本發(fā)明涉及一種新型碳材料,特別是一種提高碳電容性能的方法。
背景技術(shù):
超級(jí)電容器,又稱電化學(xué)電容器,是一種介于常規(guī)電容器與二次電池之間的新型儲(chǔ)能器件。在保留傳統(tǒng)電容器超長(zhǎng)循環(huán)特性的基礎(chǔ)上,大幅度提高了其比容量同時(shí)更彌補(bǔ)了電池功率特性差的缺點(diǎn),為電能替代化石燃料作為大功率設(shè)備的能源起到了不可替代的作用。開發(fā)成本低、電化學(xué)儲(chǔ)能性能良好、環(huán)境友好的電極材料對(duì)于超級(jí)電容器的商品化具有重要意義,例如電動(dòng)汽車,噴氣飛機(jī)的安全門,脈沖激光,起重機(jī)及消費(fèi)電子等。
碳化物衍生碳(carbide-derivedcarbon,簡(jiǎn)稱cdc)是近年來(lái)備受關(guān)注的一種新型碳材料。它是以碳化物的晶格為模板,通過(guò)逐層蝕刻金屬原子,從分子水平上來(lái)控制其制備過(guò)程的多孔碳材料。在碳化物衍生碳形成過(guò)程中,碳化物中的金屬原子通過(guò)與反應(yīng)氣體如氯原子結(jié)合形成金屬氯化物(高溫氣態(tài))而被去除掉,余下的碳原子之間相互成鍵從而形成新的“三維骨架狀”結(jié)構(gòu),具有發(fā)達(dá)并且單一的孔結(jié)構(gòu)。該特點(diǎn)預(yù)示碳化物衍生碳在超級(jí)電容器領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用潛力。然而,碳化物衍生碳比電容值偏低的問(wèn)題一直制約著其作為超級(jí)電容器電極材料的發(fā)展。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的是提供一種方法簡(jiǎn)單、設(shè)備簡(jiǎn)易、成本低、在不會(huì)影響其它電化學(xué)指標(biāo)的前提下使其比電容值得到明顯的提升的在不會(huì)影響其他電化學(xué)指標(biāo)的前提下使其比電容值得到明顯的提升的提高碳化物衍生碳超級(jí)電容器性能的方法。本發(fā)明主要是采用由硝酸(hno3)和氫氟酸(hf)配置成的混酸溶液浸泡處理碳化物衍生碳來(lái)實(shí)現(xiàn)的。
本發(fā)明的方法如下:
按摩爾比例
所述碳化物衍生碳為不同溫度鹵化制得的碳化物衍生碳或者再經(jīng)koh活化處理的碳化物衍生碳。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下優(yōu)點(diǎn):
1、制備方法簡(jiǎn)單、設(shè)備簡(jiǎn)易、成本低,并且選用的試劑可循環(huán)利用。
2、經(jīng)過(guò)本發(fā)明處理后的碳化物衍生碳,在明顯提高比電容值的前提下,仍能保持良好的雙電層特性、功率特性以及循環(huán)穩(wěn)定性,表現(xiàn)出優(yōu)異的超級(jí)電容性能,經(jīng)過(guò)處理的碳化物衍生碳比未經(jīng)過(guò)處理的碳化物衍生碳比電容值提高了55-238%。
3、經(jīng)過(guò)本發(fā)明處理后的碳化物衍生碳,不會(huì)產(chǎn)生明顯的質(zhì)量損失,提高了碳化物衍生碳的利用率,節(jié)約了成本。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明實(shí)例1碳化物衍生碳浸泡處理前后在不同掃描速度下比電容變化對(duì)比圖。
圖2是本發(fā)明實(shí)例1碳化物衍生碳浸泡處理后在5mv/s~500mv/s掃描速度下的循環(huán)伏安曲線。
圖3是本發(fā)明實(shí)例1碳化物衍生碳浸泡處理后在50mv/s掃描速度下的循環(huán)穩(wěn)定性圖。
圖4是本發(fā)明實(shí)例1碳化物衍生碳處理浸泡前后的質(zhì)量變化百分比圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1
以粒徑約為2μm的碳化鈦(tic)為反應(yīng)前軀體,采用高溫鹵化法,在800℃下與氯氣反應(yīng)1小時(shí)后獲得碳化鈦衍生碳(tic-cdc-800),然后,將所制得的tic-cdc-800置于配制好的hno3和hf混酸溶液
對(duì)處理后的tic-cdc-800比容量的測(cè)量:采用常規(guī)的三電極體系,氧化汞電極為參比電極,金屬鉑為參比電極,經(jīng)過(guò)混酸處理的tic-cdc-800為工作電極,電解液為6mkoh溶液。測(cè)量結(jié)果如附圖1所示,可以看出:在5mv/s的掃描速度下,經(jīng)過(guò)處理的tic-cdc-800電極材料的循環(huán)伏安曲線保持了良好的矩形,在浸泡240小時(shí)的比電容值達(dá)到236f/g,與未浸泡的碳化鈦衍生碳的比電容值140f/g相比有了明顯的提高,并且保持了良好的循環(huán)特性。
