本公開涉及終端技術領域，尤其涉及一種顯示基板、一種顯示基板的制作方法和一種電子設備。

背景技術：

隨著觸控功能的應用越來越廣泛，用于識別觸控操作的觸控電極的結構也越來越多樣化，以便設置在顯示裝置的不同位置。但是目前的多數(shù)觸控電極仍然獨立于顯示裝置制作，與顯示裝置的集成度較低，導致工藝流程較為繁瑣，產品占用空間較大。

技術實現(xiàn)要素：

本公開提供一種顯示基板及其制作方法和電子設備，以解決相關技術中的不足。

根據(jù)本公開實施例的第一方面，提供一種顯示基板，包括：

基底；

薄膜晶體管，形成在所述基底的一側；

有機發(fā)光層，形成在所述薄膜晶體管遠離所述基底的一側；

觸控電極層，形成在所述有機發(fā)光層中。

可選地，所述有機發(fā)光層包括：

陽極層，形成在所述薄膜晶體管遠離所述基底的一側；

空穴注入層，形成在所述陽極層遠離所述薄膜晶體管的一側；

空穴傳輸層，形成在所述空穴注入層遠離所述陽極層的一側；

有機材料層，形成在所述空穴傳輸層遠離所述空穴注入層的一側；

電子傳輸層，形成在所述有機材料層遠離所述空穴傳輸層的一側；

電子注入層，形成在所述電子傳輸層遠離所述有機材料層的一側；

陰極層，形成在所述電子注入層遠離所述電子傳輸層的一側。

陽極層，所述觸控電極層形成在所述陽極層和空穴注入層之間，或所述空穴注入層和空穴傳輸層之間，或所述空穴傳輸層和有機材料層之間，或所述有機材料層和電子傳輸層之間，或所述電子傳輸層和電子注入層之間，或所述電子注入層和陰極層之間。

可選地，上述顯示基板還包括：

絕緣層，設置在所述觸控電極層和與其相鄰的層結構之間。

可選地，所述觸控電極層為自感式電容。

根據(jù)本公開實施例的第二方面，提供一種顯示基板制作方法，包括：

在基底上形成薄膜晶體管；

在所述薄膜晶體管遠離所述基底的一側形成有機發(fā)光層；

其中，在形成所述有機發(fā)光層時，在所述有機發(fā)光層中形成觸控電極層。

可選地，在所述薄膜晶體管遠離所述基底的一側形成有機發(fā)光層包括：

在所述薄膜晶體管遠離所述基底的一側形成陽極層；

在所述陽極層遠離所述薄膜晶體管的一側形成空穴注入層；

在所述空穴注入層遠離所述陽極層的一側形成空穴傳輸層；

在所述空穴傳輸層遠離所述空穴注入層的一側形成有機材料層；

在所述有機材料層遠離所述空穴傳輸層的一側形成電子傳輸層；

在所述電子傳輸層遠離所述有機材料層的一側形成電子注入層；

在所述電子注入層遠離所述電子傳輸層的一側形成陰極層。

可選地，在所述有機發(fā)光層中形成觸控電極層包括：

在所述陽極層和空穴注入層之間形成所述觸控電極層；

或在所述空穴注入層和空穴傳輸層之間形成所述觸控電極層；

或在所述空穴傳輸層和有機材料層之間形成所述觸控電極層；

或在所述有機材料層和電子傳輸層之間形成所述觸控電極層；

或在所述電子傳輸層和電子注入層之間形成所述觸控電極層；

或在所述電子注入層和陰極層之間形成所述觸控電極層。

可選地，上述制作方法還包括：

在所述觸控電極層和與其相鄰的層結構之間形成絕緣層。

可選地，所述觸控電極層為自感式電容。

根據(jù)本公開實施例的第三方面，提供一種電子設備，包括：

處理器；

用于存儲處理器可執(zhí)行指令的存儲器；

其中，所述電子設備還包括顯示基板，所述顯示基板包括：

基底；

薄膜晶體管，形成在所述基底的一側；

有機發(fā)光層，形成在所述薄膜晶體管遠離所述基底的一側；

觸控電極層，形成在所述有機發(fā)光層中。

本公開的實施例提供的技術方案可以包括以下有益效果：

由上述實施例可知，本公開通過將觸控電極層形成在有機發(fā)光層中，可以提高顯示基板的集成度，并且由于有機發(fā)光層的面積可以設置的較大，甚至可以設置在薄膜晶體管的正上方，從而在其中形成觸控電極層，便于將觸控電極層也設置的較大，進而感應更大范圍內的觸控信號。

