技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種上電極組件及反應(yīng)腔室，其包括線圈，在該線圈上設(shè)置有功率饋入點(diǎn)，該功率饋入點(diǎn)位于線圈的除端點(diǎn)之外的位置處，且線圈的端點(diǎn)接地，以將線圈自功率饋入點(diǎn)形成相互并聯(lián)的多個(gè)線圈分部。本發(fā)明提供的反應(yīng)腔室，其可以減小線圈上存在的電位分布差異，從而可以提高等離子體的分布均勻性，進(jìn)而可以提高工藝均勻性。

技術(shù)研發(fā)人員：陳鵬;徐奎;丁培軍;常大磊;姜鑫先;張璐;劉建生;蘇振寧;宋巧麗
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.07.27
技術(shù)公布日：2017.10.17