本實用新型涉及超導體線圈技術(shù)領域，具體涉及一種用于保護磁共振超導磁體線圈的結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

磁共振成像(MRI)是利用生物體的磁性核(主要是氫核)在磁場中所表現(xiàn)出的核磁共振特性來進行成像的高新技術(shù)。磁共振成像(MRI)設備主要由主磁體、掃描床、梯度線圈、射頻線圈、譜儀系統(tǒng)、控制柜、人機對話的操作臺、計算機和圖像處理器等構(gòu)成。主磁體是MRI設備的主要構(gòu)成部分，用于產(chǎn)生均勻靜磁場，它決定著MRI設備的圖像質(zhì)量和工作效率。同時，主磁體也是MRI設備中制造成本最大，運行費用最高的部分。MRI對磁場的強度、均勻度和穩(wěn)定度有嚴格要求，這三項是主磁體最重要的指標。相對永磁體來說，超導磁體是強度、均勻度和穩(wěn)定度都更高的磁場，所以可以用來獲取更加清晰的圖像。

對于磁共振成像儀來說，其最重要的元件之一為磁共振成像超導線圈，對磁共振成像超導線圈超導線的固定及保護至關重要，一般情況下我們會選擇在超導線圈繞制完畢后再加繞幾層不銹鋼絲，以達到固定超導線圈的作用。然而在纏繞過程中由于不銹鋼絲的作用力直接作用在超導線上，一旦受力不均勻會出現(xiàn)局部超導線損壞的情況；同時超導線在后期的浸樹脂工藝也會受到不銹鋼絲的影響。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

對于現(xiàn)有技術(shù)中所存在的問題，本實用新型提供的一種用于保護磁共振超導磁體線圈的結(jié)構(gòu)，采用在繞制不銹鋼絲之前，線圈之后鋪一層帶孔銅板，使不銹鋼絲的作用力直接作用于帶孔銅板上，而不至于劃傷超導線。另外銅板密排一些通孔，利于浸樹脂時樹脂順利流入線圈內(nèi)，從而能更好的對超導線圈起到固定作用。

為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案如下：一種用于保護磁共振超導磁體線圈的結(jié)構(gòu)，包括超導線圈，所述超導線圈外圍繞有隔板，所述隔板外圍繞有不銹鋼絲。

作為優(yōu)選的技術(shù)方案，所述隔板設為銅板。

作為優(yōu)選的技術(shù)方案，所述銅板上密排一層通孔。

作為優(yōu)選的技術(shù)方案，所述銅板上密排的通孔的尺寸與位置和超導線圈上的線槽尺寸一致。

作為優(yōu)選的技術(shù)方案，所述銅板圍繞超導線圈一周，且搭接處留有2-3mm的縫隙。

作為優(yōu)選的技術(shù)方案，所述銅板上密排的通孔內(nèi)填充樹脂，所述銅板搭接處留有2-3mm的縫隙內(nèi)填充樹脂。

該實用新型的有益之處在于：

1.在繞制不銹鋼絲之前，超導線圈外圍繞一隔板，使不銹鋼絲的作用力直接作用于隔板上，避免了超導線的劃傷。

2.隔板采用銅板，其價格實惠，導熱性能好，且具有一定的塑形。

3.銅板上密排一層通孔有利于后期浸樹脂時樹脂順利通過并能更好的對超導線圈起到固定作用。

4.本實用新型結(jié)構(gòu)簡單、性能穩(wěn)定。

附圖說明

圖1為一種用于保護磁共振超導磁體線圈的結(jié)構(gòu)的示意圖；

圖2為一種用于保護磁共振超導磁體線圈的結(jié)構(gòu)的隔板示意圖。

圖中：1-不銹鋼絲、2-隔板、3-超導線圈、4-通孔。

具體實施方式

為了便于本領域技術(shù)人員理解，下面結(jié)合附圖對本實用新型作進一步的說明。

如圖1所示，一種用于保護磁共振超導磁體線圈的結(jié)構(gòu)，包括超導線圈3，所述超導線圈3外圍繞有隔板2，所述隔板2優(yōu)選為散熱效果好，且具有一定柔性的材料，鋪于超導線圈3之后，用于保護超導線圈3，所述隔板2外圍繞有不銹鋼絲1，所述不銹鋼絲1用于捆扎，所述不銹鋼絲1的作用力通過所述隔板2作用于超導線圈3上，防止了用不銹鋼絲1的作用力直接作用于超導線圈3上造成的超導線圈3受力不均勻而導致的局部超導線圈3損壞。

作為一種優(yōu)選的材料，所述隔板2設為銅板，不僅因為價格實惠，而且因為導熱性好，當?shù)蜏叵履骋痪植奎c發(fā)熱時，此結(jié)構(gòu)能夠迅速將熱量分散于此銅板各處，有效加速熱量的消化。

如圖2所示，所述銅板上密排一層通孔4，所述通孔4以及銅板周邊使用前要確保無毛刺，所述通孔4不僅減輕了本身的重量，其散熱效果也得到了提升，最重要的是密排的通孔4有利于后期浸樹脂時樹脂順利通過，更好的利于超導線圈3的固定。

所述銅板上密排的通孔4的尺寸與位置和超導線圈3上的線槽尺寸一致，這樣同樣有利于后期的樹脂順利通過。

所述銅板圍繞超導線圈3一周，且搭接處留有2-3mm的縫隙，其作用與密排通孔4相同，利于后期浸樹脂時樹脂順利通過。

應當理解，這些實施例的用途僅用于說明本實用新型而非意欲限制本實用新型的保護范圍。此外，也應理解，在閱讀了本實用新型的技術(shù)內(nèi)容之后，本領域技術(shù)人員可以對本實用新型做各種改動、修改和/或變型，所有的這些等價形式同樣落于本申請所附權(quán)利要求書所限定的保護范圍之內(nèi)。