本實用新型涉及烹飪器具領(lǐng)域，特別涉及一種線圈盤組件和電磁烹飪器具。
背景技術(shù)：
：現(xiàn)有采用電磁加熱方式的線圈盤，其上設(shè)置的線圈一般為同心圓繞組，同心圓繞組的線圈盤，繞組中間圓環(huán)位置的磁場相對繞組中心和外圍其他位置的磁場要強，鍋具加熱時，對應(yīng)繞組中間圓環(huán)位置的溫度相對其他位置要高，如此鍋具各部分受熱不均勻，易導(dǎo)致鍋具糊鍋、變形和烹飪效果不佳等問題。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的主要目的是提出一種線圈盤組件，旨在提高線圈盤座上各處磁場的均勻性，以使得鍋具受熱更加均勻。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提出的線圈盤組件，用于電磁烹飪器具，包括：線圈盤座；異形線圈繞組，設(shè)于所述線圈盤座，所述異形線圈繞組呈環(huán)形，其具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部；多個第一磁條，設(shè)于所述線圈盤座，并沿所述異形線圈繞組環(huán)周間隔分布，所述線圈盤座上設(shè)有供所述異形線圈繞組繞設(shè)的第一繞設(shè)區(qū)域，所述第一繞設(shè)區(qū)域為凹槽，所述第一磁條橫跨所述第一繞設(shè)區(qū)域設(shè)置。優(yōu)選地，所述第一磁條的內(nèi)端對應(yīng)位于一所述凸部所限定的內(nèi)部區(qū)域，所述第一磁條的外端對應(yīng)位于所述凹部所限定出的外部區(qū)域。優(yōu)選地，每一所述凹部對應(yīng)設(shè)有兩個所述第一磁條，該兩個所述第一磁條組成一磁條對，于所述磁條對中的兩個第一磁條自外端朝內(nèi)端呈逐漸遠離設(shè)置。優(yōu)選地，所述線圈盤組件還包括：圓環(huán)形線圈繞組，設(shè)于所述線圈盤座，且所述線圈盤座上設(shè)有供所述圓環(huán)形線圈繞組繞設(shè)的第二繞設(shè)區(qū)域；多個第二磁條，設(shè)于所述線圈盤座，并沿所述圓環(huán)形線圈繞組周向間隔分布，且所述第二磁條橫跨所述第二繞設(shè)區(qū)域設(shè)置。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組和所述圓環(huán)形線圈繞組內(nèi)外相間設(shè)置。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組位于所述圓環(huán)形線圈繞組的外圍。優(yōu)選地，一所述第二磁條和一所述磁條對組成一磁條組，且每一所述磁條組中，所述第二磁條的外端指向兩所述第一磁條之間區(qū)域。優(yōu)選地，所述第二磁條的數(shù)量為4-10根。優(yōu)選地，所述凸部的數(shù)量為4-10個。本實用新型還提出一種電磁烹飪器具，包括線圈盤組件，所述線圈盤組件包括：線圈盤座；異形線圈繞組，設(shè)于所述線圈盤座，所述異形線圈繞組呈環(huán)形，其具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部；多個第一磁條，設(shè)于所述線圈盤座，并沿所述異形線圈繞組環(huán)周間隔分布，所述線圈盤座上設(shè)有供所述異形線圈繞組繞設(shè)的第一繞設(shè)區(qū)域，所述第一繞設(shè)區(qū)域為凹槽，所述第一磁條橫跨所述第一繞設(shè)區(qū)域設(shè)置。優(yōu)選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或電壓力鍋。本實用新型技術(shù)方案中，在線圈盤座設(shè)有異形線圈繞組，其中，異形線圈繞組呈環(huán)形，并具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一凸部由異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，凸部之間為凹部。凸部靠近線圈盤座的外側(cè)，產(chǎn)生的磁場主要作用在靠外的位置，凹部靠內(nèi)設(shè)置，產(chǎn)生的磁場主要作用在靠內(nèi)的位置，如此，僅需要設(shè)置一組線圈繞組即可擴大磁場的分布范圍。同時，由于凸部和凹部是交錯設(shè)置的，也即靠內(nèi)磁場和靠外磁場交錯設(shè)置，其分布較為均勻，使得線圈盤組件整體的加熱更加均勻，從而改善了線圈盤組件的加熱效果。通過在異形線圈繞組上對應(yīng)設(shè)置第一磁條的方式，從而形成更好的聚磁作用，使得加熱效果更好。