36] 為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明的實施 方式作進一步地詳細描述。本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明 的其他優(yōu)點與功效。本發(fā)明還可以通過另外不同的【具體實施方式】加以實施或應(yīng)用，本說明 書中的各項細節(jié)也可以基于不同觀點與應(yīng)用，在沒有背離本發(fā)明的精神下進行各種修飾或 改變。
[0037] 上述及其它技術(shù)特征和有益效果，將結(jié)合實施例及附圖3至9對本發(fā)明的靜電吸 盤吸力分布的調(diào)控裝置及方法進行詳細說明，圖3為本發(fā)明靜電吸盤吸力分布的調(diào)控裝置 的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明中向下彎曲的晶圓受電壓控制的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為圖4中向 下彎曲的晶圓吸力分布的示意圖；圖6為本發(fā)明中平板晶圓受電壓控制的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7 為圖6中平板晶圓吸力分布的示意圖；圖8為本發(fā)明中向上彎曲的晶圓受電壓控制的結(jié)構(gòu) 不意圖；圖9為圖8中向上彎曲的晶圓吸力分布的不意圖。
[0038] 如圖3所示，本發(fā)明提供了本發(fā)明提供了一種靜電吸盤吸力分布的調(diào)控裝置，靜 電吸盤包括晶圓彎曲度預(yù)測模塊30、靜電吸力分布模塊40以及靜電吸盤作業(yè)模塊50 ;其 中，晶圓彎曲度預(yù)測模塊30用于測定晶圓20的彎曲度，并將測定的彎曲度值反饋至靜電 吸力分布模塊40 ;靜電吸力分布模塊40用于接收所述晶圓彎曲度預(yù)測模塊30測定的彎曲 度值，對晶圓的彎曲度值進行分析，并向靜電吸盤作業(yè)模塊50發(fā)送吸力分布信息指令；靜 電吸盤作業(yè)模塊50用于接收所述靜電吸力分布模塊40發(fā)出的吸力分布信息指令，并調(diào)節(jié) 靜電吸盤對晶圓的吸力分布。
[0039] 具體的，本實施例中，靜電吸盤10的絕緣材料中鑲嵌至少一組直流電極，其中，直 流電極包括正電級以及負電極。如圖4、6、8所示，靜電吸盤10的絕緣材料中優(yōu)選鑲嵌兩組 直流電極，直流電極包括兩個正電級以及兩個負電極，正電級以及負電極分別設(shè)置與靜電 吸盤的兩側(cè)。本實施例中的靜電吸盤作業(yè)模塊與兩組直流電極連接，通過向兩組直流電極 輸入不同的電壓，以調(diào)節(jié)晶圓的吸力分布。如圖5、7、9所示，分別示出了向下彎曲的晶圓、 平板晶圓以及向上彎曲的晶圓的吸力分布示意圖，最終通過靜電吸盤作業(yè)模塊調(diào)控晶圓表 面的吸力分布，以防止晶圓產(chǎn)生形變。
[0040] 此外，本發(fā)明還提供一種靜電吸盤吸力分布的調(diào)控方法，包括以下步驟：
[0041 ] 步驟SO 1、晶圓彎曲度預(yù)測模塊30測定晶圓的彎曲度，并將測定的彎曲度值反饋 至靜電吸力分布模塊40 ;
[0042] 步驟S02、靜電吸力分布模塊40獲取晶圓的彎曲度值，分析晶圓各區(qū)域的靜電吸 力分布，并將吸力分布信息指令發(fā)送至所述靜電吸盤作業(yè)模塊50 ;
[0043] 步驟S03、靜電吸盤作業(yè)模塊50根據(jù)接收的吸力分布信息指令調(diào)節(jié)靜電吸盤對晶 圓的吸力分布。
[0044] 綜上所述，本發(fā)明提供的靜電吸盤吸力分布的調(diào)控裝置以及方法，通過設(shè)置晶圓 彎曲度預(yù)測模塊30、靜電吸力分布模塊40以及靜電吸盤作業(yè)模塊50,解決了現(xiàn)有工藝過程 中由于靜電吸盤靜電吸力不均勻?qū)е戮A產(chǎn)生形變的問題，可以合理控制在工藝過程中靜 電吸盤的靜電吸力，保證在工藝過程中，可以保持晶圓剛好被靜電吸盤所吸附同時不產(chǎn)生 形變，提尚了晶圓廣品質(zhì)量，延長了靜電吸盤壽命。
