本發(fā)明涉及顯示技術(shù),特別是指一種oled顯示基板、制作方法、封裝結(jié)構(gòu)及顯示裝置。
背景技術(shù):
現(xiàn)有柔性oled封裝結(jié)構(gòu)的工藝步驟主要包括有:制備柔性基底→制作第一柵絕緣層→制作第一柵金屬層圖形→制作第二柵絕緣層→制作第二柵金屬層圖形→制作層間絕緣層→制作源漏金屬層圖形→制作平坦層→制作陽極→制作像素界定層→制作隔墊物層→制作陰極→制作封裝薄膜層,其中封裝薄膜層包括層疊設(shè)置的有機薄膜和無機薄膜,在制備有機薄膜時,是在阻擋物圍成的填充區(qū)域內(nèi)噴墨打印流變性有機材料,比如亞克力材料,流變性有機材料在填充區(qū)域內(nèi)凝固形成有機薄膜,如果流變性有機材料越過阻擋物超出填充區(qū)域,則會影響封裝薄膜層的密封性,進而影響顯示裝置的顯示效果。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種oled顯示基板、制作方法、封裝結(jié)構(gòu)及顯示裝置,能夠提高oled封裝結(jié)構(gòu)的密封性,保證顯示裝置的顯示效果。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的實施例提供技術(shù)方案如下:
一方面,提供一種oled顯示基板,包括顯示區(qū)域、設(shè)置在oled顯示基板邊緣的阻擋結(jié)構(gòu)以及位于所述顯示區(qū)域和所述阻擋結(jié)構(gòu)之間的陰極搭接區(qū),所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)的表面為凹凸不平的。
進一步地,所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)包括依次層疊的平坦層、陽極層、陰極層,所述平坦層在所述陰極搭接區(qū)的表面為凹凸不平的。
進一步地,所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)包括依次層疊的平坦層、隔墊物層、陽極層、陰極層,所述平坦層和/或所述隔墊物層在所述陰極搭接區(qū)的表面為凹凸不平的。
進一步地,所述阻擋結(jié)構(gòu)包括間隔預(yù)設(shè)距離的第一阻擋物和第二阻擋物,所述第一阻擋物與所述顯示區(qū)域的距離小于所述第二阻擋物與所述顯示區(qū)域的距離,且所述第一阻擋物的水平高度小于所述第二阻擋物的水平高度。
本發(fā)明實施例還提供了一種oled顯示基板的制作方法,所述oled顯示基板包括顯示區(qū)域、設(shè)置在oled顯示基板邊緣的阻擋結(jié)構(gòu)以及位于所述顯示區(qū)域和所述阻擋結(jié)構(gòu)之間的陰極搭接區(qū),所述制作方法包括:
將所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)的表面制作為凹凸不平的。
進一步地,所述將所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)的表面制作為凹凸不平的包括:
沉積一層有機感光材料;
利用灰色調(diào)掩膜板或半色調(diào)掩膜板對所述陰極搭接區(qū)的有機感光材料進行曝光,顯影后形成平坦層的圖形,所述平坦層在所述陰極搭接區(qū)包括有間隔設(shè)置的第一部分和第二部分,其中第一部分的平坦層的厚度大于所述第二部分的平坦層的厚度;
在所述平坦層的圖形上依次形成陽極層和陰極層,所述陽極層和所述陰極層在所述陰極搭接區(qū)的表面為凹凸不平的。
進一步地,所述將所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)的表面制作為凹凸不平的包括:
形成平坦層;
在所述平坦層上形成隔墊物層,在所述隔墊物層上涂覆光刻膠;
利用灰色調(diào)掩膜板或半色調(diào)掩膜板對光刻膠進行曝光,顯影后形成光刻膠部分保留區(qū)域、光刻膠完全保留區(qū)域和光刻膠完全去除區(qū)域;