附圖說明為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本實用新型線圈盤組件一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中線圈盤組件的加熱區(qū)域分布示意圖。附圖標號說明：標號名稱標號名稱10線圈盤座30第一磁條20異形線圈繞組40圓環(huán)形線圈繞組21凸部50第二磁條22凹部本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進一步說明。具體實施方式下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。需要說明，若本實用新型實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運動情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。另外，若本實用新型實施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，則該“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。另外，各個實施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實現(xiàn)時應(yīng)當認為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實用新型要求的保護范圍之內(nèi)。本實用新型提出一種線圈盤組件。在本實用新型實施例中，如圖1所示，該線圈盤組件用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座10、異形線圈繞組20和多個第一磁條30，其中，異形線圈繞組20設(shè)于所述線圈盤座10，所述異形線圈繞組20呈環(huán)形，其具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部21，每一所述凸部21由所述異形線圈繞組20的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部21之間形成所述異形線圈繞組20的凹部22。多個第一磁條30設(shè)于所述線圈盤座10，并沿所述異形線圈繞組20環(huán)周間隔分布。所述線圈盤座10上設(shè)有供所述異形線圈繞組20繞設(shè)的第一繞設(shè)區(qū)域，所述第一繞設(shè)區(qū)域為凹槽，所述第一磁條30橫跨所述第一繞設(shè)區(qū)域設(shè)置。具體的，線圈盤座10用于支撐異形線圈繞組20，根據(jù)安培定則，沿環(huán)周間隔分布的凸部21和凹部22改變了線圈盤座10中的磁場分布情況，凸部21產(chǎn)生的磁場主要分布在線圈盤座10靠外的位置，而凹部22產(chǎn)生的磁場主要分布在線圈盤座10的靠內(nèi)的位置，如此，僅需要設(shè)置一組線圈繞組即可擴大磁場的分布范圍。第一磁條30橫跨第一繞設(shè)區(qū)域設(shè)置具體為，第一磁條30自內(nèi)朝外延伸，其兩端超出第一繞設(shè)區(qū)域的內(nèi)外側(cè)。例如，在一實施例中，第一磁條30與異形線圈繞組20設(shè)置在線圈盤座10的同一側(cè)。在另一實施例中，第一磁條30與異形線圈繞組20分別設(shè)置在線圈盤座10相對的兩側(cè)。本實用新型技術(shù)方案中，在線圈盤座10設(shè)有異形線圈繞組20，其中，異形線圈繞組20呈環(huán)形，并具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部21，每一凸部21由異形線圈繞組20的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，凸部21之間為凹部22。凸部21靠近線圈盤座10的外側(cè)，產(chǎn)生的磁場主要作用在靠外的位置，凹部22靠內(nèi)設(shè)置，產(chǎn)生的磁場主要作用在靠內(nèi)的位置，如此，僅需要設(shè)置一組線圈繞組即可擴大磁場的分布范圍。同時，由于凸部21和凹部22是交錯設(shè)置的，也即靠內(nèi)磁場和靠外磁場交錯設(shè)置，其分布較為均勻，使得線圈盤組件整體的加熱更加均勻，從而改善了線圈盤組件的加熱效果。通過在異形線圈繞組20上對應(yīng)設(shè)置第一磁條30的方式，從而形成更好的聚磁作用，使得加熱效果更好。