本申請(qǐng)涉及干燥,特別涉及一種基片的真空干燥裝置及加工系統(tǒng)。
背景技術(shù):
1、鈣鈦礦型太陽(yáng)能電池由于高轉(zhuǎn)換效率、低成本、環(huán)境友善等優(yōu)點(diǎn)正在受到越來越廣泛的關(guān)注。并且,鈣鈦礦太陽(yáng)能的光電轉(zhuǎn)換效率在短短幾年內(nèi)提升了數(shù)倍,表現(xiàn)出非常優(yōu)異的光電性能。
2、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池成型時(shí),需要在基片上成型多個(gè)膜層,一般地,采用刮涂、噴涂等形式形成膜層。隨后需要將膜層進(jìn)行真空干燥,以去除溶劑。
3、相關(guān)技術(shù)中,設(shè)置真空箱,并將覆蓋有膜層的基片送至真空箱內(nèi),并利用負(fù)壓裝置對(duì)真空箱進(jìn)行抽氣,以在真空箱內(nèi)完成對(duì)基片的干燥工藝。
4、一般地,真空箱具有一個(gè)上下料口,干燥時(shí),需要將基片送至真空箱內(nèi),并關(guān)閉真空箱的門體,隨后進(jìn)行干燥工藝,干燥完成后,再將基片取出,隨后再將下一基片上料至真空箱內(nèi)。
5、在基片上下料的過程中,不僅需要外部機(jī)械手將基片送至真空箱內(nèi)部,而且還需先將干燥后的基片取出后,再將需干燥的基片送至真空箱內(nèi)。因此基片上下料時(shí),需要的額外輔助設(shè)備較多,并且基片的上下料的工作效率較慢,難以滿足大批量基片的加工需求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種基片的真空干燥裝置及加工系統(tǒng),以解決相關(guān)技術(shù)中基片上下料時(shí),需要的額外輔助設(shè)備較多,且上下料效率慢,難以滿足大批量基片的加工需求的技術(shù)問題。
2、第一方面,提供了一種基片的真空干燥裝置,其包括:
3、支撐件;
4、輸送組件,所述輸送組件安裝于所述支撐件,且所述輸送組件用于支撐并輸送基片;
5、罩體,所述罩體位于所述支撐件上方,所述罩體下方開口設(shè)置;
6、升降驅(qū)動(dòng)組件,所述升降驅(qū)動(dòng)組件與所述支撐件,和/或,所述罩體驅(qū)動(dòng)連接,以帶動(dòng)所述支撐件或所述罩體升降運(yùn)動(dòng),以使所述罩體適于扣合于所述支撐件,所述罩體和所述支撐件適于形成密封腔,所述輸送組件位于所述密封腔內(nèi);
7、負(fù)壓裝置,所述罩體,和/或,所述支撐件上開設(shè)有抽氣口,所述負(fù)壓裝置的抽氣端與所述抽氣口連通。
8、一些實(shí)施例中,所述輸送組件包括:
9、輸送架,所述輸送架安裝于所述支撐件;
10、輸送輪組,所述輸送輪組包括多個(gè)輸送桿和多個(gè)輸送輪,多個(gè)所述輸送桿均轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述輸送架,且多個(gè)所述輸送桿沿其徑向間隔排列,每個(gè)所述輸送桿上均同軸固定套設(shè)有多個(gè)所述輸送輪,多個(gè)所述輸送輪用于支撐所述基片;
11、輸送驅(qū)動(dòng)件,所述輸送驅(qū)動(dòng)件與多個(gè)所述輸送桿驅(qū)動(dòng)連接,以帶動(dòng)多個(gè)所述輸送桿同步轉(zhuǎn)動(dòng)。
12、一些實(shí)施例中,所述輸送驅(qū)動(dòng)件包括:
13、多個(gè)第一磁力輪,多個(gè)所述第一磁力輪分別同軸固定于多個(gè)所述輸送桿;
14、傳動(dòng)桿,所述傳動(dòng)桿轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述輸送架;
15、多個(gè)第二磁力輪,多個(gè)所述第二磁力輪均同軸固定于所述傳動(dòng)桿,所述第二磁力輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線與所述第一磁力輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線正交,且多個(gè)所述第二磁力輪分別與多個(gè)所述第一磁力輪傳動(dòng)配合;
16、第三磁力輪,所述第三磁力輪轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述輸送架,所述第三磁力輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線與所述第二磁力輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線正交,且所述第三磁力輪與一個(gè)所述第二磁力輪傳動(dòng)配合;
17、輸送旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件,所述輸送旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件安裝于所述輸送架,且所述輸送旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件與所述第三磁力輪驅(qū)動(dòng)連接,以帶動(dòng)所述第三磁力輪轉(zhuǎn)動(dòng)。
18、一些實(shí)施例中,該基片的真空干燥裝置還包括定位組件,所述定位組件包括兩組定位輪組,所述定位輪組安裝于所述支撐件,所述定位輪組包括多個(gè)沿所述輸送組件的輸送方向排列的定位輪;
19、兩組所述定位輪組在垂直于所述輸送方向上間隔設(shè)置,且兩組所述定位輪組分別用于接觸所述基片的相對(duì)兩側(cè)邊。
