值，同時將幅值乘以加權(quán)系數(shù)，投票給主方向的相鄰方向。本發(fā)明給出加權(quán)系數(shù)經(jīng)驗值為O. 5。定義紋理方向統(tǒng)計直方圖為H[35]，該過程的循環(huán)結(jié)構(gòu)如圖4所示。紋理表第(i，j)個元素對所屬Dir方向以相鄰方向加權(quán)方式進行幅值投票的實現(xiàn)步驟如下6 .如果 F1U 大于 4X4,投票方向編號 Idx_main=Dir35 (i, j),否則 Idx_main=Dirl8(i, j)。7.按照ADI定義的模式方向順序,確定主方向的鄰居方向Idx_nbr。8.對主方向進行幅值投票H[Idx_main]=H[Idx_main]+Amp (i, j)。9.以O(shè). 5為加權(quán)值，向相鄰方向加權(quán)投票H[Idx_nbr] =H[Idx_nbr] +Amp (i,j) X0. 5。強紋理方向判定定義總幅值能量為TotalAmp,定義當(dāng)前PU的強紋理方向編號為Idx_strong。當(dāng)前PU上方鄰接塊的預(yù)測模式方向編號為Idx_Above，左側(cè)鄰接塊的預(yù)測模式方向編號為Idx_Left。如果當(dāng)前在某一方向的幅值投票值占總幅度值的比值超過預(yù)設(shè)的閥值，定義該方向為強紋理方向。假設(shè)當(dāng)前方向編號為i，如果當(dāng)前方向上的幅值能量占總能量的比例超過預(yù)定閾值，即進入強紋理方向處理流程，如圖5。10.當(dāng)PU尺寸大于8X8時，經(jīng)驗閾值為O. 25，如果H[i]>0. 25XTotal_Amp，令I(lǐng)dx_strong=i,否則進入生成最小搜索方向集合過程。11.當(dāng)PU尺寸小于8X8時，經(jīng)驗閾值為O. 125，如果H[i] >0. 125 X Total_Amp，令I(lǐng)dx_strong=i,否則進入生成最小搜索方向集合過程。12.如果強紋理方向存在，且滿足(Idx_strong==Idx_Above)&&(Idx_strong〈18)或(Idx_strong==Idx_Left)&&(Idx_strong 彡 18),則將 Idx_strong 確定為最終的模式方向，并直接進入最后的RDO預(yù)測方向模式過程。13.否則進入最小搜索方向集合生成過程。生成最小搜索方向集合定義Ref [O 34]為最小搜索方向集合。Ref [i] (O彡i彡34)為I時，表示方向編號為i的模式在最小搜索集合中。粗選過程將只對Ref [O 34]中為I的方向模式進行搜索。HEVC協(xié)議要求搜索方向中總是包含DC與Planar模式，因此Ref [O]和Ref [3]初始值總是1，其他方向初始值為O。定義最小搜索方向的個數(shù)Num_min，如果PU>8X8，Num_min初始值等于4，否則為8。當(dāng)方向統(tǒng)計直方圖H
中非零值少于Num_min時，算法會降低Num_min的取值以進一步減少搜索方向個數(shù)。具體流程如圖6。14.去除DC與Planar模式后，按照幅值大小降序排列H
的索引，得到DEC_Idx[O :32]。15.令 s=0, t=0，遍歷 DEC_Idx[O 32]。16.如果 t〈Num_min-2，且 H[DEC_Idx[s]]古 0，則將 Ref [O :34]中由 DEC_Idx[s]及其相鄰方向指定的數(shù)組位，置I。同時s，t均加I17.如果 t〈Num_min-2,且 H[DEC_Idx[s]]=0,則終止遍歷。更新 Num_min=s+2。18.如果 t>Num_min-2 結(jié)束遍歷?；赟ATD值的模式舍棄粗選過程通過計算SATD篩選出若干候選模式，細(xì)選過程對這些模式進行RDO計算從而確定最終的預(yù)測模式，其中，細(xì)選過程為HEVC協(xié)議的標(biāo)準(zhǔn)過程。本算法通過考察SATD值，在次小SATD_sub與最小SATDjnin的比值超過預(yù)定閾值時，直接跳過細(xì)選過程并確定最終的模式。具體流程為19.給定經(jīng)驗閾值為 O. 125，如果 SATD_sub>0. 125*SATD_min,則將 SATDjnin 對應(yīng)的方向模式確定為最終選擇模式，并跳過細(xì)選過程。20.否則，進入細(xì)選過程。相關(guān)公式I.算法使用2 X 2濾波器得到的紋理邊緣特征，濾波器的公式描述為
= ( , 0Vij)
g^U = (Pi+ij+1 + Pij+i) - (Pi+ij + Pij) Gyij = (pi+1J+1 + pi+1j) - (PU+1 + Pu) { }
Amp(Gij) = I Gx.. j + I Gv,. I其中Gi，j為邊緣梯度向量，由水平匕，與豎直^1;兩個分量組成，P為像素的灰度值。Amp為梯度向量的幅值。輸入當(dāng)前I3U中任意四個以圖7方式相鄰的像素，通過公式(I)可以計算出該四個像素構(gòu)成的最小正方形的邊緣梯度向量G和幅值A(chǔ)mp。由此可知，當(dāng)前PU大小為nXn時，可由公式(I)對應(yīng)生成大小為mXm (m=n_l)的幅值表。2.最大匹配判定基于公式(2)、(3)、(4)、(5)、(6)。對于由公式(I)生成的幅值表中的任意一個元素，定義Di為該元素在HEVC預(yù)定義的35種模式方向上的匹配度值。本算法設(shè)計的最大匹配判定不適用35種模式中的DC與Planar，因此本算法將與之對應(yīng)的Dtl與D3恒置為0，并將DC與Planar補充進生成的最小搜索模式集合。其余的D1, D2及D4 D34，共計33種模式的最大匹配值計算方法由公式(2)給出
(Di = Gy-[R- sin 0t] + Gx ■ [R ■ cos 0 ]
