微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及一種微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，本實(shí)用新型的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，包括：輸送部，連續(xù)輸送形成有陰刻圖案的襯底；和填充部，在與所述襯底接觸的狀態(tài)下向所述襯底供給填料，并且以垂直于所述襯底的虛擬的轉(zhuǎn)軸為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而將所述填料填充到所述陰刻圖案內(nèi)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
微細(xì)圖案形成系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本實(shí)用新型設(shè)及一種微細(xì)圖案形成系統(tǒng)及微細(xì)圖案形成方法，更為詳細(xì)地設(shè)及一 種能夠易于制作在微細(xì)線(xiàn)寬的陰刻圖案內(nèi)均勻地填充有填料形式的微細(xì)圖案的微細(xì)圖案 形成系統(tǒng)及微細(xì)圖案形成方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 最近，隨著電子產(chǎn)品的輕量薄型及小型化趨勢(shì)，共同要求W高密度、高集成形式制 作顯示器或電晶體等的電子元件，隨之，用于形成能夠用于電極或布線(xiàn)（metallization lines)的微細(xì)金屬圖案的技術(shù)備受關(guān)注。迄今廣為人知的金屬的微細(xì)圖案制作技術(shù)通常經(jīng) 過(guò)薄膜的真空沉積和光刻工序而形成。
[0003] 上述方法為，在襯底上沉積導(dǎo)電材料后，為了形成微細(xì)圖案電路，在導(dǎo)電材料表面 上涂敷干膜(Dry Film)或感光液之后，照射紫外線(xiàn)化V)使之固化，然后使用顯影液進(jìn)行顯 影，接下來(lái)使用化學(xué)蝕刻液形成需要實(shí)現(xiàn)的微細(xì)圖案的方法。
[0004] 光刻工序雖然具有能夠形成高分辨率(resolution)的圖案的優(yōu)點(diǎn)，但具有設(shè)備昂 貴、生產(chǎn)工藝復(fù)雜、因蝕刻工序的反復(fù)進(jìn)行而排出過(guò)量的化學(xué)廢物的缺點(diǎn)。而且在最近，隨 著柔性電子元件的出現(xiàn)，提出有在低溫下能夠進(jìn)行大面積化的構(gòu)圖工序的重要性，于是正 在蓬勃開(kāi)展尋找代替W往的光刻工序的諸多研究開(kāi)發(fā)。該光刻工序?yàn)榈湫偷男枰哳~設(shè)備 及高額成本的工序。
[0005] 例如有噴墨印刷、凹版膠印、反向膠印和激光蝕刻構(gòu)圖等。運(yùn)種方式的優(yōu)點(diǎn)是其為 直接構(gòu)圖方式運(yùn)一點(diǎn)，部分技術(shù)還表現(xiàn)出相當(dāng)高的技術(shù)進(jìn)步，但由于在微細(xì)線(xiàn)寬的實(shí)現(xiàn)性、 可靠性和生產(chǎn)工藝速度上分別具有局限性，因此還不能代替光刻工序的大多部分。
[0006] 納米壓印(nano imprint)技術(shù)是為了彌補(bǔ)上述直接構(gòu)圖方式的缺點(diǎn)，并解決照相 平版印刷工序的問(wèn)題而提出的，該技術(shù)是在襯底上涂敷光固性樹(shù)脂或熱固性樹(shù)脂后，將包 含納米至微米大小凹凸的模具加壓于所述被涂敷的樹(shù)脂層上，并且施加紫外線(xiàn)或熱量來(lái)使 該樹(shù)脂層固化，從而將圖案轉(zhuǎn)印到襯底的技術(shù)。運(yùn)種W往的納米壓印技術(shù)與作為形成幾十 微米(μπι)線(xiàn)寬的線(xiàn)的技術(shù)來(lái)應(yīng)用的直接構(gòu)圖方法和照相平版印刷方法相比較時(shí)，其技術(shù)水 平在制造單價(jià)和分辨率方面上為后兩種技術(shù)的中間程度，其起到納米和微米領(lǐng)域的橋梁作 用的同時(shí)，部分地逐步取代后兩種技術(shù)。
[0007] 然而，最近雖有使用運(yùn)種壓印方式形成金屬圖案的技術(shù)，但在為了形成金屬圖案 而在陰刻槽中填充填料的工序中，因填充有效性的問(wèn)題，需要反復(fù)填充填料的工序，因此具 有生產(chǎn)效率問(wèn)題和高額金屬原料廢棄的問(wèn)題。
[0008] 此外，在形成不包含規(guī)定方向或排列的復(fù)雜圖案時(shí)，由于填料的填充性的下降，具 有收率及特性下降的問(wèn)題，因此用于復(fù)雜而微細(xì)的電極或布線(xiàn)用的低電阻金屬圖案的形成 技術(shù)尚處于需要技術(shù)開(kāi)發(fā)的狀況。
[0009] 另一方面，韓國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)第10-2011-0100034號(hào)中公開(kāi)了通過(guò)壓印工序形成微槽， 并在該槽中填充金屬層而形成金屬微細(xì)線(xiàn)寬的方法，但在填料的填充效率性及實(shí)現(xiàn)亞微米 線(xiàn)寬上有問(wèn)題，并且在形成低電阻電極上有局限性，因此迫切需要用于解決運(yùn)種問(wèn)題的對(duì) 策。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0010]要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0011] 因此，本實(shí)用新型是為了解決運(yùn)種W往問(wèn)題而提出的，其目的是提供一種微細(xì)圖 案形成系統(tǒng)及微細(xì)圖案形成方法，該系統(tǒng)及方法通過(guò)與襯底接觸旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)體提高填料對(duì) 微細(xì)線(xiàn)寬陰刻圖案的填充效率，從而能夠易于制作微細(xì)圖案。