20、一些實(shí)施例中,所述升降驅(qū)動(dòng)組件包括:
21、升降架;
22、升降驅(qū)動(dòng)件,所述升降驅(qū)動(dòng)件安裝于所述升降架,所述升降驅(qū)動(dòng)件與所述罩體,和/或,所述支撐件驅(qū)動(dòng)連接,以帶動(dòng)所述罩體或所述支撐件升降運(yùn)動(dòng)。
23、一些實(shí)施例中,所述負(fù)壓裝置包括負(fù)壓發(fā)生器、連通管和柔性管,所述連通管的兩端分別與所述負(fù)壓發(fā)生器的抽氣端和所述柔性管連通,所述柔性管背離所述連通管的一端與所述抽氣口連通。
24、一些實(shí)施例中,該基片的真空干燥裝置還包括導(dǎo)流組件,所述導(dǎo)流組件安裝于所述支撐件或所述罩體的內(nèi)側(cè),且所述導(dǎo)流組件正對(duì)于所述抽氣口設(shè)置,所述導(dǎo)流組件包括:
25、多個(gè)導(dǎo)流板,所述導(dǎo)流板上均開設(shè)有多個(gè)導(dǎo)流孔,多個(gè)所述導(dǎo)流板間隔設(shè)置,且多個(gè)所述導(dǎo)流板上的多個(gè)所述導(dǎo)流孔錯(cuò)開設(shè)置。
26、一些實(shí)施例中,所述支撐件包括支撐箱,所述支撐箱頂部開口設(shè)置,且所述輸送組件的輸送端高于所述支撐箱的頂部。
27、一些實(shí)施例中,該基片的真空干燥裝置還包括防護(hù)罩,所述支撐件、所述罩體、所述升降驅(qū)動(dòng)組件均位于所述防護(hù)罩內(nèi),且所述防護(hù)罩的相對(duì)兩側(cè)面均開設(shè)有料口,兩個(gè)所述料口的連線方向與所述輸送組件的輸送方向一致。
28、本申請(qǐng)?zhí)峁┑募夹g(shù)方案帶來的有益效果包括:
29、本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種基片的真空干燥裝置,基片干燥處理時(shí),罩體與支撐件分離,將基片送至輸送組件的起始端,由輸送組件將基片轉(zhuǎn)移至支撐件的正上方,再由升降驅(qū)動(dòng)組件使得罩體和支撐件扣合,以將基片置于密封腔內(nèi),隨后負(fù)壓裝置對(duì)密封腔內(nèi)抽真空,以對(duì)基片進(jìn)行干燥處理?;稍锾幚斫Y(jié)束后,升降驅(qū)動(dòng)組件將支撐件和罩體分離,隨后輸送組件將干燥后基片輸送至末尾端以下料基片,同時(shí)輸送組件的起始段可同步將基片輸送至支撐件的正上方,以準(zhǔn)備對(duì)基片進(jìn)行干燥處理。因此,基片上下料時(shí),無需額外的機(jī)械手將基片從支撐件上進(jìn)行取送,批量基片上下料銜接更合理,加工節(jié)拍更好,加工效率更高,適應(yīng)于大批量基片的干燥處理需求。
30、第二方面,提供了一種基片的加工系統(tǒng),包括如上所述的基片的真空干燥裝置。
31、本申請(qǐng)另一實(shí)施例提供了一種基片的加工系統(tǒng),由于該基片的加工系統(tǒng)包括上述基片的真空干燥裝置,因此該基片的加工系統(tǒng)的有益效果與上述基片的真空干燥裝置的有益效果一致,在此不再贅述。
1.一種基片的真空干燥裝置,其特征在于,其包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片的真空干燥裝置,其特征在于,所述輸送組件包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基片的真空干燥裝置,其特征在于,所述輸送驅(qū)動(dòng)件包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片的真空干燥裝置,其特征在于,還包括定位組件,所述定位組件包括兩組定位輪組,所述定位輪組安裝于所述支撐件,所述定位輪組包括多個(gè)沿所述輸送組件的輸送方向排列的定位輪;
5.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的基片的真空干燥裝置,其特征在于,所述升降驅(qū)動(dòng)組件包括:
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片的真空干燥裝置,其特征在于,所述負(fù)壓裝置包括負(fù)壓發(fā)生器、連通管和柔性管,所述連通管的兩端分別與所述負(fù)壓發(fā)生器的抽氣端和所述柔性管連通,所述柔性管背離所述連通管的一端與所述抽氣口連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的基片的真空干燥裝置,其特征在于,還包括導(dǎo)流組件,所述導(dǎo)流組件安裝于所述支撐件或所述罩體的內(nèi)側(cè),且所述導(dǎo)流組件正對(duì)于所述抽氣口設(shè)置,所述導(dǎo)流組件包括:
8.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的基片的真空干燥裝置,其特征在于,所述支撐件包括支撐箱,所述支撐箱頂部開口設(shè)置,且所述輸送組件的輸送端高于所述支撐箱的頂部。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片的真空干燥裝置,其特征在于,還包括防護(hù)罩,所述支撐件、所述罩體、所述升降驅(qū)動(dòng)組件均位于所述防護(hù)罩內(nèi),且所述防護(hù)罩的相對(duì)兩側(cè)面均開設(shè)有料口,兩個(gè)所述料口的連線方向與所述輸送組件的輸送方向一致。
10.一種基片的加工系統(tǒng),其特征在于,包括如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的基片的真空干燥裝置。