所述第一磁條30橫跨所述第一繞設(shè)區(qū)域，例如在一實施例中，其具體可以是，所述第一磁條30對應(yīng)所述凸部21設(shè)置，而橫跨所述凸部21內(nèi)外側(cè)設(shè)置。由于在線圈盤座10中，加熱區(qū)域的分布與磁場強度的分布基本相對應(yīng)，即線圈盤座10中磁場較強的區(qū)域，加熱效果也較強。通過在凸部21對應(yīng)設(shè)置第一磁條30的方式，在該第一磁條30的聚磁作用下，凸部21的磁場較強，而在該凸部21處形成磁場集中分布區(qū)域，因此也相當于在凸部21形成一個加熱中心，多個凸部21形成多個分散的加熱中心。由于凹部22未設(shè)置第一磁條30，該凹部22處的磁場較弱，因而線圈盤座10上的磁場呈強弱間隔分布，也即多個加熱中心是間隔分布的，從而避免了加熱中心的重疊，使得線圈盤座10整體的加熱更加均勻，改善了線圈盤座10的加熱效果。在另一實施例中，所述第一磁條30對應(yīng)所述凹部22設(shè)置，而橫跨所述凹部22內(nèi)外側(cè)設(shè)置。如此在該第一磁條30的聚磁作用下，凹部22的磁場較強，而在該凹部22處形成磁場集中分布區(qū)域，因此也相當于在凹部22形成一個加熱中心，多個凹部22形成多個分散的加熱中心。同理，由于凸部21未設(shè)置第一磁條30，該凸部21處的磁場較弱，因而線圈盤座10上的磁場呈強弱間隔分布，也即多個加熱中心是間隔分布的，從而避免了加熱中心的重疊，使得線圈盤座10整體的加熱更加均勻，改善了線圈盤座10的加熱效果。在其它實施例中，所述第一磁條30同時對應(yīng)所述凹部22和與該凹部22相鄰的所述凸部21設(shè)置，例如，所述第一磁條30的內(nèi)端對應(yīng)位于一所述凸部21所限定的內(nèi)部區(qū)域，所述第一磁條30的外端對應(yīng)位于所述凹部22所限定出的外部區(qū)域。如此所述第一磁條30能夠?qū)⒋鸥芯€引導(dǎo)至所述凹部22外側(cè)和所述凸部21內(nèi)側(cè)，從而使得所述凹部22外側(cè)和所述凸部21內(nèi)側(cè)均具有磁感線分布，如此，使得異形線圈繞組20內(nèi)外側(cè)各處的磁場分布更加均勻，也即使得所述異形線圈繞組20上的加熱效果更加均勻。優(yōu)選地，每一所述凹部22對應(yīng)設(shè)有兩個所述第一磁條30，該兩個所述第一磁條30組成一磁條對，于所述磁條對中的兩所述第一磁條30自外端朝內(nèi)端呈逐漸遠離設(shè)置，而呈八字形分布。本實施例中，同一所述凹部22與相鄰的兩凸部21之間各設(shè)有一第一磁條30，從而使得凹部22在鄰接兩凸部21的兩側(cè)的磁場分布情況更加一致，也即使得各處磁場更加均勻。進一步地，所述線圈盤組件還包括設(shè)于所述線圈盤座10的圓環(huán)形線圈繞組40和多個第二磁條50，所述線圈盤座10上設(shè)有供所述圓環(huán)形線圈繞組40繞設(shè)的第二繞設(shè)區(qū)域，所述第二繞設(shè)區(qū)域為凹槽；多個第二磁條50沿所述圓環(huán)形線圈繞組40周向間隔分布，且所述第二磁條50橫跨所述第二繞設(shè)區(qū)域設(shè)置，以使得所述第二磁條50的內(nèi)端位于所述第二繞設(shè)區(qū)域限定的內(nèi)部區(qū)域，其外端對應(yīng)位于所述第二繞設(shè)區(qū)域的外部區(qū)域。根據(jù)安培定則，圓環(huán)形線圈繞組40所產(chǎn)生的磁場沿環(huán)周均勻分布，在線圈盤中形成連續(xù)分布的圓形或圓環(huán)形加熱區(qū)域，從而使得線圈盤在內(nèi)外方向上的加熱更加均勻，如圖2所示，虛線所圍成的圓形區(qū)域為圓環(huán)形線圈繞組40所形成的加熱區(qū)域。而第二磁條50同樣對圓環(huán)形線圈繞組40產(chǎn)生的磁場起到聚磁作用。進一步的，異形線圈繞組20和圓環(huán)形線圈繞組40內(nèi)外相間設(shè)置。線圈盤包括一個或多個異形線圈繞組20，以及，一個或多個圓環(huán)形線圈繞組40，通過內(nèi)外相間設(shè)置異形線圈繞組20和圓環(huán)形線圈繞組40，使沿環(huán)周分散的小加熱中心和連續(xù)的加熱區(qū)域在內(nèi)外方向上間隔分布，以保障線圈盤在內(nèi)外方向上加熱的均勻性，避免線圈盤內(nèi)部的加熱過強，同時，間隔設(shè)置小的加熱中心和大范圍的連續(xù)加熱區(qū)域，在線圈盤中均勻地引入多個加熱中心，以進一步改善線圈盤整體的加熱效果。在本實用新型的一實施例中，異形線圈繞組20位于圓環(huán)形線圈繞組40的外圍，相應(yīng)的，在線圈盤座10的中心形成一中心加熱區(qū)域，在該中心加熱區(qū)域外形成了多個分散的加熱中心。