內(nèi)。在一些實(shí)例中，光學(xué)各向同性板的折射率是在雙折射板的平均折射率的25%內(nèi)。
[0062]然而，仍在玻璃-空氣界面處發(fā)生反射。光學(xué)各向同性板的厚度經(jīng)挑選以顯著長于透射穿過其中使用補(bǔ)償器的系統(tǒng)的光的相干長度。此使相干效應(yīng)最小化。在一些實(shí)例中，板201及204的厚度大于0.5毫米。板201及204的厚度不必為精確的，也不必相等。在一個(gè)實(shí)例中，板201及204的厚度為大約一毫米。
[0063]圖3圖解說明在另一實(shí)施例中的可旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器300。相似編號(hào)的元件類似于參考圖2所描述的元件。補(bǔ)償器300包含參考圖2所描述的個(gè)別板201到204的堆疊，然而，另外，一個(gè)或多個(gè)光學(xué)各向同性板(例如，光學(xué)各向同性板301及302)安置于雙折射板202與203之間，使得在板202、203及任何介入光學(xué)各向同性板當(dāng)中形成光學(xué)接觸。
[0064]已發(fā)現(xiàn)，此設(shè)計(jì)提供如參考補(bǔ)償器200所描述的類似光學(xué)性能。盡管與補(bǔ)償器200相比更復(fù)雜，但補(bǔ)償器300可提供關(guān)于制造的某一優(yōu)點(diǎn)。舉例來說，雙折射板202可夾在光學(xué)各向同性板201與301之間，具有最小所誘發(fā)機(jī)械應(yīng)變。類似地，雙折射板203可夾在光學(xué)各向同性板302與204之間，具有最小所誘發(fā)機(jī)械應(yīng)變。在最終裝配步驟中，這兩個(gè)子組合件可以精確對(duì)準(zhǔn)在板301與302之間的界面處形成光學(xué)接觸，且在雙折射板202及203上不誘發(fā)顯著機(jī)械應(yīng)變。
[0065]圖4圖解說明在又一實(shí)施例中的可旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器400。相似編號(hào)的元件類似于參考圖2所描述的元件。補(bǔ)償器400包含參考圖2所描述的個(gè)別板201到204的堆疊，然而，在雙折射板202與203之間維持空間間隙401。間隙401可為空隙(例如，保持于真空中)或填充有任何適合氣體或氣體混合物(例如，空氣、氮?dú)?、氬氣?。在另一實(shí)施例中(未展示)，可在圖3中所描繪的補(bǔ)償器300的光學(xué)各向同性板301與302之間引入間隙。以此方式，雙折射板202及203被一個(gè)或多個(gè)光學(xué)各向同性板與為空隙或填充有任何適合氣體或氣體混合物的空間間隙的組合分離。
[0066]與補(bǔ)償器200相比，在雙折射板202與203之間引入間隙400提供優(yōu)點(diǎn)及缺點(diǎn)兩者。主要缺點(diǎn)為將隨波長而變的額外相位及振幅振蕩引入到所透射光束中。這些振蕩起因于202與401之間的界面處及203與401之間的界面處的大的反射性。甚至在雙折射板的分離比所透射光的相干長度大得多(例如，100X)時(shí)也存在這些振蕩。然而，主要優(yōu)點(diǎn)為當(dāng)在兩個(gè)雙折射板202與203之間維持間隙時(shí)，可精確得多的執(zhí)行所述板的光軸(例如，OAl及0A2)的旋轉(zhuǎn)對(duì)準(zhǔn)。舉例來說，當(dāng)在板202與203之間維持間隙時(shí)，所述兩個(gè)板的光軸可以九十度對(duì)準(zhǔn)，具有小于15弧秒的公差。以此方式，波板為更加線性的。在一些實(shí)例中，此優(yōu)點(diǎn)可勝過所誘發(fā)光譜條紋的缺點(diǎn)。舉例來說，如果補(bǔ)償器400用于幾個(gè)離散波長處，那么可獨(dú)立地確定每一波長處的推遲。借助先驗(yàn)地建立的此關(guān)系，所誘發(fā)光譜條紋將不會(huì)是不利的。