[0012] 解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案
[0013] 上述目的通過(guò)本實(shí)用新型的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)，該微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的特 征在于，包括:輸送部，輸送形成有陰刻圖案的襯底;和填充部，在與所述襯底接觸的狀態(tài)下 向所述襯底供給填料，并且W垂直于所述襯底的表面的軸為中屯、進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而將所述填 料填充到所述陰刻圖案內(nèi)。
[0014] 此外，所述填充部可包括:接觸部，在與所述襯底接觸的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)，并向所述襯 底供給填料;和轉(zhuǎn)軸，用于使所述接觸部旋轉(zhuǎn)。
[0015] 此外，所述接觸部可在與所述襯底接觸的端部設(shè)置有多個(gè)噴射孔，W吐出填料，所 述轉(zhuǎn)軸在內(nèi)部具有用于使向所述接觸部側(cè)供給的填料流動(dòng)的流道，所述填充部可進(jìn)一步包 括設(shè)置在所述接觸部和所述流道之間，用于暫時(shí)儲(chǔ)存從所述流道供給的填料的儲(chǔ)存部。
[0016] 此外，所述接觸部可由多孔(porous)材料構(gòu)成。
[0017] 此外，在所述接觸部的與所述襯底接觸的端部可設(shè)置有用于使填料沿所述襯底的 上面流動(dòng)的填充路徑。
[0018] 此外，在所述接觸部的內(nèi)部可具有從所述填充路徑回收未被填充到所述陰刻圖案 內(nèi)的填料的回收路徑。
[0019] 此外，在所述轉(zhuǎn)軸的內(nèi)部可形成有向所述填充路徑側(cè)供給填料的第一流道及與所 述第一流道隔離并使從所述回收路徑回收的填料流動(dòng)的第二流道，而且所述接觸部可包 括:殼體，與所述轉(zhuǎn)軸連接，在內(nèi)部形成有收容空間，而且下部的邊緣與所述襯底接觸并旋 轉(zhuǎn);和隔壁部，W板狀形成并設(shè)置在所述收容空間，而且形成有與所述第一流道連通的貫通 孔，并且在底面和所述襯底之間形成有所述填充路徑，在上表面和所述殼體之間形成有所 述回收路徑。
[0020] 此外，可進(jìn)一步包括:振動(dòng)施加部，用于使所述填充部振動(dòng)。
[0021] 此外，可進(jìn)一步包括:第一干燥部，沿所述襯底的輸送方向設(shè)置在所述填充部的后 方，用于使填充到所述陰刻圖案內(nèi)的填料干燥。
[0022] 此外，可進(jìn)一步包括:第一刀片，配置在所述填充部和所述第一干燥部之間，與被 輸送的襯底接觸，并將殘留在所述襯底上的填料填充于所述陰刻圖案內(nèi)。
[0023] 此外，可進(jìn)一步包括:蝕刻劑涂敷部，沿所述襯底的輸送方向設(shè)置在所述第一干燥 部的后方，用于涂敷蝕刻劑，W使未被填充到陰刻圖案內(nèi)并在殘留于襯底上的狀態(tài)下干燥 的填料溶解;第二刀片，用于將在所述襯底上溶解的填料再次填充到陰刻圖案內(nèi)；和第二干 燥部，用于使通過(guò)所述第二刀片的襯底的陰刻圖案內(nèi)的填料干燥。
[0024] 此外，所述目的通過(guò)本實(shí)用新型的微細(xì)圖案形成方法實(shí)現(xiàn)，該微細(xì)圖案形成方法 的特征在于，包括:襯底準(zhǔn)備步驟，準(zhǔn)備形成有陰刻圖案的襯底;旋轉(zhuǎn)填充步驟，使用與所述 襯底接觸狀態(tài)下的填充部向襯底供給填料，并且使所述填充部W垂直于所述襯底的虛擬的 軸為中屯、進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而將填料填充于所述陰刻圖案內(nèi)；和第一干燥步驟，使所述陰刻圖 案內(nèi)的填料干燥。
[0025] 此外，在旋轉(zhuǎn)填充步驟中，所述填充部可在與所述襯底接觸的狀態(tài)下進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并 且沿所述襯底的長(zhǎng)度方向或所述襯底的寬度方向振動(dòng)。
[0026] 此外，可進(jìn)一步包括:第一填充步驟，在所述旋轉(zhuǎn)填充步驟和所述第一干燥步驟之 間執(zhí)行，使刀片與襯底接觸，并將在所述旋轉(zhuǎn)填充步驟中未被填充而殘留在襯底上的填料 填充到所述陰刻圖案內(nèi)。
[0027] 此外，可進(jìn)一步包括:溶解步驟，在通過(guò)所述第一干燥步驟之后，在所述襯底上涂 敷蝕刻劑，從而使未被填充到陰刻圖案內(nèi)而在所述襯底上干燥的填料溶解;第二填充步驟， 通過(guò)使刀片與襯底接觸，將所溶解的在襯底上的填料填充到陰刻圖案內(nèi)；和第二干燥步驟， 使填充到所述陰刻圖案內(nèi)的填料干燥。
[00%]實(shí)用新型的效果
[0029] 根據(jù)本實(shí)用新型，提供微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，在該系統(tǒng)中，填充部向襯底上提供填 料，并且W垂直于襯底的方向?yàn)橹型汀⑦M(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而能夠?qū)⑻畛渚鶆虻靥畛涞皆谝r底上形 成的微細(xì)線(xiàn)寬的陰刻圖案內(nèi)。
[0030] 此外，通過(guò)將填料由多孔材料的氣孔供給，從而能夠均勻地供給填料。
[0031] 此外，開(kāi)放填充部的下端，并使填料在襯底上流動(dòng)，并且使填充部旋轉(zhuǎn)，W使沿襯 底流動(dòng)的填料形成滿(mǎn)流，從而能夠進(jìn)一步提高向陰刻圖案內(nèi)的填充性能。
[0032] 此外，通過(guò)將未被填充到陰刻圖案內(nèi)的填料回收并且循環(huán)再使用于填充，能夠最 大限度地減少填料的損失。
