技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本揭露提供一種基于等離子體的制程機(jī)臺(tái)，包含外殼與氣體分布板。外殼界定出處理室且包含用以接收處理氣體的氣體入口。氣體分布板設(shè)置于處理室中且用以在處理室內(nèi)分布處理氣體。氣體分布板包含延伸貫穿氣體分布板的多個(gè)孔洞，且更包含這些孔洞被分組而成的多個(gè)區(qū)塊。這些區(qū)塊包含第一區(qū)塊和第二區(qū)塊。第一區(qū)塊的孔洞具有第一剖面。第二區(qū)塊的孔洞具有不同于第一剖面的第二剖面。

技術(shù)研發(fā)人員：孟慶豪;陳智圣;周銀銅;詹熾樺;黃琳清;江煜培
受保護(hù)的技術(shù)使用者：臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.01.26
技術(shù)公布日：2017.11.03