去除光刻膠完全去除區(qū)域的隔墊物層;
去除光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠;
去除光刻膠部分保留區(qū)域的部分隔墊物層;
去除光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠,形成隔墊物層的圖形,所述隔墊物層的圖形在所述陰極搭接區(qū)包括有間隔設(shè)置的第三部分和第四部分,其中第三部分的隔墊物層的厚度大于所述第四部分的隔墊物層的厚度;
在所述隔墊物層的圖形上依次形成陽極層和陰極層,所述陽極層和所述陰極層在所述陰極搭接區(qū)的表面為凹凸不平的。
本發(fā)明實施例還提供了一種oled封裝結(jié)構(gòu),包括如上所述的oled顯示基板和覆蓋所述oled顯示基板的薄膜封裝層,所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)的朝向所述薄膜封裝層的表面為凹凸不平的。
進一步地,所述薄膜封裝層包括層疊設(shè)置的第一無機薄膜、有機薄膜和第二無機薄膜,靠近所述oled顯示基板的第一無機薄膜在所述陰極搭接區(qū)的表面為凹凸不平的。
本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置,包括如上所述的oled封裝結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的實施例具有以下有益效果:
上述方案中,oled顯示基板在陰極搭接區(qū)的表面為凹凸不平的,在對oled顯示基板進行封裝向阻擋結(jié)構(gòu)限定出的填充區(qū)域噴墨打印流變性有機材料時,這種結(jié)構(gòu)有利于降低流變性有機材料的流速,從而有助于流變性有機材料在越過阻擋結(jié)構(gòu)之前就凝固形成有機薄膜,進而提高oled封裝結(jié)構(gòu)的密封性,保證顯示裝置的顯示效果。
附圖說明
圖1為現(xiàn)有oled封裝結(jié)構(gòu)的截面示意圖;
圖2和圖3為本發(fā)明實施例oled封裝結(jié)構(gòu)的截面示意圖。
附圖標記
1柔性基底2薄膜晶體管陣列層3平坦層
4陽極層5像素界定層6陰極層
7第一無機薄膜8有機薄膜9第二無機薄膜
10隔墊物層11第一阻擋物12第二阻擋物
aoled顯示基板邊緣b陰極搭接區(qū)c顯示區(qū)域
具體實施方式
為使本發(fā)明的實施例要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結(jié)合附圖及具體實施例進行詳細描述。
圖1為現(xiàn)有oled封裝結(jié)構(gòu)的截面示意圖,如圖1所示,現(xiàn)有oled封裝結(jié)構(gòu)包括位于柔性基底1上的oled顯示器件,oled顯示器件包括薄膜晶體管陣列層2,平坦層3,陽極層4,像素界定層5和陰極層6,oled封裝結(jié)構(gòu)還包括覆蓋oled顯示器件的封裝層,封裝層包括第一無機薄膜7、有機薄膜8和第二無機薄膜9,在制備有機薄膜8時,是在隔墊物層10圍成的填充區(qū)域內(nèi)噴墨打印流變性有機材料,比如亞克力材料,流變性有機材料在填充區(qū)域內(nèi)凝固形成有機薄膜,如果流變性有機材料越過阻擋物超出填充區(qū)域,則會影響封裝薄膜層的密封性,進而影響顯示裝置的顯示效果。
本發(fā)明實施例提供一種oled顯示基板、制作方法、封裝結(jié)構(gòu)及顯示裝置,能夠提高oled封裝結(jié)構(gòu)的密封性,保證顯示裝置的顯示效果。
本發(fā)明的實施例提供一種oled顯示基板,如圖2和圖3所示,包括顯示區(qū)域c、設(shè)置在oled顯示基板邊緣a的阻擋結(jié)構(gòu)以及位于所述顯示區(qū)域c和所述阻擋結(jié)構(gòu)之間的陰極搭接區(qū)b,所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)b的表面為凹凸不平的。
本實施例中,oled顯示基板在陰極搭接區(qū)的表面為凹凸不平的,在對oled顯示基板進行封裝向阻擋結(jié)構(gòu)限定出的填充區(qū)域噴墨打印流變性有機材料時,這種結(jié)構(gòu)有利于降低流變性有機材料的流速,從而有助于流變性有機材料在越過阻擋結(jié)構(gòu)之前就凝固形成有機薄膜,進而提高oled封裝結(jié)構(gòu)的密封性,保證顯示裝置的顯示效果。
如圖2所示,一具體實施例中,所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)b包括依次層疊的平坦層3、陽極層4、陰極層6,所述平坦層3在所述陰極搭接區(qū)b的表面為凹凸不平的,進而形成在平坦層3上的陽極層4和陰極層6的表面也是凹凸不平的,最終使得所述陰極搭接區(qū)b的表面為凹凸不平的。
由于陽極層4和陰極層6的一般是采用金屬或透明導(dǎo)電層制成,厚度比較薄,因此如果將陽極層4或陰極層6做成凹凸不平的,凹凸不平的幅度(即最高處與最低處的水平高度差)也比較小,這樣降低流變性有機材料的流速的作用也非常有限,而平坦層3一般采用有機樹脂制成,厚度比較大,因此,可以將平坦層3在陰極搭接區(qū)的表面做成凹凸不平的,這樣可以有效地降低流變性有機材料的流速。
如圖3所示,另一具體實施例中,所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)b包括依次層疊的平坦層3、隔墊物層10、陽極層4、陰極層6,由于陽極層4和陰極層6的一般是采用金屬或透明導(dǎo)電層制成,厚度比較薄,因此如果將陽極層4或陰極層6做成凹凸不平的,凹凸不平的幅度也比較小,降低流變性有機材料的流速的作用也非常有限,而平坦層3一般采用有機樹脂制成,厚度比較大,因此,可以將平坦層3在陰極搭接區(qū)的表面做成凹凸不平的,這樣可以有效地降低流變性有機材料的流速。
另外,由于隔墊物層10的厚度一般也比較大,因此,還可以將隔墊物層10在陰極搭接區(qū)的表面做成凹凸不平的,這樣可以有效地降低流變性有機材料的流速。
進一步地,還可以將平坦層3和隔墊物層10在陰極搭接區(qū)b的表面都做成凹凸不平的,這樣可以更加有效地降低流變性有機材料的流速,在平坦層3和隔墊物層10在陰極搭接區(qū)b的表面都做成凹凸不平時,優(yōu)選地,平坦層3和隔墊物層10的厚度比較大的部分在柔性基底1上的正投影重合,平坦層3和隔墊物層10的厚度比較小的部分在柔性基底1上的正投影重合。
如圖2和圖3所示,與現(xiàn)有的oled封裝結(jié)構(gòu)不同,本實施例在oled顯示基板邊緣a形成有兩個間隔預(yù)設(shè)距離的第一阻擋物10和第二阻擋物11,相比于現(xiàn)有oled封裝結(jié)構(gòu)僅在oled顯示基板邊緣a形成一個阻擋物,本實施例的阻擋結(jié)構(gòu)能夠更好地阻擋流變性有機材料越過阻擋結(jié)構(gòu)。
如圖2和圖3所示,所述阻擋結(jié)構(gòu)包括間隔預(yù)設(shè)距離的第一阻擋物11和第二阻擋物12,所述第一阻擋物11與所述顯示區(qū)域c的距離小于所述第二阻擋物12與所述顯示區(qū)域c的距離,且所述第一阻擋物11的水平高度小于所述第二阻擋物12的水平高度,這樣第一阻擋物11和第二阻擋物12能夠形成階梯結(jié)構(gòu),能夠更好地阻擋流變性有機材料越過阻擋結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明實施例還提供了一種oled顯示基板的制作方法,如圖2和圖3所示,所述oled顯示基板包括顯示區(qū)域c、設(shè)置在oled顯示基板邊緣a的阻擋結(jié)構(gòu)以及位于所述顯示區(qū)域c和所述阻擋結(jié)構(gòu)之間的陰極搭接區(qū)b,所述制作方法包括:
將所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)的表面制作為凹凸不平的。
