光罩可在光刻過程的曝光步驟期間安置于抗蝕劑覆蓋的晶片上面，使得可將所述光罩上的圖案轉印到所述抗蝕劑。
[0080]形成于晶片上的一個或多個層可為經圖案化或未圖案化的。舉例來說，晶片可包含各自具有可重復圖案特征的多個裸片。此類材料層的形成及處理可最終產生完成裝置?？稍诰闲纬稍S多不同類型的裝置，且如本文中所使用的術語晶片打算涵蓋其上制作有所屬領域中已知的任何類型的裝置的晶片。
[0081]在一個或多個示范性實施例中，所描述的功能可以硬件、軟件、固件或其任何組合實施。如果以軟件實施，那么所述功能可作為一個或多個指令或代碼存儲于計算機可讀媒體上或者經由計算機可讀媒體發(fā)射。計算機可讀媒體包含計算機存儲媒體及通信媒體兩者，包含促進將計算機程序從一個地方傳送到另一地方的任何媒體。存儲媒體可為可由通用或專用計算機存取的任何可用媒體。以實例而非限制方式，此類計算機可讀媒體可包括:RAM、R0M、EEPR0M、CD_R0M或其它光盤存儲裝置、磁盤存儲裝置或其它磁性存儲裝置或者可用于載運或存儲以指令或數據結構的形式的所要程序代碼手段且可由通用或專用計算機或者通用或專用處理器存取的任何其它媒體。同樣，可將任何連接恰當地稱作計算機可讀媒體。舉例來說，如果使用同軸電纜、光纖電纜、雙絞線、數字訂戶線(DSL)或無線技術(例如紅外線、無線電及微波)從網站、服務器或其它遠程源傳輸軟件，那么所述同軸電纜、光纖電纜、雙絞線、DSL或無線技術(例如紅外線、無線電及微波)均包含于媒體的定義中。如本文中所使用，磁盤及光盤包含:壓縮光盤(CD)、激光光盤、光學光盤、數字多功能光盤(DVD)、軟盤及藍光盤，其中磁盤通常以磁性方式再現數據，而光盤借助激光以光學方式再現數據。上述的組合也應包含于計算機可讀媒體的范圍內。
[0082]盡管上文出于指導性目的描述了某些特定實施例，但本專利文件的教示內容具有一般適用性且不限于上文所描述的特定實施例。因此，可在不背離如權利要求書中所陳述的本發(fā)明的范圍的情況下實踐對所描述的實施例的各種特征的各種修改、改動及組合。
【主權項】
1.一種平行板補償器，其包括: 第一雙折射板，其具有前表面、后表面、在制造公差內在平行于所述前表面及所述后表面的平面中定向的光軸，及小于五百微米的厚度； 第二雙折射板，其具有前表面、后表面、在所述制造公差內在平行于所述前表面及所述后表面的平面中定向的光軸，及小于五百微米的厚度，其中所述第一雙折射板及所述第二雙折射板經定向成使得所述第一雙折射板的所述光軸大致垂直于所述第二雙折射板的所述光軸對準;及 第一光學各向同性板，其與所述第一雙折射板的所述前表面光學接觸，所述光學各向同性板具有至少五百微米的厚度，其中所述光學各向同性板的折射率是在所述第一雙折射板的平均折射率的15%內。2.根據權利要求1所述的平行板補償器，其進一步包括: 第二光學各向同性板，其與所述第二雙折射板的所述后表面光學接觸，所述第二光學各向同性板具有至少五百微米的厚度，其中所述光學各向同性板的折射率是在所述第二雙折射板的平均折射率的15%內。3.根據權利要求2所述的平行板補償器，其中所述第一雙折射板的所述后表面與所述第二雙折射板的所述前表面光學接觸。4.根據權利要求2所述的平行板補償器，其進一步包括: 第三光學各向同性板，其與所述第一雙折射板的所述后表面光學接觸，其中所述第三光學各向同性板安置于所述第一雙折射板與所述第二雙折射板之間。5.根據權利要求4所述的平行板補償器，其進一步包括: 第四光學各向同性板，其與所述第二雙折射板的所述前表面光學接觸，其中所述第四光學各向同性板安置于所述第一雙折射板與所述第二雙折射板之間。6.根據權利要求1所述的平行板補償器，其中所述第一雙折射板的所述厚度與所述第二雙折射板的所述厚度的差小于100微米。7.根據權利要求1所述的平行板補償器，其中所述第一及第二雙折射板由以下材料中的任一者制成:單晶石英材料、氟化鎂材料、β-硼酸鋇材料、四硼酸鋰材料、硼酸銫鋰材料、磷酸二氫鉀材料及磷酸二氫銨材料。8.根據權利要求1所述的平行板補償器，其中所述第一雙折射板的所述光軸與所述第二雙折射板的所述光軸以五度的公差成九十度對準。