該實施例中，考慮到每一分散的加熱中心和連續(xù)加熱區(qū)域的擴散范圍，使外部的加熱中心之間、以及外部加熱中心和內(nèi)部的連續(xù)加熱區(qū)域之間不產(chǎn)生重疊或盲區(qū)；同時，考慮到線圈盤座10的生產(chǎn)，避免異形線圈繞組20的凸部21和凹部22之間的連接部折角過大而導(dǎo)致繞設(shè)困難。因此，異形線圈繞組20的凸部21的數(shù)量設(shè)置為4～10個，優(yōu)選為6個，6個分散的加熱中心之間、以及與位于線圈盤中部的圓形連續(xù)加熱區(qū)域之間，沒有重疊，且無過大的分隔距離所導(dǎo)致的加熱盲區(qū)，從而保證了線圈盤加熱的均勻性。當然，在其它實施例中，圓環(huán)形線圈繞組40也可設(shè)置在異形線圈繞組20的外部。上述實施例中，當異形線圈繞組20間隔設(shè)置在圓環(huán)形線圈繞組40的外圍時，為形成更好的磁場分布情況，第一磁條30和第二磁條50可以按照如下方式進行設(shè)置：一所述第二磁條50和一所述磁條對組成一磁條組，且每一所述磁條組中，所述第二磁條50的外端指向兩所述第一磁條30之間。也即同一磁條組中的第二磁條50和兩第一磁條30呈個字形分布。由于每一磁條對是對應(yīng)凹部22設(shè)置的，且第二磁條50的外端指向兩第一磁條30之間，也即第二磁條50的外端是指向凹部22設(shè)置的。第二磁條50的外端與兩第一磁條30的內(nèi)端距離較近，聚磁效果更強，則在該凹部22附近對應(yīng)形成更強的磁場，也即形成一加熱中心，多個凹部22對應(yīng)形成多個加熱中心，每一加熱中間間隔分布，從而避免加熱中心的重疊，使得線圈盤座10整體的加熱更加均勻，改善了線圈盤座10的加熱效果。同時，由于每一磁條對中的第一磁條30是自所述凹部22外側(cè)朝內(nèi)側(cè)逐漸朝相互遠離的方向傾斜，也即第一磁條30是朝凸部21所在位置傾斜的，則第一磁條30將磁場引導(dǎo)至凸部21，從而使得凸部21也具有較強的加熱效果，從而避免加熱盲區(qū)的產(chǎn)生。如圖2所示，虛線所圍成的圓形區(qū)域為圓環(huán)形線圈繞組40所形成的加熱區(qū)域，異形線圈繞組20所在區(qū)域的虛線所圍成的閉合區(qū)域即為加熱中心。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組20和圓環(huán)形線圈繞組40同心設(shè)置。如此，有利于各部分磁場的均勻性。所述第二磁條50沿所述圓環(huán)形線圈繞組40的徑向延伸，且所述凹部22的中心線與所述圓環(huán)形線圈繞組40的徑向方向重合，所述磁條對中的兩所述第一磁條30相對所述第二磁條50對稱設(shè)置，如此，能夠進一步增強磁場的均勻分布。該實施例中，若設(shè)置第二磁條50過多，則導(dǎo)致第二磁條50排布過于緊密，增加第二磁條50的成本；若設(shè)置第二磁條50過少，則不利于磁場的分散，因此所述第二磁條50的數(shù)量為4-10根，優(yōu)選為6根。在上述實施例中，線圈盤座10可以為純平式線圈盤座。異形線圈繞組20和/或圓環(huán)形線圈繞組40均繞設(shè)在同一平面上，相應(yīng)的，分散的加熱中心和/或連續(xù)加熱區(qū)域也分布在同一平面上，適用于對平底鍋具進行加熱。在上述實施例中，線圈盤座10也可以為平凹式線圈盤座，包括盤底和自盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，異形線圈繞組20設(shè)于盤底或側(cè)部，當異形線圈繞組20設(shè)于盤底時，盤底形成分散的加熱中心，以提高盤底的加熱強度；當異形線圈繞組20設(shè)于側(cè)部時，側(cè)部形成分散的加熱中心，以改善電磁加熱過程中側(cè)部加熱強度不足的問題，適應(yīng)多種烹飪需求。本實用新型還提出一種電磁烹飪器具，該電磁烹飪器具包括線圈盤，該線圈盤的具體結(jié)構(gòu)參照上述實施例，由于本電磁烹飪器具采用了上述所有實施例的全部技術(shù)方案，因此至少具有上述實施例的技術(shù)方案所帶來的所有有益效果，在此不再一一贅述。其中，電磁烹飪器具可以是根據(jù)電磁加熱原理工作的電磁爐、電飯煲或電壓力鍋等。以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是在本實用新型的發(fā)明構(gòu)思下，利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接/間接運用在其他相關(guān)的
技術(shù)領(lǐng)域：
均包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。當前第1頁1 2 3