技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種提高ECR離子源中氫分子離子比例系統(tǒng)及其方法。本發(fā)明采用放電室內(nèi)襯套裝在放電室內(nèi)，放電室內(nèi)襯的材料采用高復(fù)合系數(shù)材料，其中鉭材料為首次在該類型的離子源中作為內(nèi)襯使用來提高H2+離子比例；通過進氣口向放電室中通入純氫氣；微波系統(tǒng)將微波通過微波窗傳輸至放電室內(nèi)；磁體提供軸向共振場；微波與放電室中的氫氣作用產(chǎn)生等離子體，同時，氫原子在放電室內(nèi)襯的高復(fù)合系數(shù)材料表面發(fā)生復(fù)合作用，形成大量氫分子，使得放電室內(nèi)的氫分子含量升高，等離子體中氫原子含量減少，從而使得H+比例降低，H2+離子比例升高；H2+離子流強可以達到40mA，H2+離子的比例可以達到50％；系統(tǒng)運行的穩(wěn)定性高，壽命長。

技術(shù)研發(fā)人員：彭士香;徐源;任海濤;張艾霖;張?zhí)?張景豐;溫佳美;武文斌
受保護的技術(shù)使用者：北京大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.11
技術(shù)公布日：2017.09.22