[0033] 此外，通過(guò)在填充部的后端使用刀片再次填充填料，從而能夠提高填充效率。
[0034] 此外，通過(guò)反復(fù)進(jìn)行再次溶解干燥的填料并且填充的過(guò)程，從而能夠提高填充效 率。
【附圖說(shuō)明】
[0035] 圖1為本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的示意的立體圖；
[0036] 圖2為圖1的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)中的填充部的分解立體圖及剖視圖；
[0037] 圖3為示意地表示使用圖1的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法工序的圖；
[0038] 圖4為本實(shí)用新型的第二實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的示意的立體圖；
[0039] 圖5為示意地表示使用圖4的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法的旋轉(zhuǎn)填充 步驟工序的圖；
[0040] 圖6為本實(shí)用新型的第Ξ實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的示意的立體圖；
[0041] 圖7為圖6的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)中的填充部的分解立體圖；
[0042] 圖8為示意地表示使用圖6的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法工序的圖；
[0043] 圖9為示意地表示本實(shí)用新型的第四實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的立體圖；
[0044] 圖10為示意地表示使用圖9的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法工序的圖；
[0045] 圖11為本實(shí)用新型的第五實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的示意的立體圖；
[0046] 圖12為示意地表示使用圖11的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法工序的圖。
[0047] 附圖標(biāo)記說(shuō)明
[004引 110:輸送部 120:填充部
[0049] 130:第一干燥部240:振動(dòng)施加部
[0化日]450:第一刀片 560:蝕刻劑涂敷部
[0051] 570:第二刀片 580:第二干燥部
【具體實(shí)施方式】
[0052] 在進(jìn)行本實(shí)用新型的說(shuō)明之前需要說(shuō)明的是，在多個(gè)實(shí)施例中，對(duì)具有相同結(jié)構(gòu) 的結(jié)構(gòu)要素使用相同的附圖標(biāo)記并在第一實(shí)施例中進(jìn)行代表性的說(shuō)明，并且在其他實(shí)施例 中說(shuō)明與第一實(shí)施例不同的結(jié)構(gòu)。
[0053] 下面，參照附圖對(duì)本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō) 明。
[0054] 圖1為本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的示意的立體圖。
[0055] 參照?qǐng)D1，本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)100設(shè)及一種用于在形成 于襯底10上的陰刻圖案11的內(nèi)部填充填料而最終制作微細(xì)圖案P的系統(tǒng)，包括輸送部110、 填充部120、第一干燥部130。
[0056] 所述輸送部110為連續(xù)輸送襯底10而構(gòu)建直列系統(tǒng)的設(shè)備，包括多個(gè)常規(guī)的輸送 漉。構(gòu)成輸送部110的運(yùn)種輸送漉為本技術(shù)領(lǐng)域中廣為人知的結(jié)構(gòu)，因此省略說(shuō)明。
[0057] 另一方面，在本實(shí)施例中，連續(xù)輸送形成有陰刻圖案11狀態(tài)的襯底10。
[0058] 在此使用的襯底為綜合考慮形成陰刻圖案11的方法等而決定的，可使用聚酷亞胺 (PI)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇醋（polyethylene terephthalate,PET)、聚糞二甲酸乙二醇醋 (polyethylenenaphthalate ,ΡΕΝ)、聚酸諷（PES)、尼龍（Nylon)、聚四氣乙締 (Polytetrafluo;roethylene,PTFE)、聚酸酸酬（PEEK)、聚碳酸鹽（PC)或聚芳醋 (polya巧late，PAR)等透明襯底，也可使用表面經(jīng)絕緣處理的金屬制板材、不透明的塑膠膠 片、不透明的玻璃或不透明的玻璃纖維材料等不透明的襯底。
[0059] 圖2為圖1的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)中的填充部的分解立體圖及剖視圖。
[0060] 參照?qǐng)D2說(shuō)明如下。所述填充部120為用于在與襯底10接觸的狀態(tài)下，將填料向襯 底10側(cè)供給的同時(shí)旋轉(zhuǎn)，從而將被供給的填料引導(dǎo)并填充至陰刻圖案11內(nèi)的部件，包括接 觸部121、儲(chǔ)存部122及轉(zhuǎn)軸123。
[0061] 所述接觸部121為起到將儲(chǔ)存在后述的儲(chǔ)存部122中的填料均勻地分配，并向襯底 10側(cè)供給的同時(shí)直接與襯底10接觸，并將襯底10上的填料引導(dǎo)至陰刻圖案11內(nèi)的作用的部 件。
