本發(fā)明涉及直流接觸器技術(shù)領(lǐng)域，具體提供一種無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

眾所周知，要提升高壓直流接觸器的帶載切換能力，就必須解決其接觸系統(tǒng)的滅弧能力。而現(xiàn)有的直流接觸器的滅弧主要是依靠提升觸點(diǎn)的間隙和壓力來(lái)提高滅弧能力，而上述滅弧方式在高壓、大功率負(fù)載條件下的滅弧效果會(huì)比較差，造成帶載切換壽命低。而且上述滅弧方式還會(huì)造成接觸器體積較大，浪費(fèi)安裝空間。

有鑒于此，特提出本發(fā)明。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了克服上述缺陷，本發(fā)明提供了一種無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，能夠在實(shí)現(xiàn)無(wú)極性滅弧的同時(shí)，還有效縮小了器件的體積，節(jié)約了安裝空間。

本發(fā)明為了解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：一種無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，包括一滅弧腔、兩個(gè)并排布置于所述滅弧腔頂部上的靜接觸點(diǎn)和一活動(dòng)內(nèi)置于所述滅弧腔中的動(dòng)接觸片，所述動(dòng)接觸片與兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)分別沿豎向相對(duì)布置，且所述動(dòng)接觸片還分別能夠與兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)連通，或者所述動(dòng)接觸片還分別能夠與兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)斷開(kāi)；在所述靜接觸點(diǎn)的相對(duì)兩側(cè)外還各分別設(shè)置有一永磁體，兩個(gè)所述永磁體間的連線方向與兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)間的連線方向相互垂直，且兩個(gè)所述永磁體的極性相同。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述滅弧腔由陶瓷與金屬燒結(jié)密封而成；兩個(gè)所述永磁體均內(nèi)置于所述滅弧腔中。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，每一所述永磁體的上端面均高于所述靜接觸點(diǎn)的下表面；

且以所述動(dòng)接觸片與所述靜接觸點(diǎn)斷開(kāi)時(shí)的狀態(tài)為基準(zhǔn)，每一所述永磁體的下端面還均低于所述動(dòng)接觸片的上表面。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述滅弧腔由陶瓷與金屬燒結(jié)密封而成；兩個(gè)所述永磁體相對(duì)布置于所述滅弧腔的側(cè)立壁的外表面上。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，每一所述永磁體的上端面均高于所述靜接觸點(diǎn)的下表面，并同時(shí)低于所述滅弧腔的頂部；另外，以所述動(dòng)接觸片與所述靜接觸點(diǎn)斷開(kāi)時(shí)的狀態(tài)為基準(zhǔn)，每一所述永磁體的下端面還均低于所述動(dòng)接觸片的上表面。

本發(fā)明的有益效果是：①通過(guò)在所述靜接觸點(diǎn)的相對(duì)兩側(cè)外各分別設(shè)置有一永磁體，兩個(gè)所述永磁體間的連線方向與兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)間的連線方向相互垂直，且兩個(gè)所述永磁體的極性相同，能夠使得動(dòng)接觸片與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)間產(chǎn)生的電弧擴(kuò)散方向相同，并且一直保持平行狀態(tài)，從而有效地防止了動(dòng)接觸片與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)之間產(chǎn)生的電弧接觸而發(fā)生短路，實(shí)現(xiàn)了無(wú)極性滅弧。②由于該高壓直流接觸器的滅弧效果好，在較小的空間內(nèi)即可達(dá)到較好的滅弧效果，進(jìn)而可縮小器件的體積，節(jié)約安裝空間。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明所述無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的第一種實(shí)施方式的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明所述無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的第二種實(shí)施方式的分解結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3和圖4分別示出了兩種電流方向情況下，本發(fā)明所述無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的滅弧原理示意圖。

結(jié)合附圖，作以下說(shuō)明：

1——滅弧腔2——靜接觸點(diǎn)

3——?jiǎng)咏佑|片4——永磁體

5——支架

具體實(shí)施方式

下面參照?qǐng)D對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

實(shí)施例1：

請(qǐng)參閱附圖1所示，其示出了本發(fā)明所述無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的第一種實(shí)施方式的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)包括一滅弧腔1、兩個(gè)并排布置于所述滅弧腔1頂部上的靜接觸點(diǎn)2和一活動(dòng)內(nèi)置于所述滅弧腔1中的動(dòng)接觸片3，所述動(dòng)接觸片3與兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)2分別沿豎向相對(duì)布置，且所述動(dòng)接觸片3還分別能夠與兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)2連通，或者所述動(dòng)接觸片3還分別能夠與兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)2斷開(kāi)(其為公知常識(shí)，不屬于本發(fā)明的重點(diǎn)，故在此不作詳述)；特別的，在所述靜接觸點(diǎn)2的相對(duì)兩側(cè)外還各分別設(shè)置有一永磁體4，兩個(gè)所述永磁體4間的連線方向與兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)2間的連線方向相互垂直，即兩個(gè)所述永磁體的擺放方向均與兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)2間的連線方向相互平行，且兩個(gè)所述永磁體4的極性相同，即兩個(gè)所述永磁體4的極性排布為n極對(duì)n極，s極對(duì)s極。通過(guò)上述結(jié)構(gòu)創(chuàng)新，該滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)能夠使得動(dòng)接觸片與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)間產(chǎn)生的電弧擴(kuò)散方向相同，并且一直保持平行狀態(tài)，從而有效地防止了動(dòng)接觸片與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)之間產(chǎn)生的電弧接觸而發(fā)生短路，實(shí)現(xiàn)了無(wú)極性滅弧。