本實施例中,將oled顯示基板在陰極搭接區(qū)的表面制作為凹凸不平的,在對oled顯示基板進行封裝向阻擋結(jié)構(gòu)限定出的填充區(qū)域噴墨打印流變性有機材料時,這種結(jié)構(gòu)有利于降低流變性有機材料的流速,從而有助于流變性有機材料在越過阻擋結(jié)構(gòu)之前就凝固形成有機薄膜,進而提高oled封裝結(jié)構(gòu)的密封性,保證顯示裝置的顯示效果。
由于陽極層4和陰極層6的一般是采用金屬或透明導(dǎo)電層制成,厚度比較薄,因此如果將陽極層4或陰極層6做成凹凸不平的,凹凸不平的幅度也比較小,降低流變性有機材料的流速的作用也非常有限,而平坦層3一般采用有機樹脂制成,厚度比較大,因此,可以將平坦層3在陰極搭接區(qū)的表面做成凹凸不平的,這樣可以有效地降低流變性有機材料的流速。所述將所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)的表面制作為凹凸不平的包括:
沉積一層有機感光材料;
利用灰色調(diào)掩膜板或半色調(diào)掩膜板對所述陰極搭接區(qū)b的有機感光材料進行曝光,顯影后形成平坦層3的圖形,所述平坦層3在所述陰極搭接區(qū)包括有間隔設(shè)置的第一部分和第二部分,其中第一部分的平坦層3的厚度大于所述第二部分的平坦層3的厚度;
在所述平坦層3的圖形上依次形成陽極層4和陰極層6,所述陽極層4和所述陰極層6在所述陰極搭接區(qū)b的表面為凹凸不平的。
另外,由于隔墊物層10的厚度一般也比較大,因此,還可以將隔墊物層10在陰極搭接區(qū)的表面做成凹凸不平的,這樣可以有效地降低流變性有機材料的流速。所述將所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)的表面制作為凹凸不平的包括:
形成平坦層3;
在所述平坦層3上形成隔墊物層10,在所述隔墊物層10上涂覆光刻膠;
利用灰色調(diào)掩膜板或半色調(diào)掩膜板對光刻膠進行曝光,顯影后形成光刻膠部分保留區(qū)域、光刻膠完全保留區(qū)域和光刻膠完全去除區(qū)域;
去除光刻膠完全去除區(qū)域的隔墊物層10;
去除光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠;
去除光刻膠部分保留區(qū)域的部分隔墊物層10;
去除光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠,形成隔墊物層10的圖形,所述隔墊物層10的圖形在所述陰極搭接區(qū)b包括有間隔設(shè)置的第三部分和第四部分,其中第三部分的隔墊物層10的厚度大于所述第四部分的隔墊物層10的厚度;
在所述隔墊物層10的圖形上依次形成陽極層4和陰極層6,所述陽極層4和所述陰極層6在所述陰極搭接區(qū)b的表面為凹凸不平的。
當(dāng)然,還可以將平坦層3和隔墊物層10在陰極搭接區(qū)的表面都做成凹凸不平的,這樣可以更加有效地降低流變性有機材料的流速。在平坦層3和隔墊物層10在陰極搭接區(qū)b的表面都做成凹凸不平時,優(yōu)選地,第三部分和第一部分在柔性基底1上的正投影重合,第四部分和第三部分在柔性基底1上的正投影重合。
將平坦層3和/或隔墊物層10在陰極搭接區(qū)的表面做成凹凸不平的目的是為了使在對oled顯示器件進行封裝時,陰極搭接區(qū)的凹凸不平的表面能夠降低噴墨打印的流變性有機材料的流速,使得流變性有機材料在越過阻擋結(jié)構(gòu)之前就凝固形成有機薄膜。
本發(fā)明實施例還提供了一種oled封裝結(jié)構(gòu),包括如上所述的oled顯示基板和覆蓋所述oled顯示基板的薄膜封裝層,所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)的朝向所述薄膜封裝層的表面為凹凸不平的,這樣在對oled顯示基板進行封裝向阻擋結(jié)構(gòu)限定出的填充區(qū)域噴墨打印流變性有機材料時,這種結(jié)構(gòu)有利于降低流變性有機材料的流速,從而有助于流變性有機材料在越過阻擋結(jié)構(gòu)之前就凝固形成有機薄膜,進而提高oled封裝結(jié)構(gòu)的密封性,保證顯示裝置的顯示效果。