[0062] 接觸部121具有規(guī)定的厚度，W剖面為圓形的形狀設(shè)置。此外，在本實(shí)施例中接觸 部121由多孔材料(porous material)設(shè)置，用于使填料從多孔材料的氣孔泄漏并被分配， 從而能夠?qū)⑻盍暇鶆虻毓┙o到襯底10上。
[0063] 不過(guò)，上述本實(shí)施例的接觸部121雖然W由多孔材料設(shè)置為例進(jìn)行了說(shuō)明，但接觸 部121并不局限于多孔材料等自然材料，也可通過(guò)在板狀材料上鉆出能夠使填料通過(guò)的多 個(gè)噴嘴孔的方式進(jìn)行加工而設(shè)計(jì)接觸部121。
[0064] 所述儲(chǔ)存部122將上述轉(zhuǎn)軸123和接觸部121彼此連接，提供用于暫時(shí)儲(chǔ)存從轉(zhuǎn)軸 123的內(nèi)部的流道124供給的填料的空間。
[0065] 目P，儲(chǔ)存部122具有在內(nèi)部形成有用于儲(chǔ)存填料的空間，下端附著有上述多孔材料 的接觸部121W封堵用于儲(chǔ)存填料的空間，上端與后述的轉(zhuǎn)軸123結(jié)合的結(jié)構(gòu)。
[0066] 所述轉(zhuǎn)軸123從儲(chǔ)存部122向上延伸，用于使整個(gè)填充部120旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)軸123形成為 中空狀，內(nèi)部形成有能夠使填料流動(dòng)的流道124。
[0067] 因此，將上述結(jié)構(gòu)的填充部120綜合再次說(shuō)明如下。在轉(zhuǎn)軸123的下端設(shè)置有儲(chǔ)存 部122,轉(zhuǎn)軸123的流道124連接于儲(chǔ)存部122的內(nèi)部空間，并向該內(nèi)部空間供給填料，在儲(chǔ)存 部122的下端安裝有接觸部121，從而封堵儲(chǔ)存部122的內(nèi)部空間，并且將暫時(shí)儲(chǔ)存在儲(chǔ)存部 122的填料通過(guò)由多孔材料設(shè)置的接觸部121的氣孔向下方均勻地供給。
[0068] 此外，在本實(shí)施例中，W作為通過(guò)填充部120供給的填料使用具有優(yōu)異的導(dǎo)電特性 的油墨從而使最終形成的微細(xì)圖案P能夠形成電極圖案的情況為例進(jìn)行了說(shuō)明，但填料材 料并不限于此。
[0069] 目P，在本實(shí)施例中使用的填料作為導(dǎo)電金屬組合物，為了提高向陰刻圖案11的內(nèi) 部的填充性，可使用能夠溶解于溶劑中或者能夠膨潤(rùn)，并且通過(guò)使用熱或還原劑等的后處 理工序中容易還原的金屬絡(luò)合物或者金屬前體。
[0070] 此外，也可將金屬絡(luò)合物或金屬前體還原而制備金屬粒子，并將其作為混合物來(lái) 使用，除了運(yùn)些混合物之外，也可根據(jù)需要包含溶劑、穩(wěn)定劑、分散劑、粘合劑樹(shù)脂(binder resin)、離型劑、還原劑、表面活性劑（surfactant)、潤(rùn)濕劑（wetting agent)、觸變劑 (thixotropic agent)、均化劑或增粘劑等添加劑。
[0071] 所述第一干燥部130為從填充部沿著襯底10的輸送方向配置在后方，用于干燥在 通過(guò)填充部120并被填充到襯底10的陰刻圖案11內(nèi)的填料，從而形成最終微細(xì)圖案P的設(shè) 備。
[0072] 下面，對(duì)上述微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的第一實(shí)施例的工作進(jìn)行說(shuō)明。
[0073] 圖3為示意地表示使用圖1的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法工序的圖。
[0074] 如圖3所示，使用本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成 方法S100包括襯底準(zhǔn)備步驟、旋轉(zhuǎn)填充步驟S110及第一干燥步驟S120。
[0075] 所述襯底準(zhǔn)備步驟S110為在柔性(flexible)襯底10上形成微細(xì)線(xiàn)寬的陰刻圖案 11W準(zhǔn)備襯底10,并且通過(guò)輸送部110連續(xù)輸送所準(zhǔn)備的襯底10的步驟。
[0076] 在本實(shí)施例中，在襯底10上形成槽形式的陰刻圖案11可使用利用壓印工序的方 法、通過(guò)激光直接蝕刻襯底10的方法、利用光刻方式的方法等，在前述方法之外，也可在本
技術(shù)領(lǐng)域中廣為人知的工序中，優(yōu)選考慮所要形成的陰刻圖案11的線(xiàn)寬、深度等來(lái)決定。
[0077] 所述旋轉(zhuǎn)填充步驟S110為通過(guò)填充部120向襯底10供給填料，并且向陰刻圖案11 的內(nèi)部填充填料的步驟。
[0078] 首先，在保持填充部120的底面與襯底10的上表面接觸的狀態(tài)下，通過(guò)轉(zhuǎn)軸123的 內(nèi)部的流道124向儲(chǔ)存部122側(cè)供給填料。
[0079] 從轉(zhuǎn)軸123的內(nèi)部供給的填料暫時(shí)儲(chǔ)存在儲(chǔ)存部122內(nèi)，并通過(guò)封堵儲(chǔ)存部122的 下端且由多孔材料構(gòu)成的接觸部121的氣孔均勻地分配并供給到襯底10側(cè)。
[0080] 在供給填料的同時(shí)，與襯底10接觸的狀態(tài)的填充部120W轉(zhuǎn)軸123為中屯、進(jìn)行旋 轉(zhuǎn)。即，隨著通過(guò)輸送部110輸送襯底1 ο的同時(shí)填充部120進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而向襯底1 ο供給的填 料被引導(dǎo)并填充到陰刻圖案11的內(nèi)部。
[0081] 目Ρ，對(duì)本步驟再次說(shuō)明如下。在與襯底10面接觸的狀態(tài)下，向襯底10的上面供給填 料，并且W與襯底10的表面垂直的軸為中屯、進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并使填料和襯底10進(jìn)行摩擦，從而使 填料能夠均勻地填充到陰刻圖案11的內(nèi)部。
[0082] 所述第一干燥步驟S130為在旋轉(zhuǎn)填充步驟S110W后，使填充于陰刻圖案11的填料 干燥，從而最終形成微細(xì)圖案Ρ的步驟。
[0083] 在第一干燥步驟S130中的干燥優(yōu)選在80°C~400°C的溫度下進(jìn)行，但并不限于此。
[0084] 另一方面，最終形成的微細(xì)圖案P的填料厚度不受到限制，可為lOymW下，更加優(yōu) 選為0.1皿W上且如mW下。
[0085] 因此，根據(jù)本實(shí)施例，利用與被連續(xù)輸送的襯底10接觸的旋轉(zhuǎn)體的旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)動(dòng)，能夠 將涂敷于襯底10上的填料均勻而準(zhǔn)確地引導(dǎo)并填充到陰刻圖案11的內(nèi)部，從而形成微細(xì)圖 案P。
[0086] 接下來(lái)，說(shuō)明本實(shí)用新型的第二實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)。
[0087] 圖4為本實(shí)用新型的第二實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的示意的立體圖。
[0088] 參照?qǐng)D4,本實(shí)用新型的第二實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)200設(shè)及一種向形成在襯 底10上的陰刻圖案內(nèi)填充填料，從而最終形成微細(xì)圖案P的系統(tǒng)，包括輸送部110、填充部 120、第一干燥部130和振動(dòng)施加部240。
[0089] 不過(guò)，所述輸送部110、所述供給部120、所述旋轉(zhuǎn)填充部130和所述第一干燥部140 的結(jié)構(gòu)與在第一實(shí)施例中所述的結(jié)構(gòu)相同，因此省略重復(fù)說(shuō)明。
[0090] 所述振動(dòng)施加部240為用于施加驅(qū)動(dòng)力，W使與襯底10接觸的填充部120能夠沿規(guī) 定的方向振動(dòng)。此時(shí)，填充部120可沿襯底10的長(zhǎng)度方向或?qū)挾确较蛑械娜我环较蛘駝?dòng)，也 可沿長(zhǎng)度方向及寬度方向復(fù)合振動(dòng)。
[0091] 下面，對(duì)使用本實(shí)用新型的第二實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法 S200進(jìn)行說(shuō)明。
[0092] 使用本實(shí)用新型的第二實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)200的微細(xì)圖案形成方法S200 包括襯底準(zhǔn)備步驟、旋轉(zhuǎn)填充步驟S210和第一干燥步驟S120,襯底準(zhǔn)備步驟和第一干燥步 驟S120與在第一實(shí)施例中所述的工序相同，因此省略重復(fù)說(shuō)明。
[0093] 圖5為示意地表示利用圖4的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法的旋轉(zhuǎn)填充 步驟工序的圖。
[0094] 如圖5所示，在本實(shí)施例的旋轉(zhuǎn)填充步驟S120中，與第一實(shí)施例同樣地使填充部 120供給填料的同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)W使襯底10及填料進(jìn)行摩擦，從而將供給到襯底10上的填料 向陰刻圖案11內(nèi)填充。與此同時(shí)，為了提高填料向陰刻圖案11內(nèi)的填充效率，在本實(shí)施例 中振動(dòng)施加部240施加驅(qū)動(dòng)力，W使填充部120能夠振動(dòng)。
[00M]此時(shí)，填充部120可在與襯底10接觸的狀態(tài)下W前后方向、左右方向或?qū)⑦\(yùn)些方向 復(fù)合的形式振動(dòng)，至于振動(dòng)方向、振幅、振動(dòng)次數(shù)等，則綜合考慮在襯底10上形成的陰刻圖 案11的深度、線(xiàn)寬和襯底10的輸送速度等決定。
[0096]因此，根據(jù)本實(shí)施例，填充部120被設(shè)計(jì)為通過(guò)旋轉(zhuǎn)來(lái)產(chǎn)生摩擦，并且沿規(guī)定的方 向振動(dòng)，因此能夠進(jìn)一步提高填料向陰刻圖案11內(nèi)的填充效率。
[0097] 接下來(lái)，說(shuō)明本實(shí)用新型的第Ξ實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)。
[0098] 圖6為本實(shí)用新型的第Ξ實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的示意的立體圖。
[0099] 參照?qǐng)D6,本實(shí)用新型的第Ξ實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)300設(shè)及一種向形成于襯 底10上的陰刻圖案11內(nèi)填充填料，從而最終形成微細(xì)圖案的系統(tǒng)，包括輸送部110、填充部 320及第一干燥部130。
[0100] 不過(guò)，所述輸送部110和所述第一干燥部130與在第一實(shí)施例中所述的結(jié)構(gòu)相同， 因此省略重復(fù)說(shuō)明。
[0101 ]圖7為圖6的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的填充部的分解立體圖。
[0102] 如圖7所示，所述填充部320為用于在與襯底10接觸的狀態(tài)下，向襯底10側(cè)供給填 料，并且進(jìn)行旋轉(zhuǎn)而將所供給的填料引導(dǎo)并填充到陰刻圖案11內(nèi)的部件，包括接觸部321和 轉(zhuǎn)軸327。