在圖2所示的在不同掃描速度下處理前后的比電容變化情況,可以明顯看出經(jīng)過(guò)處理,tic-cdc-800的比電容值明顯提升,并且如圖3所示,在50mv/s掃描速度下循環(huán)穩(wěn)定性情況中在8000次的充放電過(guò)程中沒(méi)有出現(xiàn)明顯的衰減,表現(xiàn)出優(yōu)異的超級(jí)電容性能。
在圖4所示的經(jīng)過(guò)處理前后的質(zhì)量變化百分比變化情況,質(zhì)量損失僅為原始質(zhì)量的2%,與其它處理方法(koh活化,co2活化等物理化學(xué)處理)相比沒(méi)有出現(xiàn)明顯的質(zhì)量損失。
實(shí)施例2
以粒徑約為50nm的碳化鈦(tic)為反應(yīng)前軀體,采用高溫鹵化法,在600℃下與氯氣反應(yīng)1小時(shí)后獲得碳化鈦衍生碳(tic-cdc-600)。然后,將所制得的tic-cdc-600置于配制好的hno3和hf混酸溶液
按實(shí)施例1的方法測(cè)量,在5mv/s掃描速度下,經(jīng)過(guò)處理的tic-cdc-600電極材料的比電容值為281f/g,而未處理的碳化鈦衍生碳的比電容值為83f/g,經(jīng)過(guò)處理后的碳化鈦衍生碳的比電容值得到了明顯的提升,并且保持了良好的雙電層結(jié)構(gòu),在500mv/s的高掃描速度下,處理的tic-cdc-600的比電容值仍能保持在168f/g,表現(xiàn)出優(yōu)異的超級(jí)電容性能。同時(shí)質(zhì)量損失僅為原始質(zhì)量的4%。
實(shí)施例3
以粒徑約為60nm的碳化硅(sic)為反應(yīng)前軀體,采用高溫鹵化法,在800℃下與氯氣反應(yīng)1小時(shí)后獲得碳化硅衍生碳(sic-cdc-800),然后,將所制得的sic-cdc-800,置于配制好的hno3和hf混酸溶液
按實(shí)施例1的方法測(cè)量,在5mv/s掃描速度下,其比電容值增至219f/g,而未處理的碳化硅衍生碳的比電容值為141f/g,經(jīng)處理的sic-cdc-800電極材料的比電容值得到明顯上升。并且保持了良好的雙電層結(jié)構(gòu),在500mv/s的高掃描速度下經(jīng)過(guò)處理的sic-cdc-800的比電容值仍能保持在129f/g,表現(xiàn)出優(yōu)異的超級(jí)電容性能。同時(shí)質(zhì)量損失保持在原始質(zhì)量的5%以內(nèi)。
實(shí)施例4
以粒徑約為60nm的碳化硅(sic)為反應(yīng)前軀體,采用高溫鹵化法,在800℃下與氯氣反應(yīng)1小時(shí)后獲得碳化硅衍生碳(sic-cdc),之后,將制備出的sic-cdc與koh按質(zhì)量比1:3混合均勻在800℃活化反應(yīng)1小時(shí),得到活化后的sic-cdc-k,然后,將所制得的sic-cdc-k置于配制好的hno3和hf混酸溶液
按實(shí)施例1的方法測(cè)量,在5mv/s掃描速度下,經(jīng)過(guò)處理的sic-cdc-k電極材料的比電容值升至256f/g,而未處理的sic-cdc-k的比電容為153f/g,經(jīng)過(guò)處理后的sic-cdc-k的比電容得到了明顯的提升。在500mv/s的高掃描速度下經(jīng)過(guò)處理的sic-cdc-k的比電容值仍能保持在156f/g,表現(xiàn)出優(yōu)異的超級(jí)電容性能。同時(shí)質(zhì)量損失保持在原始質(zhì)量的6%以內(nèi)。
實(shí)施例5
以粒徑約為2μm的碳化鈮(nbc)為反應(yīng)前軀體,采用高溫鹵化法,在600℃下與氯氣反應(yīng)1小時(shí)后獲得碳化鈮衍生碳(nbc-cdc-600),然后,將所制得的nbc-cdc-600置于配置好的hno3和hf混酸溶液
按實(shí)施例1的方法測(cè)量,在5mv/s掃描速度下,經(jīng)過(guò)處理的nbc-cdc-600電極材料的比電容值升至264f/g,而未處理的nbc-cdc-600的比電容值為156f/g,經(jīng)過(guò)處理后的nbc-cdc-600的比電容得到了明顯的提升。在500mv/s的高掃描速度下經(jīng)過(guò)處理的nbc-cdc-600的比電容值仍能保持在129f/g,表現(xiàn)出優(yōu)異的超級(jí)電容性能。同時(shí)質(zhì)量損失保持在原始質(zhì)量的5%以內(nèi)。