IDmax = Inax(IDiI), i G
, i Ψ 0,3根據(jù)HEVC協(xié)議標(biāo)準(zhǔn)，公式(2)中的33種模式中的每種模式均對應(yīng)一個固定的方向角度。因此私的取值為33種模式方向角度值。R為常量，用以提高取整的精確度，在本算法中R取值為128。由于33種模式方向關(guān)于的對稱性，實際只需要計算17種匹配度絕對值，然后根據(jù)Gj^PGy的符號確定Di的實際取值。此外，由于方向角度的固定性，可以預(yù)計算出各個方向角度的Wn 0#PCOS 0( ，從而進一步提高算法速度。17種匹配度絕對值的計算方法由公式
(3)給出
權(quán)利要求
1.一種基于紋理特性的HEVC幀內(nèi)預(yù)測模式的快速選擇方法，其特征在于，所述方法包括 A :確定待預(yù)測單元PU的邊緣紋理圖中每個元素的幅值及方向； B :對方向進行統(tǒng)計，生成紋理方向統(tǒng)計直方圖； C :對所述的強紋理方向進行判定，當(dāng)所述具有強紋理方向且與任一相鄰塊的預(yù)測模式方向匹配時，則將所述強紋理方向?qū)?yīng)的模式作為最終預(yù)測模式； 所述強紋理方向為所述PU在任一方向上的幅值能量與所述紋理方向統(tǒng)計直方圖中所有方向總幅值的總能量的比值大于預(yù)設(shè)閾值時的方向。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，步驟A中利用最大匹配法確定所述邊緣紋理圖中每個元素的方向，所述最大匹配法為用定點運算完成所述方向與預(yù)測模式方向之間匹配度的運算。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的方法，其特征在于，所述方法進一步包括當(dāng)所述PU包含nXn像素，則可得到大小為mXm的幅值表；其中，m=n_l。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，步驟B具體包括將所述邊緣紋理圖中所有方向一致的元素的幅值進行累加，通過比較各個方向的累加值，生成紋理方向統(tǒng)計直方圖。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述累加值最大的紋理方向為紋理主方向； 生成紋理方向統(tǒng)計直方圖時采用相鄰方向加權(quán)投票機制； 所述相鄰方向加權(quán)投票機制為邊緣紋理圖中的每個元素將自身幅值向紋理主方向投票的同時，將幅值與加權(quán)系數(shù)的乘積值投票給紋理主方向的相鄰方向。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，在步驟C中， 當(dāng)判定不存在所述強紋理方向或者當(dāng)所述PU具有強紋理方向但與任一相鄰塊的預(yù)測模式方向不匹配時，則確定最小搜索方向集合。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于， 當(dāng)紋理方向統(tǒng)計直方圖中非零值少于最小搜索方向個數(shù)時，則舍棄零值方向，從而得到非零值的模式； 對非零值的模式計算SATD值并進行篩選，得到具有最小SATD值的候選模式。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，當(dāng)次小SATD值與最小SATD值的比值超過預(yù)定閾值時，則所述最小SATD值對應(yīng)的模式為最終預(yù)測模式。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，若次小SATD值與最小SATD值的比值未超過預(yù)定閾值，則對所述候選模式進行RDO計算，從而得到最終預(yù)測模式。
10.一種基于紋理特性的HEVC幀內(nèi)預(yù)測模式的快速選擇裝置，其特征在于，所述裝置包括 紋理幅值計算與方向判定模塊，用于計算待預(yù)測單元PU的邊緣紋理圖中每個元素的幅值和判定所述I3U的邊緣紋理圖中每個元素的方向； 紋理方向統(tǒng)計直方圖生成模塊，用于根據(jù)對所述方向進行統(tǒng)計，生成紋理方向統(tǒng)計直方圖； 強紋理方向判定模塊，用于判定所述PU是否具有強紋理方向和所述強紋理方向是否與任一相鄰塊的預(yù)測模式方向匹配； 當(dāng)所述PU具有強紋理方向且與任一相鄰塊的預(yù)測模式方向匹配時，則將所述強紋理方向?qū)?yīng)的模式作為最終預(yù)測模式； 所述強紋理方向為所述PU在任一方向上的幅值能量與所述紋理方向統(tǒng)計直方圖中所有方向總幅值的總能量的比值大于預(yù)設(shè)閾值時的方向。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種基于紋理特性的HEVC幀內(nèi)預(yù)測模式的快速選擇方法及裝置，通過確定待預(yù)測單元PU的邊緣紋理圖中每個元素的紋理幅值及紋理方向，生成紋理方向統(tǒng)計直方圖，進而對所述PU的強紋理方向進行判定，當(dāng)所述PU具有強紋理方向且與任一鄰接塊的預(yù)測模式方向匹配時，則將所述強紋理方向作為最終預(yù)測模式方向。本發(fā)明在保證編碼質(zhì)量的前提下，減少了搜索次數(shù)，有效降低模式選擇的計算時間，顯著提高模式選擇速度。
文檔編號H04N7/32GK102843559SQ20121033783
公開日2012年12月26日 申請日期2012年9月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月12日
發(fā)明者劉振宇, 陳 光, 汪東升 申請人:清華大學(xué)