本發(fā)明屬于背接觸電池,具體涉及一種電池制備方法、背接觸電池以及光伏組件。
背景技術(shù):
1、目前,在背接觸電池的制備過(guò)程中,一般都是通過(guò)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的方式直接在本征非晶硅層上沉積n型或者p型摻雜層,但是這樣一來(lái),本征非晶硅層和摻雜層之間的接觸效果較差,鈍化質(zhì)量較差,透光率較低,導(dǎo)致背接觸電池的電流密度較低,電池轉(zhuǎn)換效率較低。
2、需要說(shuō)明的是,本發(fā)明的該部分內(nèi)容僅提供與本發(fā)明有關(guān)的背景技術(shù),而并不必然構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)或公知技術(shù)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)存在的本征非晶硅層和摻雜層之間接觸效果較差、鈍化質(zhì)量較差、透光率較低,導(dǎo)致背接觸電池電流密度較低、電池轉(zhuǎn)換效率較低的缺陷,提供一種電池制備方法、背接觸電池以及光伏組件,該電池制備方法通過(guò)二氧化碳和氫氣的混合氣等離子體對(duì)本征非晶硅層進(jìn)行預(yù)處理,以改善本征非晶硅層和摻雜層之間的接觸效果,提升鈍化質(zhì)量,提高透光率,從而提升背接觸電池的電流密度和電池轉(zhuǎn)換效率,保證電池質(zhì)量。
2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的,第一方面,本發(fā)明提供一種電池制備方法,包括:
3、s1.?提供雙面拋光的硅片;
4、s2.?在硅片的背面依次形成第一半導(dǎo)體層和掩膜層,其中,第一半導(dǎo)體層包括依次設(shè)置的第一隧穿氧化層和第一摻雜層;
5、s3.?在第一隧穿氧化層、第一摻雜層和掩膜層上進(jìn)行刻蝕開(kāi)口,形成第一開(kāi)口區(qū);
6、s4.?清洗去除第一開(kāi)口區(qū)內(nèi)殘留的第一隧穿氧化層、第一摻雜層和掩膜層,并在第一開(kāi)口區(qū)內(nèi)以及硅片的正面同時(shí)形成絨面,之后清洗去除第一開(kāi)口區(qū)外的掩膜層;
7、s5.?在硅片的背面形成第一本征非晶硅層;
8、s6.?在硅片的正面形成第二本征非晶硅層,再利用二氧化碳和氫氣的混合氣等離子體對(duì)第二本征非晶硅層進(jìn)行預(yù)處理,之后在第二本征非晶硅層上形成第二摻雜層,其中,第二本征非晶硅層和第二摻雜層共同形成第二半導(dǎo)體層;
9、s7.?在第一本征非晶硅層上形成第三摻雜層,其中,第一本征非晶硅層和第三摻雜層共同形成第三半導(dǎo)體層。
10、優(yōu)選地,s6包括:
11、s61.?通過(guò)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積在硅片的正面沉積第二本征非晶硅層,其中,第二本征非晶硅層的厚度為4nm-10nm;
12、s62.?通入二氧化碳和氫氣的混合氣等離子體達(dá)到預(yù)設(shè)氣壓,并保壓預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng),以對(duì)第二本征非晶硅層進(jìn)行預(yù)處理;
13、s63.?通過(guò)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積在第二本征非晶硅層上沉積第二摻雜層,其中,第二摻雜層的厚度為10nm-20nm。
14、優(yōu)選地,預(yù)處理?xiàng)l件為:預(yù)設(shè)氣壓為100pa-300pa,預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)為10s-60s,處理溫度為140℃-200℃,氫氣流量與二氧化碳流量的比值為10-50。
15、優(yōu)選地,第二本征非晶硅層的厚度增加比例與預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)增加比例的比值為0.08-0.1。
16、優(yōu)選地,s63中,通入硅烷、磷烷、氫氣和二氧化碳,并在開(kāi)啟輝光的條件下反應(yīng)形成第二摻雜層,第二摻雜層的磷摻雜濃度為1e18cm-3-2e20cm-3,第二摻雜層的折射率為2.1-2.8。
17、優(yōu)選地,形成第二摻雜層的反應(yīng)條件為:反應(yīng)溫度為140℃-200℃,反應(yīng)壓力為100pa-1000pa,氫氣流量與硅烷流量的比值為100-500,二氧化碳流量與硅烷流量的比值為1-4。
18、優(yōu)選地,s2包括:
19、s21.?通過(guò)干法在硅片的背面形成第一隧穿氧化層,其中,第一隧穿氧化層的厚度為1nm-2nm;
20、s22.?通過(guò)低壓化學(xué)氣相沉積在第一隧穿氧化層上沉積本征多晶硅層,之后通過(guò)擴(kuò)散形成第一摻雜層,其中,第一摻雜層的厚度為100nm-200nm;
21、s23.?通過(guò)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積在第一摻雜層上沉積掩膜層,其中,掩膜層的厚度為60nm-80nm。
