本發(fā)明涉及平板顯示技術領域，特別涉及一種陣列基板及其制造方法和有機發(fā)光顯示器。

背景技術：

有機發(fā)光顯示器(英文全稱Organic Lighting Emitting Display，簡稱OLED)是一種主動發(fā)光器件，相比薄膜晶體管液晶顯示器件(英文全稱Thin Film Transistor liquid crystal display，簡稱TFT-LCD)，OLED具有高對比度、廣視角、低功耗、體積更薄等優(yōu)點，是目前平板顯示技術中受到關注最多的技術之一。

有機發(fā)光顯示器通常包括相對設置的陣列基板和封裝蓋板，陣列基板和封裝蓋板之間存在一定厚度的空隙，為了避免使用過程中陣列基板和封裝蓋板因受力不均而造成變形，在陣列基板上一般設置有用于支撐封裝蓋板的支撐柱。

請參考圖1，其為現(xiàn)有技術的有機發(fā)光顯示器的剖視圖。如圖1所示，所述有機發(fā)光顯示器包括：相對設置的陣列基板110和封裝蓋板120；所述陣列基板110包括：襯底111，形成于所述襯底111上的有機發(fā)光器件112，設置在相鄰的有機發(fā)光器件112之間的像素定義層113，以及形成在所述像素定義層113之上的支撐柱114(例如是SPC層)，所述支撐柱114用于支撐所述封裝蓋板120。

請參考圖2，其為現(xiàn)有技術的陣列基板的俯視圖。如圖2所示，所述有機發(fā)光器件112(包括紅色子像素R、綠色子像素G和藍色子像素B)均位于像素開口區(qū)內(nèi)，所述支撐柱114位于像素開口區(qū)之外。

然而，在實際制造和使用過程中發(fā)現(xiàn)，所述支撐柱114受外力沖擊時非常容易發(fā)生脫落和位置偏移，一旦脫落就無法起到支撐作用，會造成顯示不均問題，位置偏移后則會對開口區(qū)造成遮擋，產(chǎn)生黑斑不良。

基此，如何解決現(xiàn)有的陣列基板的支撐柱受外力時容易脫落以及位置偏移的問題，成了本領域技術人員亟待解決的一個技術問題。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種陣列基板及其制造方法和有機發(fā)光顯示器，以解決現(xiàn)有的陣列基板的支撐柱在受外力后容易脫落以及位置偏移的問題。

為解決上述技術問題，本發(fā)明提供一種陣列基板，所述陣列基板包括：襯底、形成于所述襯底上的有機發(fā)光器件、設置在相鄰的有機發(fā)光器件之間的像素定義層、以及形成在所述像素定義層上的支撐柱，所述支撐柱的縱截面為弧形面。

可選的，在所述的陣列基板中，所述支撐柱為矩形環(huán)狀結構，所述矩形環(huán)狀結構的四條邊的縱截面均為弧形面。

可選的，在所述的陣列基板中，所述支撐柱為“L”形結構，所述“L”形結構的兩條邊的縱截面均為弧形面。

可選的，在所述的陣列基板中，所述支撐柱為半球形結構。

相應的，本發(fā)明還提供一種陣列基板的制造方法，所述陣列基板的制造方法包括：

提供一襯底；

在所述襯底上依次形成有機發(fā)光器件和像素定義層；以及

在所述像素定義層上形成支撐柱，所述支撐柱的縱截面為弧形面。

可選的，在所述的陣列基板的制造方法中，所述支撐柱為矩形環(huán)狀結構、“L”形結構或半球形結構。

相應的，本發(fā)明還提供一種有機發(fā)光顯示器，所述有機發(fā)光顯示器包括：相對設置的陣列基板和封裝蓋板；所述陣列基板包括：襯底，形成于所述襯底上的有機發(fā)光器件，設置在相鄰的有機發(fā)光器件之間的像素定義層，以及形成在所述像素定義層上的支撐柱，所述支撐柱的縱截面為弧形面。

