本實用新型涉及電磁加熱領(lǐng)域，特別涉及一種線圈盤組件和電磁烹飪器具。
背景技術(shù)：
：相比傳統(tǒng)的加熱方式，電磁加熱具有效率高、安全性好、簡單方便等優(yōu)勢，基于電磁加熱原理的電磁烹飪器具受到了廣大用戶的喜愛。線圈盤組件是電磁烹飪器具的重要組件之一，其產(chǎn)生的高頻交變電磁場在鍋具中產(chǎn)生渦流以加熱。然而，現(xiàn)有的線圈盤組件中，由于磁場分布和散熱條件的差異，線圈盤組件內(nèi)部的加熱效果更強(qiáng)，進(jìn)而在線圈盤組件的盤心區(qū)域形成了一加熱中心，導(dǎo)致線圈盤組件整體的加熱不均勻，加熱效果差。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的主要目的是提出一種線圈盤組件，旨在解決上述線圈盤組件加熱不均勻的問題，改善其加熱效果。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提出的線圈盤組件，用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及多個線圈繞組，所述線圈盤座設(shè)有繞線槽，所述多個線圈繞組設(shè)于所述線圈盤座，所述多個線圈繞組均為環(huán)形且內(nèi)外相間設(shè)置，其中至少一個所述線圈繞組為異形線圈繞組，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，位于外側(cè)的所述線圈繞組的層數(shù)不小于位于內(nèi)側(cè)的所述線圈繞組的層數(shù)。優(yōu)選地，所述線圈繞組的層數(shù)為1～5層。優(yōu)選地，所述線圈繞組的層數(shù)為1～3層。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組中，每一層的所述凸部在垂直于所述線圈盤組件底面的方向上相重疊。優(yōu)選地，至少一個所述線圈繞組為圓環(huán)形線圈繞組。優(yōu)選地，所述圓環(huán)形線圈繞組設(shè)于所述異形線圈繞組的內(nèi)側(cè)或外側(cè)。優(yōu)選地，在一個所述線圈繞組中，所述線圈繞組的各層相互串聯(lián)。優(yōu)選地，所述線圈盤座為純平式線圈盤座。優(yōu)選地，所述線圈盤座為平凹式線圈盤座，所述線圈盤座包括盤底和自所述盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，側(cè)部的所述線圈繞組的層數(shù)不小于底部的所述線圈繞組的層數(shù)。本實用新型進(jìn)一步提出一種電磁烹飪器具，包括線圈盤組件，所述線圈盤組件包括線圈盤座以及多個線圈繞組，所述線圈盤座設(shè)有繞線槽，所述多個線圈繞組設(shè)于所述線圈盤座，所述多個線圈繞組均為環(huán)形且內(nèi)外相間設(shè)置，其中至少一個所述線圈繞組為異形線圈繞組，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，位于外側(cè)的所述線圈繞組的層數(shù)不小于位于內(nèi)側(cè)的所述線圈繞組的層數(shù)。優(yōu)選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或電壓力鍋。本實用新型技術(shù)方案的線圈盤組件中，多個線圈繞組設(shè)于線圈盤座，呈環(huán)形且內(nèi)外相間設(shè)置。在線圈繞組中，至少一個為異形線圈繞組，具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一凸部由異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，產(chǎn)生磁場強(qiáng)弱間隔分布的區(qū)域，進(jìn)而形成多個加熱中心，從而避免了傳統(tǒng)的線圈繞組中內(nèi)部加熱效果較強(qiáng)、加熱不均勻的情況。進(jìn)一步的，由于線圈盤組件的內(nèi)部的磁場較強(qiáng)、散熱條件較差，加熱效果相應(yīng)較強(qiáng)，因此，通過設(shè)置外側(cè)的線圈繞組的層數(shù)不小于內(nèi)側(cè)的線圈繞組的層數(shù)，以使得外側(cè)的磁場更強(qiáng)，進(jìn)而使得線圈盤組件內(nèi)外的加熱效果相當(dāng)，改善線圈盤組件加熱的均勻性。附圖說明為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本實用新型線圈盤組件一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中線圈盤組件的加熱區(qū)域分布示意圖；圖3為圖1中線圈盤組件的側(cè)視剖面示意圖；圖4為本實用新型線圈盤組件另一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為圖4中線圈盤組件的加熱區(qū)域分布示意圖。附圖標(biāo)號說明：標(biāo)號名稱標(biāo)號名稱100線圈盤座200異形線圈繞組210凸部220凹部300圓環(huán)形線圈繞組具體實施方式下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。需要說明，若本實用新型實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運(yùn)動情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。另外，各個實施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實現(xiàn)時應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。本實用新型提出一種線圈盤組件。在本實用新型實施例中，如圖1所示，該線圈盤組件用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座100以及多個線圈繞組，線圈盤座設(shè)有繞線槽，用以繞設(shè)線圈繞組，多個線圈繞組均為環(huán)形且內(nèi)外相間設(shè)置，其中至少一個線圈繞組為異形線圈繞組200，異形線圈繞組200具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組200的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，位于外側(cè)的線圈繞組的層數(shù)不小于位于內(nèi)側(cè)的線圈繞組的層數(shù)。具體的，以靠近線圈盤座100的盤心為內(nèi)，遠(yuǎn)離線圈盤座100的盤心為外。在線圈盤組件中，由于內(nèi)外的散熱條件和磁場分布的差別，為了改善線圈盤組件加熱的均勻性，在線圈盤座100上設(shè)有內(nèi)外相間的多個線圈繞組。其中，每一線圈繞組所產(chǎn)生的加熱區(qū)域與線圈繞組本身的分布區(qū)域基本相當(dāng)，多個內(nèi)外相間設(shè)置的線圈繞組進(jìn)而在線圈盤組件上形成多個內(nèi)外相間分布的加熱區(qū)域。進(jìn)一步的，其中至少一個線圈繞組為異形線圈繞組200，異形線圈繞組200具有多個沿環(huán)周間隔設(shè)置的凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組200的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩凸部210之間則形成異形線圈繞組200的凹部220。異形線圈繞組200在其分布區(qū)域內(nèi)形成強(qiáng)弱間隔分布的磁場，進(jìn)而形成多個加熱中心，以改善線圈盤組件加熱的均勻性，如圖2中虛線所圍成的閉合區(qū)域所示，為圖1中線圈盤組件的線圈繞組所產(chǎn)生的加熱區(qū)域。進(jìn)一步的，如圖3所示，每一線圈繞組包括一層或多層，各層沿垂直于線圈盤組件底面的方向重疊排布，以實現(xiàn)磁場的增強(qiáng)，進(jìn)而增強(qiáng)加熱效果?？紤]到線圈盤組件內(nèi)外的磁場分布和散熱條件的差別，內(nèi)部的加熱效果更強(qiáng)且散熱更差，為了補(bǔ)償上述差別，設(shè)置位于外側(cè)的線圈繞組的層數(shù)不大于位于內(nèi)側(cè)的線圈繞組的層數(shù)。在圖3中，內(nèi)側(cè)的線圈繞組層數(shù)為2層，外側(cè)的線圈繞組的層數(shù)為3層，需要注意的是，本實用新型的技術(shù)方案中并不僅限上述層數(shù)。本實用新型技術(shù)方案的線圈盤組件中，多個線圈繞組設(shè)于線圈盤座100，呈環(huán)形且內(nèi)外相間設(shè)置。在線圈繞組中，至少一個為異形線圈繞組200，具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組200的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，產(chǎn)生磁場強(qiáng)弱間隔分布的區(qū)域，進(jìn)而形成多個加熱中心，從而避免了傳統(tǒng)的線圈繞組中內(nèi)部加熱效果較強(qiáng)、加熱不均勻的情況。進(jìn)一步的，由于線圈盤組件的內(nèi)部的磁場較強(qiáng)、散熱條件較差，加熱效果相應(yīng)較強(qiáng)，因此，外側(cè)的線圈繞組的層數(shù)不小于內(nèi)側(cè)的線圈繞組的層數(shù)，以使得線圈盤組件內(nèi)外的加熱效果相當(dāng)，改善線圈盤組件加熱的均勻性。在本實用新型的一實施例中，線圈繞組的層數(shù)為1～5層。線圈繞組至少包括一層線圈以產(chǎn)生高頻交變電磁場，磁感線切割金屬鍋具產(chǎn)生渦流而實現(xiàn)加熱功能。線圈繞組所產(chǎn)生的磁場強(qiáng)度與其層數(shù)相關(guān)，層數(shù)越多，所產(chǎn)生的磁場越強(qiáng)。然而一方面，由于線圈繞組的各層之間存在一定的距離，該距離至少為線圈繞組中繞線的直徑，導(dǎo)致各層線圈繞組所產(chǎn)生的磁場并非完全重疊。此外，在電磁烹飪器具的使用過程中，待加熱的鍋具與線圈盤組件之間也存在一定的距離，當(dāng)待加熱的鍋具與線圈繞組的距離過大時，金屬鍋具不能有效切割線圈繞組所產(chǎn)生的磁感應(yīng)線，導(dǎo)致電磁加熱的效率降低。