技術(shù)編號(hào)：10747279
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 最近，隨著電子產(chǎn)品的輕量薄型及小型化趨勢(shì)，共同要求W高密度、高集成形式制 作顯示器或電晶體等的電子元件，隨之，用于形成能夠用于電極或布線(xiàn)（metallization lines)的微細(xì)金屬圖案的技術(shù)備受關(guān)注。迄今廣為人知的金屬的微細(xì)圖案制作技術(shù)通常經(jīng) 過(guò)薄膜的真空沉積和光刻工序而形成。 上述方法為，在襯底上沉積導(dǎo)電材料后，為了形成微細(xì)圖案電路，在導(dǎo)電材料表面 上涂敷干膜(Dry Film)或感光液之后，照射紫外線(xiàn)化V)使之固化，然后使用顯影液進(jìn)行顯 影，...
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