[0103] 所述接觸部321為與襯底10直接接觸的部件，包括殼體322和隔壁部323。
[0104] 所述殼體322使從形成在后述的轉(zhuǎn)軸327內(nèi)部的第一流道L1接收的填料，通過(guò)在底 面形成的填充路徑325進(jìn)行移動(dòng)，并且回收在沿填充路徑325輸送的過(guò)程中未被填充到陰刻 圖案11內(nèi)的填料后，再次向轉(zhuǎn)軸327傳遞。
[0105] 殼體322設(shè)置為具有規(guī)定厚度的圓形氣缸的形狀，底面向內(nèi)側(cè)凹陷而形成收容空 間，在殼體322的收容空間內(nèi)部安裝有后述的隔壁部323,并形成有填充路徑325及回收路徑 326。
[0106] 另外，與襯底10接觸的殼體322的部分、即殼體322的下端邊緣部分安裝有額外的 密封部件，從而能夠?qū)んw322內(nèi)部的收容空間與外部隔離，W防止填料向殼體322的外部 泄漏。
[0107] 所述隔壁部323為安裝在殼體322的收容空間的板狀部件，用于形成填充路徑325 及回收路徑326。
[0108] 隔壁部323為圓形的板狀，具有小于收容空間深度的厚度，從而能夠設(shè)置在收容空 間內(nèi)并且與殼體322的內(nèi)側(cè)壁面隔開(kāi)地安裝，且在中央形成有貫通孔324。另外，隔壁部323 與后述的轉(zhuǎn)軸327的內(nèi)部的第一流道L1連接固定。
[0109] 此外，隨著在收容空間設(shè)置隔壁部323,在從連接殼體322的最下端的虛擬的平面 至隔壁部323的空間中形成有用于使填料在襯底10上流動(dòng)的通道即填充路徑325,在從收容 空間的上側(cè)壁面至隔壁部323的空間中形成有回收路徑326,所述回收路徑326為用于回收 在填充路徑325中流動(dòng)后未被填充到陰刻圖案11的填料的通道。
[0110] 所述轉(zhuǎn)軸327為從接觸部321向上側(cè)延伸，用于使整個(gè)填充部327旋轉(zhuǎn)的管狀部件。 轉(zhuǎn)軸327的內(nèi)部形成有第一流道L1和第二流道L2，W使填料能夠流動(dòng)，而且通過(guò)設(shè)置在轉(zhuǎn)軸 327內(nèi)部的區(qū)劃部件328分割第一流道L1和第二流道L2。此外，上述隔壁部323與用于分割轉(zhuǎn) 軸327內(nèi)部的流動(dòng)空間的區(qū)劃部件328連接而固定。
[0111] 所述第一流道L1為與填充路徑325連通而供給填料的路徑，第一流道L1通過(guò)形成 在隔壁部323的貫通孔324與填充路徑325連通。
[0112] 所述第二流道L2為通過(guò)區(qū)劃部件328與第一流道L1隔離的空間，與回收路徑326連 通。
[0113] 接下來(lái)，對(duì)使用本實(shí)用新型的第Ξ實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方 法進(jìn)行說(shuō)明。
[0114] 圖8為示意地表示使用圖6的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法工序的圖。
[0115] 參照?qǐng)D8,使用本實(shí)用新型的第Ξ實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)300的微細(xì)圖案形成 方法S300包括襯底準(zhǔn)備步驟、旋轉(zhuǎn)填充步驟S310及第一干燥步驟S120,襯底準(zhǔn)備步驟和第 一干燥步驟S120與在第一實(shí)施例中所述的工序相同，因此省略重復(fù)說(shuō)明。
[0116] 在本實(shí)施例中，所述旋轉(zhuǎn)填充步驟S310首先在接觸部321的下端與襯底10接觸的 狀態(tài)下通過(guò)轉(zhuǎn)軸327內(nèi)部的第一流道L1供給填料。填料通過(guò)貫通孔324后在隔壁部323和襯 底10之間的空間即填充路徑325內(nèi)流動(dòng)。此時(shí)，流動(dòng)在填充路徑325內(nèi)的填料沿襯底10流動(dòng) 并且填充到陰刻圖案11內(nèi)。
[0117] 此外，填充部320供給填料的同時(shí)W轉(zhuǎn)軸327為中屯、旋轉(zhuǎn)，隨之在填充路徑325內(nèi)流 動(dòng)的填料產(chǎn)生旋流，從而進(jìn)一步提高向陰刻圖案11內(nèi)部的填充效率。
[0118] 在填充路徑的內(nèi)部流動(dòng)的過(guò)程中，部分填料填充到陰刻圖案11，而部分填料殘留 在襯底10上，剩余填料沿殼體322的內(nèi)壁面流動(dòng)而到達(dá)收容空間和隔壁部323之間的空間即 回收路徑326。
[0119] 到達(dá)回收路徑326的填料反復(fù)進(jìn)行如下的循環(huán)過(guò)程來(lái)填充到陰刻圖案11的內(nèi)部： 即填料通過(guò)與回收路徑326連接的第二流道L2排出到外部后向第一流道L1供給，或者直接 通過(guò)第一流道L1再供給，從而被供給到襯底10上。
[0120] 因此，根據(jù)本實(shí)施例，使填料在與襯底10的上表面直接接觸的狀態(tài)下進(jìn)行流動(dòng)，從 而能夠進(jìn)一步提高填料向陰刻圖案11內(nèi)的填充效率。
[0121] 下面，說(shuō)明本實(shí)用新型的第四實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)。
[0122] 圖9為示意地表示本實(shí)用新型的第四實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的立體圖。
[0123] 參照?qǐng)D9,本實(shí)用新型的第四實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)400用于向形成在襯底10 上的陰刻圖案11內(nèi)填充填料，從而最終形成微細(xì)圖案P的系統(tǒng)，包括輸送部110、填充部120、 第一刀片450及第一干燥部130,輸送部110、填充部120及第一干燥部130與在第一實(shí)施例中 所述的結(jié)構(gòu)相同，因此省略重復(fù)說(shuō)明。