如圖2和圖3所示,所述薄膜封裝層包括層疊設(shè)置的第一無機薄膜7、有機薄膜8和第二無機薄膜9,靠近所述oled顯示基板的第一無機薄膜7在所述陰極搭接區(qū)的表面為凹凸不平的。
具體地,在oled顯示基板上制備第一無機薄膜7之前,將oled顯示基板在陰極搭接區(qū)b的表面制作為凹凸不平的,這樣在oled顯示基板上制備第一無機薄膜7之后,形成在oled顯示基板上的第一無機薄膜7的表面也自然為凹凸不平的,在第一無機薄膜7上噴墨打印流變性有機材料制備有機薄膜8時,第一無機薄膜7凹凸不平的表面有利于降低流變性有機材料的流速,從而有助于流變性有機材料在越過阻擋結(jié)構(gòu)之前就凝固形成有機薄膜,進而提高oled封裝結(jié)構(gòu)的密封性,保證顯示裝置的顯示效果。
如圖2所示,一具體實施例中,所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)b包括依次層疊的平坦層3、陽極層4、陰極層6,由于陽極層4和陰極層6的一般是采用金屬或透明導(dǎo)電層制成,厚度比較薄,因此如果將陽極層4或陰極層6做成凹凸不平的,凹凸不平的幅度也比較有限,而平坦層3一般采用有機樹脂制成,厚度比較大,因此,可以將平坦層3在陰極搭接區(qū)的表面做成凹凸不平的,進而形成在平坦層3上的陽極層4、陰極層6和第一無機薄膜7的表面也是凹凸不平的,最終使得在噴墨打印流變性有機材料時,所述陰極搭接區(qū)b的表面為凹凸不平的。
如圖3所示,所述oled顯示基板在所述陰極搭接區(qū)b包括依次層疊的平坦層3、隔墊物層10、陽極層4、陰極層6,由于隔墊物層10的厚度一般也比較大,因此,還可以將隔墊物層10在陰極搭接區(qū)b的表面做成凹凸不平的,這樣也可以有效地降低流變性有機材料的流速。
進一步地,還可以將平坦層3和隔墊物層10在陰極搭接區(qū)b的表面都做成凹凸不平的,這樣可以更加有效地降低流變性有機材料的流速。
本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置,包括如上所述的oled封裝結(jié)構(gòu)。所述顯示裝置可以為:電視、顯示器、數(shù)碼相框、手機、平板電腦等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件,其中,所述顯示裝置還包括柔性電路板、印刷電路板和背板。
除非另外定義,本公開使用的技術(shù)術(shù)語或者科學(xué)術(shù)語應(yīng)當(dāng)為本發(fā)明所屬領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性,而只是用來區(qū)分不同的組成部分?!鞍ā被蛘摺鞍钡阮愃频脑~語意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“連接”或者“相連”等類似的詞語并非限定于物理的或者機械的連接,而是可以包括電性的連接,不管是直接的還是間接的?!吧稀?、“下”、“左”、“右”等僅用于表示相對位置關(guān)系,當(dāng)被描述對象的絕對位置改變后,則該相對位置關(guān)系也可能相應(yīng)地改變。
可以理解,當(dāng)諸如層、膜、區(qū)域或基板之類的元件被稱作位于另一元件“上”或“下”時,該元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”,或者可以存在中間元件。
以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下,還可以作出若干改進和潤飾,這些改進和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護范圍。