1.用于制備高靈敏度寬譜帶光敏電阻的光敏材料，其特征在于，所述光敏材料由高靈敏度寬譜帶光敏溶液噴涂在光敏電阻的陶瓷基體的表面形成，所述高靈敏度寬譜帶光敏溶液包括混合物和離子水，所述混合物由以下重量百分比的各組分組成：
CdTe 27%-47%，CdSe 25%-45%，CdCl 17%-37%，余量為稀土硝酸鹽；
將混合物溶解在離子水中得到高靈敏度寬譜帶光敏材料溶液，所述光敏材料溶液中混合物與離子水的質(zhì)量百分比為，混合物25%-45%，離子水55%-75%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制備高靈敏度寬譜帶光敏電阻的光敏材料，其特征在于，所述稀土硝酸鹽為硝酸鋱、硝酸鏑、硝酸鈥、硝酸鉺、硝酸銩、硝酸鐿或硝酸镥中的任一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制備高靈敏度寬譜帶光敏電阻的光敏材料，其特征在于，所述各組分的重量百分比CdTe為37%，CdSe 35%，CdCl 27%，稀土硝酸鹽1%；
所述光敏材料溶液中混合物與離子水的質(zhì)量百分比為，混合物35%，離子水65%。
4.制備高靈敏度寬譜帶光敏電阻的方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟1：制備陶瓷基體；
步驟2：配置高靈敏度寬譜帶光敏溶液；
步驟3：將高靈敏度寬譜帶光敏溶液噴涂在陶瓷基體的表面，形成高靈敏度寬譜帶光敏材料層；
步驟4：將步驟3噴涂后的陶瓷基體靜置10-30分鐘后，放入900℃-1100℃恒溫烘箱中烘烤10-30分鐘；
步驟5：將兩個電極安裝在步驟4形成的高靈敏度寬譜帶光敏材料層兩端，得到高靈敏度寬譜帶光敏電阻主體；
步驟6：在高靈敏度寬譜帶電阻主體表面噴涂隔離層，得到高靈敏度寬譜帶光敏電阻。
5.根據(jù)權(quán)利4所述的制備高靈敏度寬譜帶光敏電阻的方法，其特征在于，步驟2中，所述高靈敏度寬譜帶光敏溶液，包括混合物和離子水，所述混合物由以下重量百分比的各組分組成：
CdTe 27%-47%，CdSe 25%-45%，CdCl 17%-37%，余量為稀土硝酸鹽；
將混合物溶解在離子水中得到高靈敏度寬譜帶光敏材料溶液，所述光敏材料溶液中混合物與離子水的質(zhì)量百分比為，混合物25%-45%，離子水55%-75%。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備高靈敏度寬譜帶光敏電阻的方法，其特征在于，步驟4具體為，將步驟3噴涂后的陶瓷基體靜置20分鐘后，放入1000℃恒溫烘箱中烘烤20分鐘。
7.根據(jù)權(quán)利要求4-6任一項所述的制備高靈敏度寬譜帶光敏電阻的方法，其特征在于，所述陶瓷基體由純度為90%以上的三氧化二鋁材料制成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備高靈敏度寬譜帶光敏電阻的方法，其特征在于，步驟3具體為，將步驟S2所得的高靈敏度寬譜帶光敏材料溶液噴涂在陶瓷基體表面，噴涂5次，所述高靈敏度寬譜帶光敏材料層厚度為4微米。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備高靈敏度寬譜帶光敏電阻的方法，其特征在于，步驟6具體為，利用環(huán)氧樹脂在光敏電阻主體表面，形成隔離層，所述隔離層厚度為4微米。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備高靈敏度寬譜帶光敏電阻的方法，其特征在于，所述各組分的重量百分比CdTe為37%，CdSe 35%，CdCl 27%，稀土硝酸鹽1%；
所述光敏材料溶液中混合物與離子水的質(zhì)量百分比為，混合物35%，離子水65%。