[0124] 所述第一刀片450配置在填充部120和第一干燥部130之間，沿襯底10的寬度方向 較長(zhǎng)地安裝，用于將通過(guò)填充部120后仍在襯底10上未被填充于陰刻圖案11內(nèi)而殘留的填 料向陰刻圖案11內(nèi)填充的部件。
[0125] 目P，使用第一刀片450將未被填充部120處理好的襯底10上的填料再次填充于陰刻 圖案11內(nèi)。
[0126] 下面，對(duì)使用本實(shí)用新型的第四實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案的形成方 法進(jìn)行說(shuō)明。
[0127] 圖10為示意地表示使用圖9的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法工序的圖。
[0128] 如圖10所示，使用本實(shí)用新型的第四實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)400的微細(xì)圖案 形成方法S400包括襯底準(zhǔn)備步驟、旋轉(zhuǎn)填充步驟S110、第一填充步驟S430及第一干燥步驟 S120,襯底準(zhǔn)備步驟、旋轉(zhuǎn)填充步驟S110及第一干燥步驟S120與在第一實(shí)施例中所述的工 序相同，因此省略重復(fù)說(shuō)明。
[0129] 在所述第一填充步驟S430中，使用第一刀片450將在旋轉(zhuǎn)填充步驟S110中未被完 全處理而殘留在襯底10上的填料再次填充于陰刻圖案11內(nèi)。因此在本實(shí)施例中，通過(guò)填充 部120的旋轉(zhuǎn)旋動(dòng)，并且通過(guò)固定狀態(tài)的第一刀片450反復(fù)進(jìn)行填充工序，從而能夠進(jìn)一步 提高填充效率。
[0130] 接下來(lái)，對(duì)本實(shí)用新型的第五實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)進(jìn)行說(shuō)明。
[0131] 圖11為本實(shí)用新型的第五實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的示意的立體圖。
[0132] 如圖11所示，本實(shí)用新型的第五實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)500設(shè)及一種用于在 襯底10上形成的陰刻圖案11內(nèi)填充填料，從而最終形成微細(xì)圖案P的系統(tǒng)，包括輸送部110、 填充部120、第一刀片450、第一干燥部130、蝕刻劑涂敷部560、第二刀片570及第二干燥部 580,輸送部110、填充部120、第一刀片450及第一干燥部130與在第一實(shí)施例及第四實(shí)施例 中所述的結(jié)構(gòu)相同，因此省略重復(fù)說(shuō)明。
[0133] 所述蝕刻劑涂敷部560設(shè)置在第一干燥部130的后方，所述蝕刻劑涂敷部560是為 了執(zhí)行通過(guò)前述的填充部120和第一刀片450后仍然殘留在襯底10上的填料的最終填充工 序，涂敷蝕刻劑，從而使W干燥狀態(tài)殘留在襯底10上的填料溶解的結(jié)構(gòu)。
[0134] 在本實(shí)用新型中使用的蝕刻劑根據(jù)填充到陰刻圖案11內(nèi)的填料種類(lèi)來(lái)決定，但優(yōu) 選使用能夠溶解氧化劑和金屬化合物的氨基甲酸錠系、碳酸錠系、碳酸氨錠系、簇酸系、內(nèi) 醋系、內(nèi)酷胺（馬營(yíng)）系、環(huán)狀酸酢系化合物、酸-堿鹽復(fù)合物、酸-堿-醇系復(fù)合物或琉基系 化合物等蝕刻劑。
[0135] 此外，為了有效地溶解襯底10表面上的未填充金屬層，并且提高金屬向微細(xì)的陰 刻圖案11的再填充性，優(yōu)選對(duì)上述蝕刻劑賦予親水特性。優(yōu)選調(diào)節(jié)蝕刻液化合物成分的碳 原子數(shù)來(lái)調(diào)節(jié)親水特性的程度。
[0136] 所述第二刀片570為設(shè)置在蝕刻劑涂敷部560的后端，用于將通過(guò)由蝕刻劑涂敷部 560涂敷的蝕刻劑而溶解的填料最終填充于陰刻圖案11內(nèi)的結(jié)構(gòu)。
[0137] 所述第二干燥部580為設(shè)置在第二刀片570的后端，用于使通過(guò)第二刀片570最終 填充到陰刻圖案11內(nèi)的填料干燥，從而最終形成微細(xì)圖案P的結(jié)構(gòu)。
[0138] 下面，對(duì)使用本實(shí)用新型的第五實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法 進(jìn)行說(shuō)明。
[0139] 圖12為示意地表示利用圖11的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)的微細(xì)圖案形成方法工序的圖。
[0140] 如圖12所示，使用本實(shí)用新型的第五實(shí)施例的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)500的微細(xì)圖案 形成方法S500包括襯底準(zhǔn)備步驟、旋轉(zhuǎn)填充步驟S110、第一填充步驟S430、第一干燥步驟 S120、溶解步驟S540、第二填充步驟S550及第二干燥步驟S560，襯底準(zhǔn)備步驟、旋轉(zhuǎn)填充步 驟S110、第一填充步驟S430及第一干燥步驟S120與在第一實(shí)施例及第四實(shí)施例中所述的工 序相同，因此省略重復(fù)說(shuō)明。
[0141] 所述溶解步驟S540為通過(guò)蝕刻劑涂敷部560在襯底10上涂敷蝕刻劑，從而使未被 填充到陰刻圖案11內(nèi)并且通過(guò)第一干燥部130干燥的在襯底10上的填料再次溶解的步驟。