另一方面，在線圈繞組的工作過程中，流過其中的電流具有一定的熱效應(yīng)，若熱效應(yīng)過大，則易引起繞線的老化、短路等，產(chǎn)生安全隱患。綜上所述，線圈繞組的層數(shù)一般設(shè)置在5層以內(nèi)，以免層數(shù)過多、線圈與鍋具的距離過大導(dǎo)致不能加熱效率的降低，同時，避免層數(shù)過多導(dǎo)致線圈繞組的散熱條件惡化而引起安全隱患。進(jìn)一步的，線圈繞組的層數(shù)為1～3層，通常情況下，即可形成足夠強(qiáng)度的疊加的磁場，同時可保證磁感線的有效切割以及線圈盤組件中的有效散熱。在本實用新型中，異形線圈繞組200每一層的凸部210在垂直線圈盤組件底面的方向上相重疊。異形線圈繞組200所產(chǎn)生的強(qiáng)弱間隔分布的磁場與其繞設(shè)結(jié)構(gòu)和線圈盤組件中的磁條設(shè)置位置等因素有關(guān)。在線圈盤組件的磁條位置一定的情況下，通過將同一個異形線圈繞組200中各層的凸部210重疊設(shè)置，可最大程度地增強(qiáng)磁場，進(jìn)而形成強(qiáng)弱差別明顯的磁場區(qū)域，以產(chǎn)生多個加熱中心。而當(dāng)各層的凸部210相錯設(shè)置時，相鄰層之間的磁場強(qiáng)區(qū)和弱區(qū)相疊加，易導(dǎo)致整體的磁場強(qiáng)弱差別不明顯，多層線圈繞組中各層所形成的加熱中心重疊而連成一片的情況。在本實用新型中，在一個線圈繞組中，線圈繞組的各層相互串聯(lián)，以降低線圈繞組繞制的工藝難度。在本實施例中，至少一個線圈繞組為圓環(huán)形線圈繞組300。圓環(huán)形線圈繞組300在線圈盤組件中產(chǎn)生圓形或圓環(huán)形的加熱區(qū)域，可實現(xiàn)較大范圍的連續(xù)區(qū)域加熱。進(jìn)一步的，圓環(huán)形線圈繞組300設(shè)于異形線圈繞組200的內(nèi)側(cè)。由于異形線圈繞組200的繞制工藝相對圓環(huán)形線圈繞組300的繞制工藝較為復(fù)雜，為了便于繞制，異形線圈繞組200的尺寸不能過小，為了補(bǔ)償異形線圈繞組200內(nèi)部的加熱盲區(qū)，將圓環(huán)形線圈繞組300設(shè)于異形線圈繞組200的內(nèi)側(cè)，以改善線圈盤組件加熱的均勻性。在本實用新型的另一實施例中，如圖4所示，圓環(huán)形線圈繞組300設(shè)于異形線圈繞組200的外側(cè)。如圖5所示，其中，虛線所圍成的閉合區(qū)域為異形線圈繞組200對應(yīng)的加熱中心以及圓環(huán)形線圈繞組300對應(yīng)的圓環(huán)形加熱區(qū)域。此時，異形線圈繞組200在線圈盤組件的內(nèi)部形成多個分散的加熱中心，而圓環(huán)形線圈繞組300在線圈盤組件內(nèi)部的多個加熱中心外側(cè)形成圓環(huán)形的加熱區(qū)域，以滿足一定情況下的加熱需求。在本實用新型的上述實施例中，線圈盤座100可以為純平式線圈盤座，異形線圈繞組200和/或圓環(huán)形線圈繞組300均繞設(shè)在同一平面上，相應(yīng)的，分散的加熱中心和/或連續(xù)加熱區(qū)域也分布在同一平面上，適用于對平底鍋具進(jìn)行加熱。位于純平式線圈盤座外側(cè)的線圈繞組的層數(shù)不小于內(nèi)側(cè)的線圈繞組的層數(shù)，以補(bǔ)償磁場和散熱的差異所導(dǎo)致的加熱效果的差異，改善線圈盤組件的加熱均勻性。在上述實施例中，線圈盤座100也可以為平凹式線圈盤座，包括盤底和自盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，側(cè)部的所述線圈繞組的層數(shù)不小于底部的所述線圈繞組的層數(shù)。其中，異形線圈繞組可設(shè)于線圈盤座100的盤底或側(cè)部，當(dāng)異形線圈繞組設(shè)于盤底時，盤底形成分散的加熱中心，以提高盤底的加熱強(qiáng)度；當(dāng)異形線圈繞組設(shè)于側(cè)部時，側(cè)部形成分散的加熱中心，以改善電磁加熱過程中側(cè)部加熱強(qiáng)度不足的問題，適應(yīng)多種烹飪需求。在平凹式線圈盤組件中，位于外側(cè)的側(cè)部的線圈繞組的層數(shù)不小于位于內(nèi)側(cè)的底部的線圈繞組的層數(shù)，從而實現(xiàn)均勻的立體加熱，以改善加熱效果。本實用新型還提出一種電磁烹飪器具，該電磁烹飪器具包括線圈盤組件，該線圈盤組件的具體結(jié)構(gòu)參照上述實施例，由于本電磁烹飪器具采用了上述所有實施例的全部技術(shù)方案，因此至少具有上述實施例的技術(shù)方案所帶來的所有有益效果，在此不再一一贅述。其中，電磁烹飪器具可以是根據(jù)電磁加熱原理工作的電磁爐、電飯煲或電壓力鍋等。以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是在本實用新型的發(fā)明構(gòu)思下，利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接/間接運(yùn)用在其他相關(guān)的
技術(shù)領(lǐng)域：
均包括在本實用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。當(dāng)前第1頁1 2 3