[0045] 上述說明示出并描述了本發(fā)明的若干優(yōu)選實施例，但如前所述，應(yīng)當理解本發(fā)明 并非局限于本文所披露的形式，不應(yīng)看作是對其他實施例的排除，而可用于各種其他組合、 修改和環(huán)境，并能夠在本文所述發(fā)明構(gòu)想范圍內(nèi)，通過上述教導(dǎo)或相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)或知識 進行改動。而本領(lǐng)域人員所進行的改動和變化不脫離本發(fā)明的精神和范圍，則都應(yīng)在本發(fā) 明所附權(quán)利要求的保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1. 一種靜電吸盤吸力分布的調(diào)控裝置，其特征在于，所述靜電吸盤包括： 晶圓彎曲度預(yù)測模塊，用于測定晶圓的彎曲度，并將測定的彎曲度值反饋至靜電吸力 分布模塊； 靜電吸力分布模塊，用于接收所述晶圓彎曲度預(yù)測模塊測定的彎曲度值，對晶圓的彎 曲度值進行分析，并向靜電吸盤作業(yè)模塊發(fā)送吸力分布信息指令； 靜電吸盤作業(yè)模塊，用于接收所述靜電吸力分布模塊發(fā)出的吸力分布信息指令，并調(diào) 節(jié)靜電吸盤對晶圓的吸力分布。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電吸盤吸力分布的調(diào)控裝置，其特征在于，所述靜電吸盤 的絕緣材料中鑲嵌至少一組直流電極。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的靜電吸盤吸力分布的調(diào)控裝置，其特征在于，所述直流電極 包括正電級以及負電極。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電吸盤吸力分布的調(diào)控裝置，其特征在于，所述靜電吸盤 的絕緣材料中鑲嵌兩組直流電極。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的靜電吸盤吸力分布的調(diào)控裝置，其特征在于，所述直流電極 包括兩個正電級以及兩個負電極。6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的靜電吸盤吸力分布的調(diào)控裝置，其特征在于，所述靜電吸盤 作業(yè)模塊與所述兩組直流電極連接，通過向兩組直流電極輸入不同的電壓，以調(diào)節(jié)晶圓的 吸力分布。7. 根據(jù)權(quán)利要求1~6任一所述的靜電吸盤吸力分布的調(diào)控方法，其特征在于，包括以 下步驟： 步驟S01、晶圓彎曲度預(yù)測模塊測定晶圓的彎曲度，并將測定的彎曲度值反饋至靜電吸 力分布模塊； 步驟S02、靜電吸力分布模塊獲取晶圓的彎曲度值，分析晶圓各區(qū)域的靜電吸力分布， 并將吸力分布信息指令發(fā)送至所述靜電吸盤作業(yè)模塊； 步驟S03、靜電吸盤作業(yè)模塊根據(jù)接收的吸力分布信息指令調(diào)節(jié)靜電吸盤對晶圓的吸 力分布。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種靜電吸盤吸力分布的調(diào)控裝置及方法，包括晶圓彎曲度預(yù)測模塊、靜電吸力分布模塊以及靜電吸盤作業(yè)模塊；其中，晶圓彎曲度預(yù)測模塊用于測定晶圓的彎曲度,并將測定的彎曲度值反饋至靜電吸力分布模塊；靜電吸力分布模塊用于對晶圓的彎曲度值進行分析，并向靜電吸盤作業(yè)模塊發(fā)送吸力分布信息指令；靜電吸盤作業(yè)模塊用于調(diào)節(jié)靜電吸盤對晶圓的吸力分布。本發(fā)明解決了現(xiàn)有工藝過程中由于靜電吸盤靜電吸力不均勻?qū)е戮A產(chǎn)生形變的問題，可以合理控制在工藝過程中靜電吸盤的靜電吸力，保證在工藝過程中可以保持晶圓剛好被靜電吸盤所吸附同時不產(chǎn)生形變，提高了晶圓產(chǎn)品質(zhì)量，延長了靜電吸盤壽命。
【IPC分類】H01L21/683
【公開號】CN105097634
【申請?zhí)枴緾N201510459282
【發(fā)明人】胡彬彬, 韓曉剛, 孔祥濤
【申請人】上海華力微電子有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2015年7月30日