可選的，在所述的有機發(fā)光顯示器中，所述支撐柱為矩形環(huán)狀結構，所述矩形環(huán)狀結構的四條邊的縱截面均為弧形面。

可選的，在所述的有機發(fā)光顯示器中，所述支撐柱為“L”形結構，所述“L”形結構的兩條邊的縱截面均為弧形面。

可選的，在所述的有機發(fā)光顯示器中，所述支撐柱為半球形結構。

在本發(fā)明提供的陣列基板及其制造方法和有機發(fā)光顯示器中，通過將支撐柱的縱截面設計為弧形面，以對外界沖擊力進行逐級緩沖，從而提升顯示器屏體的抗沖擊能力，避免所述支撐柱出現(xiàn)脫落或者位置偏移現(xiàn)象。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有技術的有機發(fā)光顯示器的剖視圖；

圖2是現(xiàn)有技術的有機發(fā)光顯示器的陣列基板的俯視圖；

圖3是本發(fā)明實施例一的陣列基板的剖視圖；

圖4是本發(fā)明實施例一的陣列基板的俯視圖；

圖5是圖4中陣列基板沿A1-A1’線的剖面示意圖；

圖6是本發(fā)明實施例一的有機發(fā)光顯示器的剖視圖；

圖7是本發(fā)明實施例二的陣列基板的俯視圖；

圖8是圖7中陣列基板沿A2-A2’線的剖面示意圖；

圖9是本發(fā)明實施例三的陣列基板的俯視圖；

圖10是圖9中陣列基板沿A3-A3’線的剖面示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖和具體實施例對本發(fā)明提出的陣列基板及其制造方法和有機發(fā)光顯示器作進一步詳細說明。根據(jù)下面說明和權利要求書，本發(fā)明的優(yōu)點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發(fā)明實施例的目的。

【實施例一】

請參考圖3，其為本發(fā)明實施例一的陣列基板的剖視圖。如圖3所示，所述陣列基板210包括：襯底211，形成于所述襯底211上的有機發(fā)光器件212，設置在相鄰的有機發(fā)光器件212之間的像素定義層213，以及形成在所述像素定義層213上的支撐柱214，所述支撐柱214的縱截面(垂直于襯底211表面的截面)為弧形面。

具體的，請結合參考圖3至圖5，所述陣列基板210的有機發(fā)光器件212(包括紅色子像素R、綠色子像素G和藍色子像素B)均位于像素開口區(qū)內(nèi)，所述支撐柱214位于像素開口區(qū)外，所述支撐柱214為矩形環(huán)狀結構，所述矩形環(huán)狀結構包括四條邊，所述四條邊的縱截面均為弧形面。

相應的，本實施例還提供了一種陣列基板的制造方法。請繼續(xù)參考圖3，所述陣列基板的制造方法包括：

步驟一：提供一襯底211；

步驟二：在所述襯底211上依次形成有機發(fā)光器件212和像素定義層213；

步驟三：在所述像素定義層213上形成支撐柱214，所述支撐柱214的縱截面(垂直于襯底211表面的截面)為弧形面。

相應的，本實施例還提供了一種有機發(fā)光顯示器。請參考圖6，其為本發(fā)明實施例一的有機發(fā)光顯示器的剖視圖。如圖6所示，所述有機發(fā)光顯示器包括：相對設置的陣列基板210和封裝蓋板220；所述陣列基板210包括：襯底211，形成于所述襯底211上的有機發(fā)光器件212，設置在相鄰的有機發(fā)光器件212之間的像素定義層213，以及形成在所述像素定義層213上的支撐柱214，所述支撐柱214的縱截面(垂直于襯底211表面的截面)為弧形面。

本實施例中，所述支撐柱214采用矩形環(huán)狀結構，且所述支撐柱214的縱截面為弧形面，因此能夠減少與封裝蓋板220的接觸面積，對沖擊力形成逐級緩沖，避免所述支撐柱214在受外力時發(fā)生脫落或者出現(xiàn)位置偏移問題。