[0067]圖5圖解說明在另一實(shí)施例中的可旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器500。相似編號(hào)的元件類似于參考圖2所描述的元件。補(bǔ)償器500類似于參考圖2所描述的個(gè)別板201到204的堆疊，除光學(xué)各向同性板中的一者(例如，板204)不包含于組合件中以外。此設(shè)計(jì)的性能在許多應(yīng)用中可為可接受的，但已發(fā)現(xiàn)，與在補(bǔ)償器堆疊的僅一端處包含光學(xué)各向同性板的設(shè)計(jì)相比，在補(bǔ)償器堆疊的兩端處提供光學(xué)各向同性板(例如，如在圖2到4及圖6中所圖解說明的實(shí)施例中所描繪)提供經(jīng)改進(jìn)光學(xué)性能。更具體來說，當(dāng)在補(bǔ)償器堆疊的兩端上包含光學(xué)各向同性板時(shí)，推遲的所誘發(fā)相干振蕩振幅(尤其在較長波長處)顯著減小。
[0068]圖6圖解說明在另一實(shí)施例中的可旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器600。相似編號(hào)元件類似于參考圖2所描述的元件。補(bǔ)償器600類似于參考圖2所描述的個(gè)別板201到204的堆疊，除雙折射板中的一者(例如，板203)不包含于組合件中以外。一般來說，補(bǔ)償器為雙板并非必要的?？稍趦蓚€(gè)光學(xué)各向同性板之間堆疊單個(gè)雙折射板來實(shí)現(xiàn)可接受的光學(xué)性能。在一些實(shí)例中，補(bǔ)償器可用作多級(jí)波板。單個(gè)板補(bǔ)償器600具有先前所列舉的所有優(yōu)點(diǎn)。另外，其不需要兩個(gè)雙折射板的對(duì)準(zhǔn)。對(duì)于在介于190納米與880納米之間的波長范圍內(nèi)具有高達(dá)10毫弧度的發(fā)散度的光束，石英波板應(yīng)小于100微米厚以保持跨越低于0.1度的視場(chǎng)角的推遲的失真。在一些實(shí)例中，采用具有小于50微米的厚度的石英波板。
[0069]在又一實(shí)施例中，預(yù)期除光學(xué)各向同性板中的一者(例如，板204)不包含于組合件中以外均類似于補(bǔ)償器600的補(bǔ)償器。如參考圖5的補(bǔ)償器500所討論，此設(shè)計(jì)的性能在許多應(yīng)用中可為可接受的，但已發(fā)現(xiàn)，與在補(bǔ)償器堆疊的僅一端處包含光學(xué)各向同性板的設(shè)計(jì)相比，在補(bǔ)償器堆疊的兩端處提供光學(xué)各向同性板(例如，如在圖2到4及圖6中所圖解說明的實(shí)施例中所描繪)會(huì)提供改進(jìn)的光學(xué)性能。
[0070]—般來說，可采用由相同或不同材料構(gòu)造的兩個(gè)以上雙折射板。此對(duì)于實(shí)施溫度補(bǔ)償及消色差設(shè)計(jì)可為合意的。在補(bǔ)償器的每一端處添加光學(xué)各向同性板減小這些設(shè)計(jì)的相干效應(yīng)。
[0071]盡管參考系統(tǒng)100解釋本文中所討論的實(shí)施例，但可預(yù)期經(jīng)配置以照明及檢測(cè)從樣品反射、透射或衍射的光且利用可旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器的任何光學(xué)計(jì)量系統(tǒng)。示范性系統(tǒng)包含:角分辨橢圓偏振計(jì)或旋光計(jì)、散射計(jì)、橢圓偏振計(jì)或旋光計(jì)、光譜橢圓偏振計(jì)或旋光計(jì)、多波長、二維光束輪廓橢圓偏振計(jì)或旋光計(jì)、旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器光譜橢圓偏振計(jì)或旋光計(jì)等。以非限制性實(shí)例方式，橢圓偏振計(jì)可包含單個(gè)旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器、多個(gè)旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器、旋轉(zhuǎn)偏振器、旋轉(zhuǎn)分析器、調(diào)制元件、多個(gè)調(diào)制元件或無調(diào)制元件。
