技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種激光濺射團(tuán)簇離子源，包括：離子源主體、脈沖閥、樣品靶固定桿、進(jìn)光螺釘、樣品靶、噴嘴、密封片，還包括密封件，所述密封件位于樣品靶固定桿和離子源主體之間，用于密封所述樣品靶固定桿和所述離子源主體的樣品靶孔之間的間隙，使得激光濺射團(tuán)簇離子源的密封性更好，從而避免激光濺射產(chǎn)生的等離子體泄露，以及等離子體與載氣的有效碰撞降低，進(jìn)而提高團(tuán)簇離子的產(chǎn)生效率，增強離子信號。

技術(shù)研發(fā)人員：張寒輝;邱秉林;汪蕾;周曉國;劉世林
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)
文檔號碼：201710114780
技術(shù)研發(fā)日：2017.02.28
技術(shù)公布日：2017.06.06