[0142] 即在本步驟中，使通過(guò)第一干燥部130干燥從而失去流動(dòng)性的在襯底10上的殘留 填料再次溶解，從而對(duì)該殘留填料重新賦予流動(dòng)性，使之能夠通過(guò)后述的第二填充步驟 S550最終填充到陰刻圖案11內(nèi)。
[0143] 所述第二填充步驟S560為使用第二刀片570將在溶解步驟S540中溶解的狀態(tài)的在 襯底10上的填料再次填充到陰刻圖案11內(nèi)的步驟。
[0144] 在所述第二干燥步驟S570中，使在第二填充步驟S560中最終填充的陰刻圖案11內(nèi) 的填料最終干燥，w形成微細(xì)圖案p。
[0145] 因此，根據(jù)本實(shí)施例，通過(guò)反復(fù)執(zhí)行使用第二刀片570的填料填充工序，從而能夠 提高填充效率及性能。
[0146] 本實(shí)用新型的權(quán)利范圍并不局限于上述實(shí)施例，而在所附的權(quán)利要求書(shū)中記載的 范圍內(nèi)可實(shí)現(xiàn)為各種形式的實(shí)施例。在不脫離權(quán)利要求書(shū)所要求保護(hù)的本實(shí)用新型精神的 范圍內(nèi)，本領(lǐng)域技術(shù)人員均能變形的各種范圍也應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0147] 工業(yè)應(yīng)用可行性
[0148] 提供一種微細(xì)圖案形成系統(tǒng)及微細(xì)圖案形成方法，該系統(tǒng)及方法通過(guò)與襯底接觸 旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)體提高填料對(duì)微細(xì)線(xiàn)寬陰刻圖案的填充效率，從而能夠易于制作微細(xì)圖案。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于，包括： 輸送部，用于使用多個(gè)輸送輥輸送形成有陰刻圖案的襯底;和 填充部，形成于所述襯底的上部，包括:接觸部，用于在與所述襯底接觸的狀態(tài)下向所 述襯底供給填料;轉(zhuǎn)軸，用于使所述接觸部旋轉(zhuǎn)，從而將被供給到所述襯底的填料填充到所 述陰刻圖案內(nèi)。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于， 所述接觸部在與所述襯底接觸的端部設(shè)置有多個(gè)噴射孔，以吐出填料，所述轉(zhuǎn)軸在內(nèi) 部具有用于使向所述接觸部側(cè)供給的填料流動(dòng)的流道， 所述填充部進(jìn)一步包括設(shè)置在所述接觸部和所述流道之間，用于暫時(shí)儲(chǔ)存從所述流道 供給的填料的儲(chǔ)存部。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于， 所述接觸部由多孔材料構(gòu)成。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于， 在所述接觸部的與所述襯底接觸的端部設(shè)置有用于使填料沿所述襯底的上表面流動(dòng) 的填充路徑。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于， 在所述接觸部的內(nèi)部具有從所述填充路徑回收未被填充到所述陰刻圖案內(nèi)的填料的 回收路徑。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于， 在所述轉(zhuǎn)軸的內(nèi)部形成有向所述填充路徑側(cè)供給填料的第一流道及與所述第一流道 隔離并使從所述回收路徑回收的填料流動(dòng)的第二流道， 所述接觸部包括:殼體，與所述轉(zhuǎn)軸連接，在內(nèi)部形成有收容空間，而且下部的邊緣與 所述襯底接觸并旋轉(zhuǎn);和隔壁部，以板狀形成并設(shè)置在所述收容空間，而且形成有與所述第 一流道連通的貫通孔，并且在底面和所述襯底之間形成有所述填充路徑，在上表面和所述 殼體之間形成有所述回收路徑。7. 根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項(xiàng)所述的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括： 振動(dòng)施加部，用于使所述填充部振動(dòng)。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括： 第一干燥部，沿所述襯底的輸送方向設(shè)置在所述填充部的后方，用于使填充到所述陰 刻圖案內(nèi)的填料干燥。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括： 第一刀片，配置在所述填充部和所述第一干燥部之間，與被輸送的襯底接觸，并將殘留 在所述襯底上的填料填充于所述陰刻圖案內(nèi)。10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括： 蝕刻劑涂敷部，沿所述襯底的輸送方向設(shè)置在所述第一干燥部的后方，用于涂敷蝕刻 劑，以使未被填充到陰刻圖案內(nèi)并在殘留于襯底上的狀態(tài)下干燥的填料溶解； 第二刀片，用于將在所述襯底上溶解的填料再次填充到陰刻圖案內(nèi)；和 第二干燥部，用于使通過(guò)所述第二刀片的襯底的陰刻圖案內(nèi)的填料干燥。11. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的微細(xì)圖案形成系統(tǒng)，其特征在于， 所述振動(dòng)施加部使所述旋轉(zhuǎn)填充部沿所述襯底的長(zhǎng)度方向或沿所述襯底的寬度方向 振動(dòng)。
【文檔編號(hào)】H01L21/027GK205428873SQ201490000733
【公開(kāi)日】2016年8月3日
【申請(qǐng)日】2014年3月20日
【發(fā)明人】鄭光春, 柳志勛, 成俊基, 韓孝珍
【申請(qǐng)人】印可得株式會(huì)社