22、優(yōu)選地,s5中,通過(guò)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積在硅片的背面沉積第一本征非晶硅層,其中,第一本征非晶硅層的厚度為5nm-12nm。
23、優(yōu)選地,s7后,電池制備方法還包括:
24、s8.?在第二半導(dǎo)體層上形成減反層;
25、s9.?在第三半導(dǎo)體層上進(jìn)行刻蝕開(kāi)口,形成與第一開(kāi)口區(qū)交替且間隔設(shè)置的第二開(kāi)口區(qū);
26、s10.?在硅片的背面形成導(dǎo)電膜層;
27、s11.?在導(dǎo)電膜層上開(kāi)設(shè)隔離槽,以使相互隔開(kāi)的一部分導(dǎo)電膜層伸入第一開(kāi)口區(qū),且覆蓋于第三半導(dǎo)體層上,另一部分伸入第二開(kāi)口區(qū),且覆蓋于第一半導(dǎo)體層上;
28、s12.?在伸入第一開(kāi)口區(qū)的部分導(dǎo)電膜層上形成第一電極,在伸入第二開(kāi)口區(qū)的部分導(dǎo)電膜層上形成第二電極。
29、第二方面,本發(fā)明提供一種背接觸電池,其通過(guò)上述的電池制備方法制得。
30、第三方面,本發(fā)明提供一種光伏組件,其包括上述的背接觸電池。
31、有益效果:
32、經(jīng)研究發(fā)現(xiàn),在背接觸電池的制備過(guò)程中,若直接在本征非晶硅層上沉積n型或者p型摻雜層,則會(huì)導(dǎo)致本征非晶硅層和摻雜層之間的接觸效果較差,鈍化質(zhì)量較差,透光率較低,導(dǎo)致背接觸電池的電流密度較低,電池轉(zhuǎn)換效率較低?;诖?,進(jìn)一步研究而提出本發(fā)明。
33、本發(fā)明通過(guò)上述技術(shù)方案,尤其是通過(guò)二氧化碳和氫氣的混合氣等離子體對(duì)本征非晶硅層進(jìn)行預(yù)處理,以改善本征非晶硅層和摻雜層之間的接觸效果,提升鈍化質(zhì)量,提高透光率,從而提升背接觸電池的電流密度和電池轉(zhuǎn)換效率,保證電池質(zhì)量。
34、本發(fā)明提供的背接觸電池通過(guò)上述電池制備方法生產(chǎn)得到,具有較優(yōu)的鈍化效果,產(chǎn)品質(zhì)量較好。
35、本發(fā)明提供的光伏組件包括上述背接觸電池,具有較優(yōu)的光電轉(zhuǎn)換效率,光伏發(fā)電效率高。
1.一種電池制備方法,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池制備方法,其特征在于,s6包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電池制備方法,其特征在于,預(yù)處理?xiàng)l件為:所述預(yù)設(shè)氣壓為100pa-300pa,所述預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)為10s-60s,處理溫度為140℃-200℃,氫氣流量與二氧化碳流量的比值為10-50。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電池制備方法,其特征在于,所述第二本征非晶硅層的厚度增加比例與所述預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)增加比例的比值為0.08-0.1。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電池制備方法,其特征在于,s63中,通入硅烷、磷烷、氫氣和二氧化碳,并在開(kāi)啟輝光的條件下反應(yīng)形成所述第二摻雜層,所述第二摻雜層的磷摻雜濃度為1e18cm-3-2e20cm-3,所述第二摻雜層的折射率為2.1-2.8。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電池制備方法,其特征在于,形成所述第二摻雜層的反應(yīng)條件為:反應(yīng)溫度為140℃-200℃,反應(yīng)壓力為100pa-1000pa,氫氣流量與硅烷流量的比值為100-500,二氧化碳流量與硅烷流量的比值為1-4。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池制備方法,其特征在于,s2包括:
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池制備方法,其特征在于,s5中,通過(guò)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積在所述硅片的背面沉積所述第一本征非晶硅層,其中,所述第一本征非晶硅層的厚度為5nm-12nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池制備方法,其特征在于,s7后,所述電池制備方法還包括:
10.一種背接觸電池,其特征在于,其通過(guò)如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的電池制備方法制得。
11.一種光伏組件,其特征在于,包括如權(quán)利要求10所述的背接觸電池。