本揭露涉及一種半導體結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
1、由于各種電子元件(晶體管、二極管、電阻器、電容器等)的集成密度不斷提高,半導體工業(yè)經(jīng)歷了快速增長。在大多數(shù)情況下,集成密度提高是由于最小結(jié)構(gòu)尺寸的迭代減少而導致,這使得更多的組件可以結(jié)合到特定的區(qū)域中。隨著對電子裝置縮小的需求不斷增長,對更小、更具創(chuàng)意的半導體晶粒封裝技術(shù)的需求也隨之出現(xiàn)。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、一種半導體結(jié)構(gòu)包括集成電路晶粒以及密封劑,集成電路晶粒包括基板、互連結(jié)構(gòu)、密封環(huán)以及保護環(huán),基板,具有一電性裝置;互連結(jié)構(gòu)于基板上,其中互連結(jié)構(gòu)包含介電層和導電特征,其中導電特征電耦合至電性裝置;密封環(huán)于互連結(jié)構(gòu)的介電層中,其中密封環(huán)在俯視圖中環(huán)繞電性裝置;以及保護環(huán)的至少部分嵌入基板中,其中保護環(huán)在俯視圖中環(huán)繞密封環(huán);以及密封劑,在俯視圖中環(huán)繞集成電路晶粒。
2、一種半導體結(jié)構(gòu),包括:第一集成電路晶粒,其中第一集成電路晶粒包括:基板,具有裝置區(qū)域;互連結(jié)構(gòu)于該基板上;密封環(huán)于互連結(jié)構(gòu)中;以及保護特征于互連結(jié)構(gòu)和基板中,其中密封環(huán)于保護特征和裝置區(qū)域之間。
3、一種半導體結(jié)構(gòu),包括第一集成電路晶粒,其中第一集成電路晶粒包括:基板具有裝置區(qū)域;互連結(jié)構(gòu)于基板上;密封環(huán)于互連結(jié)構(gòu)中;以及保護特征于互連結(jié)構(gòu)和基板中,其中密封環(huán)于保護特征和裝置區(qū)域之間,其中在一俯視圖中,保護特征是圍繞密封環(huán)的一個或多個同心分段環(huán)。
1.一種半導體結(jié)構(gòu),其特征在于,包含:
2.如權(quán)利要求1所述的半導體結(jié)構(gòu),其特征在于,其中該保護環(huán)以該電性裝置電隔離。
3.如權(quán)利要求1所述的半導體結(jié)構(gòu),其特征在于,其中該保護環(huán)完全嵌入該基板中。
4.如權(quán)利要求1所述的半導體結(jié)構(gòu),其特征在于,其中該保護環(huán)在該俯視圖中,位于該密封環(huán)的一外邊緣和該集成電路晶粒的一第一邊緣之間,其中該集成電路晶粒的該第一邊緣是該集成電路晶粒距離該密封環(huán)的該外邊緣最靠近的一邊緣,且其中該集成電路晶粒的該第一邊緣包含該集成電路晶粒的一倒角。
5.如權(quán)利要求1所述的半導體結(jié)構(gòu),其特征在于,其中該保護環(huán)在該俯視圖中,位于該密封環(huán)的一外邊緣和該集成電路晶粒的一第一邊緣之間,其中該集成電路晶粒的該第一邊緣是該集成電路晶粒距離該密封環(huán)的該外邊緣最靠近的一邊緣,其中該密封環(huán)的該外邊緣與該集成電路晶粒的該第一邊緣間隔開一第一距離,其中該集成電路晶粒具有一第一寬度,且其中該第一距離與該第一寬度的一比率在0.004至0.008的一范圍內(nèi)。
6.一種半導體結(jié)構(gòu),其特征在于,包含:
7.如權(quán)利要求6所述的半導體結(jié)構(gòu),其特征在于,還包含一密封劑,其中該第一集成電路晶粒是一個或多個集成電路晶粒的一者,其中在一俯視圖中,該一個或多個集成電路晶粒具有一第一總面積,其中在該俯視圖中,該密封劑具有一第二總面積,且該第一總面積與該第二總面積的一比率為2至3的一范圍內(nèi)。
8.如權(quán)利要求6所述的半導體結(jié)構(gòu),其特征在于,其中該保護特征包含一第一部分,其中該第一部分的一表面與該基板的一表面齊平。
9.如權(quán)利要求6所述的半導體結(jié)構(gòu),其特征在于,其中在一俯視圖中,該保護特征是圍繞該密封環(huán)的一個或多個同心連續(xù)環(huán)。
10.一種半導體結(jié)構(gòu),其特征在于,包含: