一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting D1de，有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管)顯示面板具有自發(fā)光、功耗低、反應(yīng)速度較快、對(duì)比度更高和視角較廣等特點(diǎn)，因此，AMOLED顯示面板在顯示技術(shù)領(lǐng)域，具有廣泛的應(yīng)用前景。
[0003]然而，現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)AMOLED顯示面板顯示畫面時(shí)，如果AMOLED顯示面板中的部分像素區(qū)域點(diǎn)亮?xí)r，則處于點(diǎn)亮狀態(tài)的像素區(qū)域和與其相鄰的且不應(yīng)該點(diǎn)亮的像素區(qū)域間會(huì)產(chǎn)生較強(qiáng)的漏電流，使不應(yīng)該點(diǎn)亮的像素區(qū)域微微發(fā)亮，從而使顯示面板降低顯示畫面的品質(zhì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制造方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中的AMOLED顯示面板降低顯示畫面的品質(zhì)的技術(shù)問題。
[0005]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示面板，包括:基板；像素定義層，設(shè)置在所述基板上，其中，所述像素定義層限定出多個(gè)像素區(qū)域；有機(jī)公共層，設(shè)置在所述像素區(qū)域上和所述像素定義層上；所述有機(jī)公共層對(duì)應(yīng)于所述像素定義層的至少一部分的厚度小于所述有機(jī)公共層對(duì)應(yīng)于所述像素區(qū)域的至少一部分的厚度；或至少一個(gè)凹槽，設(shè)置在部分像素區(qū)域間的像素定義層或全部像素區(qū)域間的像素定義層中，且所述有機(jī)公共層覆蓋所述凹槽。
[0006]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種顯示裝置，包括上述的顯示面板。
[0007]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種顯示面板的制造方法，包括:提供一基板；在所述基板上形成像素定義層，其中，所述像素定義層限定出多個(gè)像素區(qū)域；在部分像素區(qū)域間的像素定義層或全部像素區(qū)域間的像素定義層中形成至少一個(gè)凹槽；形成有機(jī)公共層，其中，所述有機(jī)公共層形成在所述像素區(qū)域上和所述像素定義層上并覆蓋所述凹槽。
[0008]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種顯示面板的制造方法，包括:提供一基板；在所述基板上形成像素定義層，其中，所述像素定義層限定出多個(gè)像素區(qū)域；形成有機(jī)公共層，其中，所述有機(jī)公共層形成在所述像素區(qū)域上和所述像素定義層上，且所述有機(jī)公共層對(duì)應(yīng)于所述像素定義層的至少一部分的厚度小于所述有機(jī)公共層對(duì)應(yīng)于所述像素區(qū)域的至少一部分的厚度。
[0009]本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制造方法，通過在顯示面板中設(shè)置對(duì)應(yīng)于像素定義層的有機(jī)公共層的至少一部分的厚度小于對(duì)應(yīng)于像素區(qū)域的有機(jī)公共層的至少一部分的厚度，或者設(shè)置至少一個(gè)凹槽，其中，凹槽位于部分像素區(qū)域間的像素定義層或全部像素區(qū)域間的像素定義層中且有機(jī)公共層覆蓋凹槽，這樣可以增大相應(yīng)的像素區(qū)域間的有機(jī)公共層的電阻，從而可以減弱甚至抑制點(diǎn)亮的像素區(qū)域與不應(yīng)該點(diǎn)亮的像素區(qū)域之間產(chǎn)生的漏電流，并可以使不應(yīng)該點(diǎn)亮的像素區(qū)域保持黑態(tài)，進(jìn)而可以使顯不面板提尚顯不畫面的品質(zhì)。
【附圖說明】
[0010]通過閱讀參照以下附圖所作的對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本發(fā)明的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更明顯:
[0011]圖1是傳統(tǒng)技術(shù)的AMOLED顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2a是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2b是本發(fā)明實(shí)施例提供的另一中顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的又一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的又一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖5是本發(fā)明實(shí)施例提供的又一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖6是本發(fā)明實(shí)施例提供的又一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖7是圖2a中A區(qū)域的放大示意圖；
[0019]圖8a是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板的局部俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖8b是本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種顯不面板的局部俯視結(jié)構(gòu)不意圖；
[0021]圖9是本發(fā)明實(shí)施例提供的又一種顯示面板的局部俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖10是本發(fā)明實(shí)施例提供的又一種顯示面板的局部俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖11是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖12是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板的制造方法的流程示意圖；
[0025]圖13是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種采用蒸鍍方式形成有機(jī)公共層的示意圖；
[0026]圖14是本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種采用蒸鍍方式形成有機(jī)公共層的示意圖；
[0027]圖15是本發(fā)明實(shí)施例提供的另一中顯示面板的制造方法的流程示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明?？梢岳斫獾氖?，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用于解釋本發(fā)明，而非對(duì)本發(fā)明的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本發(fā)明相關(guān)的部分而非全部?jī)?nèi)容。
[0029]在給出本發(fā)明的實(shí)施例之前，先介紹一下傳統(tǒng)技術(shù)中的AMOLED顯示面板的結(jié)構(gòu)。圖1是傳統(tǒng)技術(shù)的AMOLED顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，傳統(tǒng)技術(shù)中的AMOLED顯示面板包括:基板11 ;設(shè)置在基板11上的薄膜晶體管膜層12，其中，薄膜晶體管膜層12用于設(shè)置具有開關(guān)功能的薄膜晶體管；設(shè)置在薄膜晶體管膜層12上的平坦化層13 ;設(shè)置在平坦化層13上的像素定義層14，其中，像素定義層14限定出多個(gè)像素區(qū)域15;設(shè)置在平坦化層13上且位于像素區(qū)域15中的陽極16 ;設(shè)置在像素定義層14和陽極16上的有機(jī)公共層17，其中，有機(jī)公共層17包括空穴傳輸層171和位于空穴傳輸層171上的電子傳輸層172 ；設(shè)置在空穴傳輸層171和電子傳輸層172之間的有機(jī)發(fā)光層18 ;以及設(shè)置在電子傳輸層172上的陰極19。
[0030]上述AMOLED顯示面板的顯示原理為:在給陽極16和陰極19分別施加一定電壓的情況下，空穴會(huì)從陽極16注入到空穴傳輸層171，電子會(huì)從陰極19注入到電子傳輸層172，空穴和電子分別經(jīng)過空穴傳輸層171和電子傳輸層172迀移到有機(jī)發(fā)光層18，并在有機(jī)發(fā)光層18中相遇形成激子，激子使有機(jī)發(fā)光層18中的發(fā)光分子激發(fā)而發(fā)出可見光，從而使AMOLED顯示面板實(shí)現(xiàn)相應(yīng)的顯示效果。
[0031]現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)AMOLED顯示面板顯示畫面時(shí)，如果AMOLED顯示面板中的部分像素區(qū)域點(diǎn)亮?xí)r，由于相鄰像素區(qū)域間的電子傳輸層和空穴傳輸層連接在一起，因此，對(duì)于處于點(diǎn)亮狀態(tài)的像素區(qū)域，注入到相應(yīng)的電子傳輸層中的電子和注入到相應(yīng)的空穴傳輸層中的空穴會(huì)向相鄰的且不應(yīng)該點(diǎn)亮的像素區(qū)域迀移，并在點(diǎn)亮狀態(tài)的像素區(qū)域和不應(yīng)該點(diǎn)亮的像素區(qū)域間產(chǎn)生較強(qiáng)的漏電流，使不應(yīng)該點(diǎn)亮的像素區(qū)域微微發(fā)亮，從而使顯示面板降低顯不畫面的品質(zhì)。
[0032]基于此，本發(fā)明實(shí)施例給出如下的技術(shù)方案。
[0033]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示面板。圖2a是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖2a所示，顯示面板包括:基板21 ;像素定義層22，設(shè)置在基板21上，其中，像素定義層22限定出多個(gè)像素區(qū)域23 ;可選地，至少一個(gè)凹槽24，設(shè)置在部分像素區(qū)域23間的像素定義層22或全部像素區(qū)域23間的像素定義層22中；有機(jī)公共層25，設(shè)置在像素區(qū)域23上和像素定義層22上，且有機(jī)公共層25覆蓋凹槽24。可選地，在凹槽24形成之前的像素定義層22的質(zhì)量大于凹槽24形成之后的像素定義層22的質(zhì)量，也就是說，在形成凹槽24的過程中，像素定義層22的質(zhì)量有減小。具體可選地，可以采用刻蝕法或激光照射法形成凹槽24，例如干法刻蝕、濕法刻蝕、激光灼燒等方法。由于在本發(fā)明中，需要凹槽24形成一定的深度，才能有效增大相鄰像素區(qū)域23間的有機(jī)公共層25的電阻，上述形成凹槽24的工藝方法可以很好地實(shí)現(xiàn)本發(fā)明所需深度的凹槽。可選地，凹槽24的深度D大于或等于0.5 μm，發(fā)明人經(jīng)過研宄發(fā)現(xiàn)，當(dāng)凹槽24的深度小于0.5 μπι時(shí)，對(duì)相鄰像素區(qū)域23間的有機(jī)公共層25的電阻的調(diào)節(jié)作用有限，抑制相鄰像素區(qū)域23間電子/空穴的迀移能力也較弱。
[0034]可選地，如圖2b所示，有機(jī)公共層25對(duì)應(yīng)于像素定義層22的至少一部分的厚度小于有機(jī)公共層25對(duì)應(yīng)于像素區(qū)域23的至少一部分的厚度。這樣的設(shè)計(jì)使得對(duì)應(yīng)于像素定義層的有機(jī)公共層比對(duì)應(yīng)于像素區(qū)域的有機(jī)公共層具有更大的電阻，從而可以抑制相鄰像素區(qū)域間的電子/空穴的迀移能力，可以防止點(diǎn)亮的像素區(qū)域23與不應(yīng)該點(diǎn)亮的像素區(qū)域23之間產(chǎn)生的漏電流，可以使不應(yīng)該點(diǎn)亮的像素區(qū)域保持黑態(tài)，進(jìn)而可以使顯示面板提高顯示畫面的品質(zhì)。上述分別對(duì)應(yīng)于像素定義層和像素區(qū)域的有機(jī)公共層的厚度設(shè)計(jì)可以采用斜向蒸鍍實(shí)現(xiàn)，即蒸鍍方向與基板的垂直方向具有一定夾角?？蛇x地，上述夾角是銳角?？蛇x地，蒸鍍的方向與像素定義層的斜邊方向相同?？蛇x地，有機(jī)公共層對(duì)應(yīng)于所述像素定義層的區(qū)域具有不連續(xù)處，這樣能更好的阻斷相鄰像素區(qū)域間的電子/空穴的迀移?？蛇x地，采用灰度掩模板(Gray Tone Mask)對(duì)有機(jī)公共層進(jìn)行刻蝕，使得有機(jī)公共層對(duì)應(yīng)于所述像素定義層的至少一部分的厚度小