在本實(shí)施例1中，優(yōu)選的，所述滅弧腔1由陶瓷與金屬燒結(jié)密封而成，兩個(gè)所述永磁體4均內(nèi)置于所述滅弧腔1中，每一所述永磁體4的上端面均高于所述靜接觸點(diǎn)2的下表面，且以所述動(dòng)接觸片3與所述靜接觸點(diǎn)2斷開(kāi)時(shí)的狀態(tài)為基準(zhǔn)，每一所述永磁體4的下端面還均低于所述動(dòng)接觸片3的上表面；因此，動(dòng)接觸片與靜接觸點(diǎn)之間形成的整個(gè)電弧都會(huì)處于磁場(chǎng)中，滅弧效果好。

實(shí)施例2：

請(qǐng)參閱附圖2所示，其示出了本發(fā)明所述無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的第二種實(shí)施方式的分解結(jié)構(gòu)示意圖。實(shí)施例2所示的無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1所示的無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)大體上相似，主要區(qū)別在于：在實(shí)施例1中，兩個(gè)所述永磁體4均內(nèi)置于所述滅弧腔1中；而在實(shí)施例2中，兩個(gè)所述永磁體4通過(guò)兩個(gè)支架5相對(duì)布置于所述滅弧腔1的側(cè)立壁的外表面上。

另外，在實(shí)施例2中，進(jìn)一步優(yōu)選的，所述滅弧腔1由陶瓷與金屬燒結(jié)密封而成；每一所述永磁體4的上端面均高于所述靜接觸點(diǎn)2的下表面，并同時(shí)低于所述滅弧腔1的頂部；以所述動(dòng)接觸片3與所述靜接觸點(diǎn)2斷開(kāi)時(shí)的狀態(tài)為基準(zhǔn)，每一所述永磁體4的下端面還均低于所述動(dòng)接觸片3的上表面；因此，動(dòng)接觸片與靜接觸點(diǎn)之間形成的整個(gè)電弧都會(huì)處于磁場(chǎng)中，滅弧效果更好。

此外，本發(fā)明還對(duì)所述無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的滅弧原理進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明。附圖3和附圖4分別示出了在兩種電流方向情況下，所述無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的滅弧原理示意圖。下面將以附圖3所示為例進(jìn)行說(shuō)明：首先為了便于說(shuō)明，將兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)2的布置方式定義為沿左右方向布置，將兩個(gè)所述永磁體4的布置方式定義為沿前后方向布置。在附圖3中，兩個(gè)所述永磁體4的極性排布為n極對(duì)n極，s極對(duì)s極，磁場(chǎng)方向如圖中實(shí)線箭頭所示；左邊的靜接觸點(diǎn)為正極，右邊的靜接觸點(diǎn)為負(fù)極，電流由左邊的靜接觸點(diǎn)經(jīng)過(guò)動(dòng)接觸片，再?gòu)挠疫叺撵o接觸點(diǎn)流出(附圖4所示電流方向與附圖3正好相反)；那么，兩個(gè)所述靜接觸點(diǎn)與所述動(dòng)接觸片之間產(chǎn)生的電弧會(huì)在磁場(chǎng)力的作用下向后運(yùn)動(dòng)(圖中虛線箭頭所示)，并且一直保持平行，從而有效地防止了動(dòng)接觸片與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)之間產(chǎn)生的電弧接觸而發(fā)生短路，實(shí)現(xiàn)了無(wú)極性滅弧。

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，但并不用于限制本發(fā)明，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變型，這些改進(jìn)和變型也應(yīng)視為在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種無(wú)極性高壓直流接觸器滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，包括一滅弧腔、兩個(gè)并排布置于滅弧腔頂部上的靜接觸點(diǎn)和一活動(dòng)內(nèi)置于滅弧腔中的動(dòng)接觸片，動(dòng)接觸片與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)分別沿豎向相對(duì)布置，且動(dòng)接觸片還分別能夠與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)連通，或者動(dòng)接觸片還分別能夠與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)斷開(kāi)；在靜接觸點(diǎn)的相對(duì)兩側(cè)外還各分別設(shè)置有一永磁體，兩個(gè)永磁體間的連線方向與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)間的連線方向相互垂直，且兩個(gè)永磁體的極性相同；通過(guò)上述結(jié)構(gòu)創(chuàng)新，該滅弧系統(tǒng)結(jié)構(gòu)能夠使得動(dòng)接觸片與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)間產(chǎn)生的電弧擴(kuò)散方向相同，并且一直保持平行狀態(tài)，從而有效地防止了動(dòng)接觸片與兩個(gè)靜接觸點(diǎn)之間產(chǎn)生的電弧接觸而發(fā)生短路，實(shí)現(xiàn)了無(wú)極性滅弧。

技術(shù)研發(fā)人員：董洪江;周偉鋼;顧春朋;吳芳;潘喬旭
受保護(hù)的技術(shù)使用者：昆山國(guó)力源通新能源科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.08.15
技術(shù)公布日：2017.11.07