基板處理裝置及其控制方法、控制電路與維護(hù)方法
【專利說(shuō)明】基板處理裝置及其控制方法、控制電路與維護(hù)方法
[0001]本申請(qǐng)是國(guó)際申請(qǐng)?zhí)枮镻CT/JP2010/072706，國(guó)際申請(qǐng)日為2010年12月16日，于2012年06月12日進(jìn)入中國(guó)國(guó)家階段的原申請(qǐng)申請(qǐng)?zhí)?01080056521.9，發(fā)明名稱為“基板處理裝置的維護(hù)方法以及安全裝置”的分案申請(qǐng)。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明是有關(guān)于一種曝光裝置等的基板處理裝置的維護(hù)方法。
【背景技術(shù)】
[0003]就液晶顯示面板或半導(dǎo)體裝置等的制造的光刻(photolithography)步驟中所使用的曝光裝置而言，為了對(duì)基板實(shí)施微細(xì)加工，所以使該曝光裝置被室(chamber)所覆蓋，以防止灰塵等的污染物或雜質(zhì)進(jìn)入至裝置內(nèi)。
[0004]通常，在曝光裝置中，為了對(duì)裝置進(jìn)行維護(hù)，而需要由作業(yè)人員從設(shè)置于室的門進(jìn)入至裝置內(nèi)部(被室所覆蓋的室內(nèi))。為了確保此時(shí)的作業(yè)人員的安全，在先前的曝光裝置中，設(shè)置著:在室的門被打開的情況下，使曝光裝置內(nèi)的驅(qū)動(dòng)部停止的安全裝置(聯(lián)鎖(interlock)機(jī)構(gòu))(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。
[0005]先行技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)1:日本專利特開2001-160534號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]發(fā)明要解決的課題
[0009]然而，在專利文獻(xiàn)I所記載的曝光裝置中，與室的門的打開連動(dòng)而停止的對(duì)象設(shè)為裝置內(nèi)的所有驅(qū)動(dòng)部，因而無(wú)法在室內(nèi)藉由驅(qū)動(dòng)部的驅(qū)動(dòng)狀態(tài)的觀察等來(lái)進(jìn)行檢查。
[0010]對(duì)此，本發(fā)明的目的在于，提供一種基板處理裝置的維護(hù)方法及安全裝置，能夠進(jìn)行曝光裝置等的基板處理裝置所包括的驅(qū)動(dòng)部的驅(qū)動(dòng)狀態(tài)的檢查，并且能夠確保進(jìn)行維護(hù)時(shí)的作業(yè)人員的安全。
[0011]本發(fā)明的第I態(tài)樣為一種基板處理裝置的控制方法，為控制基板處理裝置的控制方法，上述基板處理裝置包括:進(jìn)行用以處理基板的規(guī)定動(dòng)作的驅(qū)動(dòng)部；將配置著上述驅(qū)動(dòng)部的驅(qū)動(dòng)區(qū)、與上述驅(qū)動(dòng)區(qū)的周圍的周圍區(qū)加以區(qū)分的間隔部；覆蓋上述驅(qū)動(dòng)區(qū)及上述周圍區(qū)的室本體部；設(shè)置在上述驅(qū)動(dòng)區(qū)及上述周圍區(qū)的至少一方的電離器；及對(duì)上述基板進(jìn)行規(guī)定處理的處理部，上述基板處理裝置的控制方法的特征在于包括:對(duì)應(yīng)于設(shè)置在上述室本體部的第I門的第I開關(guān)、與對(duì)應(yīng)于設(shè)置在上述間隔部的第2門的第2開關(guān)為分別連接，而使上述電離器進(jìn)行動(dòng)作。
[0012]本發(fā)明的第2態(tài)樣為一種基板處理裝置的控制電路，為控制基板處理裝置的控制電路，上述基板處理裝置包括:進(jìn)行用以處理基板的規(guī)定動(dòng)作的驅(qū)動(dòng)部；將配置著上述驅(qū)動(dòng)部的驅(qū)動(dòng)區(qū)、與上述驅(qū)動(dòng)區(qū)的周圍的周圍區(qū)加以區(qū)分的間隔部；覆蓋上述驅(qū)動(dòng)區(qū)及上述周圍區(qū)的室本體部；設(shè)置在上述驅(qū)動(dòng)區(qū)及上述周圍區(qū)的至少一方的電離器；及對(duì)上述基板進(jìn)行規(guī)定處理的處理部，上述基板處理裝置的控制電路的特征在于包括:第I開關(guān)，對(duì)應(yīng)于設(shè)置在上述室本體部的第I門；以及第2開關(guān)，對(duì)應(yīng)于設(shè)置在上述間隔部的第2門，上述第I開關(guān)與上述第2開關(guān)為分別連接，而使上述電離器進(jìn)行動(dòng)作。
[0013]本發(fā)明的第3態(tài)樣為一種基板處理裝置，其特征在于包括:上述的基板處理裝置的控制電路。
