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一種復(fù)合電極電子陶瓷元件的制造工藝的制作方法

文檔序號(hào):12888692閱讀:216來源:國知局

本發(fā)明涉及電子元器件的技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種復(fù)合電極電子陶瓷元件的制造工藝。



背景技術(shù):

電子陶瓷的電子性能要通過與其瓷體緊密附貼的金屬電極才能顯現(xiàn)出來,一般稱為內(nèi)電極。目前業(yè)內(nèi)傳統(tǒng)做法是使用銀粉制成銀漿,再用絲網(wǎng)印刷在瓷體表面,然后通過高溫還原(通常500℃以上)成內(nèi)電極。該方法主要缺點(diǎn)是:銀材料成本高。

部分企業(yè)嘗試將賤金屬如銅漿作為絲網(wǎng)印刷的導(dǎo)電漿料,但是都要在還原氣氛條件下燒結(jié),設(shè)備昂貴,且由于在高溫還原氣氛條件下,對(duì)瓷片也有特別要求,應(yīng)用難以推廣。

部分企業(yè)嘗試將賤金屬電弧真空磁控濺射的方法做內(nèi)電極,由于真空濺射每次只能覆蓋薄簿一層,需要多次才能達(dá)到厚度要求,效率低下,設(shè)備昂貴,應(yīng)用難以推廣。而本發(fā)明的磁控濺射的方法做內(nèi)電極,是在瓷片表面涂覆賤金屬漿料的基礎(chǔ)上,再進(jìn)行濺射,只是功能是焊接導(dǎo)體,過大電流沖擊的導(dǎo)電功能主要由瓷片表面涂覆賤金屬承擔(dān)。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種低成本、性能更佳的一種復(fù)合電極電子陶瓷元件的制造工藝。

為達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:該工藝包括以下步驟:

(1)制備陶瓷芯片;

(2)瓷片表面處理,進(jìn)行清洗和烘干;

(3)采用傳統(tǒng)絲網(wǎng)印刷的方式在瓷片表面涂覆賤金屬漿料;

(4)經(jīng)過450-850c高溫還原,形成步驟3的第一層賤金屬與瓷體緊密接觸的涂層電極;在空氣中燒結(jié);

(5)采用電弧噴涂/電弧真空磁控濺射的方法在上述涂層表面進(jìn)行第二層賤金屬涂覆,使電子元器件瓷體具有與導(dǎo)體焊接的功能;

作為優(yōu)選的,上述步驟(3)涂覆的賤金屬漿料,是鋁漿、鋅漿或銅漿賤金屬漿料。

作為優(yōu)選的,上述步驟(5)所用材料為cu、鋅、不銹鋼、ti、鎳、錫中的任意一種或者其合金賤金屬。

完成以上工序陶瓷芯片的內(nèi)電極,直接與導(dǎo)線焊接,在經(jīng)過包封、固化后制成品,應(yīng)用于電子設(shè)備。

完成以上工序的壓敏電阻瓷片、熱敏電阻瓷片、電容器瓷片,直接與導(dǎo)線焊接,在經(jīng)過包封、固化后制成品,應(yīng)用于電子設(shè)備。

完成以上工序的壓敏電阻瓷片、熱敏電阻瓷片、電容器瓷片,直接做成貼片元件,應(yīng)用于電子設(shè)備。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于

1.采用絲網(wǎng)印刷在基材表面進(jìn)行印刷的均用賤金屬漿料,制造成本低;

2.賤金屬涂覆過程分為兩次,在基材表面形成兩層次的涂層,第一次涂覆的賤金屬較厚,通電能力強(qiáng),解決現(xiàn)有技術(shù)中貴金屬如銀,刷厚了成本高的難題,第二層涂層滿足引線可焊性,可以使用電弧噴涂、電弧真空磁控濺射等方法進(jìn)行加工,滿足焊接引線的要求;

3.由于第一層印刷漿料較厚,產(chǎn)品電性能提高,電流通過等能力明顯提高。

具體實(shí)施方式

實(shí)施一:

制備壓敏電阻瓷片(基材)后,放入滾筒中旋轉(zhuǎn)約10分鐘,取出,用自來水對(duì)瓷片表面進(jìn)行清洗,然后烘干,采用絲網(wǎng)印刷的方式在瓷片表面涂覆賤金屬漿料,形成步驟3的第一層賤金屬與瓷體緊密接觸的涂層;再采用電弧噴涂的方法在瓷片表面進(jìn)行第二層賤金屬涂覆,使電子元器件具有與導(dǎo)線焊接的功能;然后使用傳統(tǒng)銀漿還原工藝。絲網(wǎng)印刷使用漿料為鋁漿。內(nèi)電極制作完成后,經(jīng)焊接、包封、固化后的成品,各項(xiàng)指標(biāo)均符合gb/t10193、gb/t10194,也就是iec61051-1、iec61051-2的要求。同時(shí)也滿足gb/t18802.1、gb/t18802.331也就是iec61643-1、iec61643-331的標(biāo)準(zhǔn)要求,達(dá)到了國際較高水平。

實(shí)施二:

制備的熱敏電阻瓷片(基材)后,放入滾筒中旋轉(zhuǎn)約5分鐘,取出,用自來水對(duì)瓷片表面進(jìn)行清洗,然后烘干,采用絲網(wǎng)印刷的方式在瓷片表面涂覆賤金屬漿料,形成步驟3的第一層賤金屬與瓷體緊密接觸的涂層,這個(gè)過程不需要提供還原氣氛;接著再采用電弧真空磁控濺射的方法在瓷片表面進(jìn)行第二層賤金屬涂覆,使電子元器件具有與導(dǎo)線焊接的功能。絲網(wǎng)印刷使用漿料為鋅,內(nèi)電極制作完成后,經(jīng)焊接、包封、固化后的成品,測試各項(xiàng)指標(biāo)符合jb/t9476《熱敏電阻通用技術(shù)條件》標(biāo)準(zhǔn)要求。隨后直接做成貼片元件,應(yīng)用于電子設(shè)備。

實(shí)施三:

制備電容器瓷片后,用放入滾筒中旋轉(zhuǎn)約15分鐘,取出,用自來水對(duì)瓷片表面進(jìn)行清洗,然后烘干,采用絲網(wǎng)印刷的方式在瓷片表面涂覆賤金屬漿料,形成步驟3的第一層賤金屬與瓷體緊密接觸的涂層;再采用絲網(wǎng)印刷的方法在瓷片表面進(jìn)行第二層賤金屬涂覆,使電子元器件具有與導(dǎo)線焊接的功能,絲網(wǎng)印刷使用漿料為鋅漿賤金屬材料。內(nèi)電極制作完成后,經(jīng)焊接、包封、固化后的成品,電容器指標(biāo)符合各項(xiàng)國際標(biāo)準(zhǔn)。

當(dāng)然,以上僅為本發(fā)明較佳實(shí)施方式,并非以此限定本發(fā)明的使用范圍,故,凡是在本發(fā)明原理上做等效改變均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及電子元器件的技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種復(fù)合電極電子陶瓷元件的制造工藝,其包括以下步驟:制備陶瓷芯片;瓷片表面處理,進(jìn)行清洗和烘干;采用傳統(tǒng)絲網(wǎng)印刷的方式在瓷片表面涂覆賤金屬漿料,用傳統(tǒng)的高溫還原工藝,形成第一層與瓷體緊密接觸的涂層電極;采用電弧噴涂或電弧真空磁控濺射的方法在上述涂層表面進(jìn)行第二層賤金屬涂覆,目的使電子元器件具有與導(dǎo)線焊接的功能,滿足成品電子元件制作要求。由于兩層材料均用賤金屬漿料,制造成本低。

技術(shù)研發(fā)人員:席萬選;林生
受保護(hù)的技術(shù)使用者:揭陽空港經(jīng)濟(jì)區(qū)弘新電子有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.05.16
技術(shù)公布日:2017.11.07
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