[0072]還可以若干種不同方式配置實(shí)施本文中所描述的補(bǔ)償器的系統(tǒng)。舉例來說，可預(yù)期廣泛波長范圍(包含可見、紫外及紅外)、入射角度、偏振狀態(tài)及相干狀態(tài)。在另一實(shí)例中，系統(tǒng)可包含若干個(gè)不同光源中的任一者(例如，直接耦合光源、激光維持等離子光源等)。在另一實(shí)例中，系統(tǒng)可包含用以調(diào)節(jié)引導(dǎo)到樣品或從樣品收集的光的元件(例如，切趾器、濾光器等)。
[0073]如本文中所描述，術(shù)語“臨界尺寸”包含結(jié)構(gòu)的任何臨界尺寸(例如，底部臨界尺寸、中間臨界尺寸、頂部臨界尺寸、側(cè)壁角度、光柵高度等)、任何兩個(gè)或兩個(gè)以上結(jié)構(gòu)之間的臨界尺寸(例如，兩個(gè)結(jié)構(gòu)之間的距離)，及兩個(gè)或兩個(gè)以上結(jié)構(gòu)之間的位移(例如，覆疊光柵結(jié)構(gòu)之間的覆疊位移等)。結(jié)構(gòu)可包含三維結(jié)構(gòu)、經(jīng)圖案化結(jié)構(gòu)、覆疊結(jié)構(gòu)等。
[0074]如本文中所描述，術(shù)語“可旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器”或“可旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器元件”是指適合于在包含采用連續(xù)旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器或非連續(xù)旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器的測(cè)量系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器測(cè)量系統(tǒng)中使用的補(bǔ)償器。
[0075]如本文中所描述，術(shù)語“臨界尺寸應(yīng)用”或“臨界尺寸測(cè)量應(yīng)用”包含任何臨界尺寸測(cè)量。
[0076]如本文中所描述，術(shù)語“計(jì)量系統(tǒng)”包含至少部分地用于表征任何方面中的樣品的任何系統(tǒng)。然而，此類技術(shù)術(shù)語并不限制本文中所描述的術(shù)語“計(jì)量系統(tǒng)”的范圍。另外，計(jì)量系統(tǒng)100可經(jīng)配置用于經(jīng)圖案化晶片及/或未經(jīng)圖案化晶片的測(cè)量。計(jì)量系統(tǒng)可經(jīng)配置為LED檢驗(yàn)工具、邊緣檢驗(yàn)工具、背側(cè)檢驗(yàn)工具、宏觀檢驗(yàn)工具或多模式檢驗(yàn)工具(涉及同時(shí)來自一個(gè)或多個(gè)平臺(tái)的數(shù)據(jù))，以及受益于具有旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器的橢圓偏振計(jì)、旋光計(jì)或散射計(jì)的任何其它計(jì)量或檢驗(yàn)工具。
[0077]本文中描述可用于處理樣品的半導(dǎo)體處理系統(tǒng)(例如，檢驗(yàn)系統(tǒng)或光刻系統(tǒng))的各種實(shí)施例。術(shù)語“樣品”在本文中用于指代晶片、光罩或可由所屬領(lǐng)域中已知的手段處理(例如，印刷或檢驗(yàn)缺陷)的任何其它樣本上的位點(diǎn)。
[0078]如本文中所使用，術(shù)語“晶片"通常是指由半導(dǎo)體或非半導(dǎo)體材料形成的襯底。實(shí)例包含但不限于單晶硅、砷化鎵及磷化銦。通常可在半導(dǎo)體制作設(shè)施中找到及/處理此類襯底。在一些情形中，晶片可僅包含襯底(即，裸晶片)?；蛘?，晶片可包含形成于襯底上的一個(gè)或多個(gè)不同材料層。形成于晶片上的一個(gè)或多個(gè)層可為“經(jīng)圖案化”或“未圖案化”的。舉例來說，晶片可包含具有可重復(fù)圖案特征的多個(gè)裸片。
[0079]“光罩”可為在光罩制作過程的任何階段處的光罩或者為可或不可被釋放以供在半導(dǎo)體制作設(shè)施中使用的完成光罩。光罩或“掩?！蓖ǔ１欢x為具有在其上形成且配置成圖案的大體上不透明區(qū)域的大體上透明襯底。襯底可包含(舉例而言)例如非晶S12的玻璃材料。