[0014]本發(fā)明的第4態(tài)樣為一種上述的基板處理裝置的維護(hù)方法。
[0015]發(fā)明的效果
[0016]根據(jù)本發(fā)明的態(tài)樣，能夠進(jìn)行曝光裝置等的基板處理裝置所包括的驅(qū)動(dòng)部的驅(qū)動(dòng)狀態(tài)的檢查，并且能夠確保進(jìn)行維護(hù)時(shí)的作業(yè)人員的安全。
【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1是表示基板處理裝置EX的外觀的立體圖。
[0018]圖2是已搬送有掩模(mask) M及基板P的曝光裝置FX的概略構(gòu)成圖。
[0019]圖3是已搬送有掩模M及基板P的曝光裝置FX的立體圖。
[0020]圖4是表示掩模搭載器MR及基板搭載器PR的基板處理裝置EX的平面圖。
[0021]圖5是用以說(shuō)明基板處理裝置EX的第一層的曝光室1A的內(nèi)部構(gòu)成的平面圖。
[0022]圖6是用以說(shuō)明基板處理裝置EX的第二層的曝光室1B的內(nèi)部構(gòu)成的平面圖。
[0023]圖7是表示第I門DRl、第2門DR2及第3門DR3的構(gòu)成的示意圖。圖7 (a)是表示第I門DRl、第2門DR2或第3門DR3已關(guān)閉的狀態(tài)的圖。圖7 (b)是表示第I門DRl、第2門DR2或第3門DR3的單門Dl (右手側(cè)的單門)已打開的狀態(tài)的圖。
[0024]圖8是表示將第I門DRl或第2門DR2或第3門DR3打開時(shí)的操作部23的狀態(tài)的放大圖。
[0025]圖9是用以說(shuō)明使驅(qū)動(dòng)部停止的安全裝置的電路概略圖。
[0026]圖10是表示作業(yè)人員進(jìn)入曝光室1A的內(nèi)部時(shí)的步驟與維護(hù)的步驟的流程圖。
[0027]圖11是表示作業(yè)人員結(jié)束維護(hù)后從曝光室1A退出時(shí)的步驟的流程圖。
[0028]符號(hào)的說(shuō)明
[0029]10、10A、10B:曝光室
[0030]11:掩模搭載器室[0031 ]12:基板搭載器室
[0032]13:控制部
[0033]14:投影模塊
[0034]15:照明模塊
[0035]16:投影區(qū)域
[0036]17:照明區(qū)域
[0037]21、31、33、35、41:恢復(fù)按鈕
[0038]23:操作部
[0039]24:推桿
[0040]51:外壁
[0041]52:間隔部
[0042]61:外壁
[0043]62:間隔部
[0044]DA、DA1、DA2:驅(qū)動(dòng)區(qū)
[0045]DR1(DR11?DR13)、DR2(DR21?DR26)、DR3(DR31?DR33):門
[0046]EX:基板處理裝置
[0047]FX:曝光裝置
[0048]IL:照明光學(xué)系統(tǒng)
[0049]LP1、LP2:電路
[0050]M:掩模
[0051]MR:掩模搭載器
[0052]MS:掩模平臺(tái)
[0053]P:基板
[0054]PL:投影光學(xué)系統(tǒng)
[0055]PR:基板搭載器
[0056]PS:基板平臺(tái)
[0057]R1、R2、R3:開口部
[0058]SA、SA1、SA2:周圍區(qū)
[0059]STll ?ST13、ST21 ?ST26、ST31 ?ST33:開關(guān)
【具體實(shí)施方式】
[0060]基板處理裝置的概要
[0061]圖1是表示基板處理裝置EX的外觀的立體圖。圖1中，將鉛垂方向設(shè)為Z軸方向，將與該Z軸方向垂直的平面設(shè)為XY平面。
[0062]如圖1所示，基板處理裝置EX包括:曝光室10、掩模搭載器室(mask loaderchamber) 11、基板搭載器室12、及控制部13。曝光室10收納對(duì)基板進(jìn)行曝光處理的曝光裝置FX (參照?qǐng)D2)。掩模搭載器室11收納掩模搭載器MR (參照?qǐng)D4)?；宕钶d器室12收納基板搭載器PR(參照?qǐng)D4)?？刂撇?3進(jìn)行基板處理裝置EX的控制。
[0063]如圖1所示，曝光室10配置于基板處理裝置EX的中心部附近。掩模搭載器室11配置于曝光室10的-Y側(cè)。基板搭載器室12配置于曝光室10的-X側(cè)。而且，控制部13配置于曝光室10、掩模搭載器室11及基板搭載器室12的外側(cè)。
[0064]曝光室10、掩模搭載器室11及基板搭載器室12具有:防止空氣中的污染物或雜質(zhì)進(jìn)入至曝光裝置FX內(nèi)的防塵功能。
[0065]曝光裝置的概要
[0066]一方面參照?qǐng)D2及圖3，一方面對(duì)曝光裝置FX的構(gòu)成進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。此處，掩模M包括:形成著轉(zhuǎn)印至基板P的組件圖案(device p