9.根據權利要求1所述的平行板補償器，其中所述第一光學各向同性板由以下材料中的任一者制成:熔融硅石材料、熔融石英材料、氟化鈣材料、氟化鋰材料、氟化鋇材料及金剛石O10.根據權利要求1所述的平行板補償器，其中視場為至少5毫弧度。11.根據權利要求1所述的平行板補償器，其中所述平行板補償器對于具有在介于190納米與880納米之間的范圍內的任何波長的光為至少10%透射的。12.一種平行板補償器，其包括: 雙折射板，其具有前表面、后表面、在制造公差內在平行于所述前表面及所述后表面的平面中定向的光軸，及小于100微米的厚度;及 第一光學各向同性板，其與第一雙折射板的前表面光學接觸，所述光學各向同性板具有至少五百微米的厚度，其中所述光學各向同性板的折射率是在所述第一雙折射板的平均折射率的15%內，且其中所述平行板補償器對于具有在介于190納米與880納米之間的范圍內的任何波長的光為至少10 %透射的。13.根據權利要求12所述的平行板補償器，其進一步包括: 第二光學各向同性板，其與所述雙折射板的所述后表面光學接觸，所述第二光學各向同性板具有至少五百微米的厚度，其中所述光學各向同性板的折射率是在所述雙折射板的平均折射率的15%內。14.一種橢圓偏振計，其包括: 照明源，其經配置以產生朝向樣本引導的非準直、多色照明光； 平行板補償器，其經配置以透射一定量的所述照明光，其中所述可旋轉補償器包括， 第一雙折射板，其具有前表面、后表面、在制造公差內在平行于所述前表面及所述后表面的平面中定向的光軸，及小于五百微米的厚度； 第二雙折射板，其具有前表面、后表面、在所述制造公差內在平行于所述前表面及所述后表面的平面中定向的光軸，及小于五百微米的厚度，其中所述第一雙折射板及所述第二雙折射板經定向成使得其相應光軸大致彼此垂直地對準;及 第一光學各向同性板，其與所述第一雙折射板的所述前表面光學接觸， 分析器，其經配置以從透射穿過所述平行板補償器的所述量的光提取偏振狀態(tài);及 檢測器，其經配置以測量透射穿過所述分析器的處于包含紫外波長的整個所關注波長范圍內的不同波長的一定量的光的強度。15.根據權利要求14所述的橢圓偏振計，其中所述補償器安置于樣品與所述分析器之間的光學路徑中。16.根據權利要求14所述的橢圓偏振計，其中所述補償器安置于所述樣品與偏振器之間的光學路徑中。17.根據權利要求14所述的橢圓偏振計，其中所述平行板補償器可圍繞垂直于所述平行板補償器的一面的軸旋轉。18.根據權利要求14所述的橢圓偏振計，其進一步包括: 第二光學各向同性板，其與所述第二雙折射板的所述后表面光學接觸，所述第二光學各向同性板具有至少五百微米的厚度，其中所述第一及第二光學各向同性板的折射率是在所述第一及第二雙折射板的平均折射率的15%內。19.根據權利要求14所述的橢圓偏振計，其中所述第一雙折射板的所述后表面與所述第二雙折射板的所述前表面光學接觸。20.根據權利要求14所述的橢圓偏振計，其中所述平行板補償器對于具有在介于190納米與880納米之間的范圍內的任何波長的光為至少10%透射的。
【專利摘要】本發(fā)明提出可旋轉補償器，其經配置而以跨越孔徑的高度推遲均勻性透射包含紫外線的在寬廣波長范圍內的非準直光。在一個實施例中，可旋轉補償器包含光學接觸的四個個別板的堆疊。在所述堆疊中間的兩個薄板由雙折射材料制成且經布置以形成復合零級雙板。其余兩個板為相對厚的且由光學各向同性材料制成。這些板安置于所述復合零級雙板的任一端上。低級板使跨越所述孔徑的推遲對非準直光的敏感性最小化。材料經選擇以確保對紫外光的透射。所述光學各向同性端板使在所述薄板的光學界面處所誘發(fā)的相干效應最小化。
【IPC分類】H01L21/66
【公開號】CN105593982
【申請?zhí)枴緾N201480053389
【發(fā)明人】勞倫斯·羅特, 克勞斯·伏羅克, 穆沙米爾·阿藍, 戴維·Y·王
【申請人】科磊股份有限公司
【公開日】2016年5月18日
【申請日】2014年8月22日
【公告號】US20150055123, WO2015027200A1