【實施例二】

請結合參考圖7和圖8，其為本發(fā)明實施例二的陣列基板的結構示意圖，如圖7和圖8所示，所述陣列基板210包括：襯底211，形成于所述襯底211上的有機發(fā)光器件212，設置在相鄰的有機發(fā)光器件212之間的像素定義層213，以及形成在所述像素定義層213上的支撐柱214(SPC層)，所述支撐柱214的縱截面(垂直于襯底211表面的截面)均為弧形面。

具體的，如圖7和圖8所示，所述陣列基板210的有機發(fā)光器件212(包括紅色子像素R、綠色子像素G和藍色子像素B)均位于開口區(qū)，所述支撐柱214位于遮光區(qū)，所述支撐柱214為“L”形結構，所述“L”形結構的兩條邊的縱截面均為弧形面。

本實施例中，所述支撐柱214的縱截面為弧形面，因此能夠減少與封裝蓋板220的接觸面積，對沖擊力形成逐級緩沖，避免所述支撐柱214在受外力時發(fā)生脫落或者出現(xiàn)位置偏移問題。

本實施例與實施例一不同之處在于，所述支撐柱214采用“L”形結構，“L”形結構能夠增加所述支撐柱214與所述像素定義層213的接觸穩(wěn)固性，降低所述支撐柱214與所述像素定義層213相對位置滑動的幾率，從而減少黑斑不良的產(chǎn)生。

【實施例三】

請結合參考圖9和圖10，其為本發(fā)明實施例三的陣列基板的結構示意圖，如圖9和圖10所示，所述陣列基板210包括：襯底211，形成于所述襯底211上的有機發(fā)光器件212，設置在相鄰的有機發(fā)光器件212之間的像素定義層213，以及形成在所述像素定義層213上的支撐柱214(SPC層)，所述支撐柱214的縱截面(垂直于襯底表面的截面)均為弧形面。

具體的，如圖9和圖10所示，所述陣列基板210的有機發(fā)光器件212(包括紅色子像素R、綠色子像素G和藍色子像素B)均位于開口區(qū)，所述支撐柱214位于遮光區(qū)，所述支撐柱214為半球形結構，所述半球形結構的縱截面為弧形面。

本實施例與實施例一不同之處在于，所述支撐柱214為半球形結構。因此能夠減少與封裝蓋板220的接觸面積，對沖擊力形成逐級緩沖，避免所述支撐柱214在受外力時發(fā)生脫落或者出現(xiàn)位置偏移問題。其中，所述半球形結構的直徑可根據(jù)屏體抗沖擊力的要求進行調(diào)節(jié)。

優(yōu)選方案中，所述半球形結構的支撐柱214均勻分布于所述像素定義層213上。但應理解，半球形結構的支撐柱214也可以雜亂(非均勻)分布于所述像素定義層213上。。半球形結構的支撐柱214的位置排布在此不做限定，只要將受到的沖擊力均勻分布于屏體即可。

在其他實施例中，所述支撐柱214可采用其他結構，例如半橢球形、“T”形結構、或者上述結構的任意組合等，只要其縱截面為弧形面，能夠對外界沖擊力進行逐級緩沖即可。

綜上，在本發(fā)明實施例提供的陣列基板及其制造方法和有機發(fā)光顯示器中，通過將支撐柱的縱截面設計為弧形面，以對外界沖擊力進行逐級緩沖，從而提升顯示器屏體的抗沖擊能力，避免所述支撐柱出現(xiàn)脫落或者位置偏移現(xiàn)象。

需要說明的是，本說明書中各個實施例采用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。對于實施例公開的陣列基板的制造方法和有機發(fā)光顯示器而言，由于與實施例公開的陣列基板相對應，所以實施例二和實施例三中雖未對陣列基板的制造方法和有機發(fā)光顯示器進行描述，但相關之處參見相應實施例中的陣列基板以及實施例一的陣列基板的制造方法和有機發(fā)光顯示器的部分說明即可。

上述描述僅是對本發(fā)明較佳實施例的描述，并非對本發(fā)明范圍的任何限定，本發(fā)明領域的普通技術人員根據(jù)上述揭示內(nèi)容做的任何變更、修飾，均屬于權利要求書的保護范圍。