應當理解的是，以上的一般描述和后文的細節(jié)描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本公開。

附圖說明

此處的附圖被并入說明書中并構成本說明書的一部分，示出了符合本公開的實施例，并與說明書一起用于解釋本公開的原理。

圖1是根據(jù)一示例性實施例示出的一種顯示基板的結構示意圖。

圖2是根據(jù)一示例性實施例示出的一種有機發(fā)光層的結構示意圖。

圖3是根據(jù)一示例性實施例示出的另一種有機發(fā)光層的結構示意圖。

圖4是根據(jù)一示例性實施例示出的一種顯示基板制作方法的示意流程圖。

圖5是根據(jù)一示例性實施例示出的另一種顯示基板制作方法的示意流程圖。

圖6是根據(jù)一示例性實施例示出的又一種顯示基板制作方法的示意流程圖。

圖7是根據(jù)一示例性實施例示出的一種顯示裝置的結構示意圖。

具體實施方式

這里將詳細地對示例性實施例進行說明，其示例表示在附圖中。下面的描述涉及附圖時，除非另有表示，不同附圖中的相同數(shù)字表示相同或相似的要素。以下示例性實施例中所描述的實施方式并不代表與本公開相一致的所有實施方式。相反，它們僅是與如所附權利要求書中所詳述的、本公開的一些方面相一致的裝置和方法的例子。

圖1是根據(jù)一示例性實施例示出的一種顯示基板的結構示意圖，如圖1所示，顯示基板包括：

基底1。

在一個實施例中，基底的材料可以是玻璃。而在該顯示基板適用于柔性顯示裝置時，那么基底的材料可以柔性樹脂。

薄膜晶體管2，形成在所述基底1的一側。

在一個實施例中，如圖2所示，薄膜晶體管2可以包括柵極21、有源層22、源極23和漏極24等結構，在柵極21和有源層22之間還可以設置有柵絕緣層5。

有機發(fā)光層3，形成在所述薄膜晶體管2遠離所述基底1的一側。

在一個實施例中，有機發(fā)光層形成在薄膜晶體遠離基底的一側是指有機發(fā)光層是在形成薄膜晶體管之后形成的，在有機發(fā)光層3與薄膜晶體管2之間可以設置有鈍化層6，有機發(fā)光層3通過鈍化層6中的過孔與薄膜晶體管電連接。其中，可以通過圖案化工藝形成薄膜晶體管，可以通過蒸鍍工藝形成有機發(fā)光層。

需要說明的是，圖1中有機發(fā)光層與薄膜晶體管的尺寸和位置關系僅是一種示意，可以根據(jù)需要進行調整，例如增大有機發(fā)光層的面積，以使薄膜晶體管的上方也存在有機發(fā)光層。并且在有機發(fā)光層構成的子像素和子像素之間還可以設置有像素界定層，對此，本公開不再贅述。

觸控電極層4，形成在所述有機發(fā)光層3中。

在一個實施例中，有機發(fā)光層可以包括多層結構，而觸控電極層則可以形成在其中相鄰的兩層結構之間。其中，觸控電極層可以通過圖案化工藝形成，并且在顯示基板中形成有與觸控電極層電連接的布線，在此不再贅述。

在一個實施例中，通過將觸控電極層形成在有機發(fā)光層中，可以提高顯示基板的集成度，并且由于有機發(fā)光層的面積可以設置的較大，甚至可以設置在薄膜晶體管的正上方，從而在其中形成觸控電極層，便于將觸控電極層也設置的較大，進而感應更大范圍內的觸控信號。

圖2是根據(jù)一示例性實施例示出的一種有機發(fā)光層的結構示意圖，所述有機發(fā)光層包括：

陽極層31，形成在所述薄膜晶體管2遠離所述基底1的一側；

空穴注入層32，形成在所述陽極層31遠離所述薄膜晶體管2的一側；

空穴傳輸層33，形成在所述空穴注入層32遠離所述陽極層31的一側；

有機材料層34，形成在所述空穴傳輸層33遠離所述空穴注入層32的一側；

電子傳輸層35，形成在所述有機材料層34遠離所述空穴傳輸層33的一側；

電子注入層36，形成在所述電子傳輸層35遠離所述有機材料層34的一側；

陰極層37，形成在所述電子注入層36遠離所述電子傳輸層35的一側。

可選地，所述觸控電極層形成在所述陽極層和空穴注入層之間，或所述空穴注入層和空穴傳輸層之間，或所述空穴傳輸層和有機材料層之間，或所述有機材料層和電子傳輸層之間，或所述電子傳輸層和電子注入層之間，或所述電子注入層和陰極層之間。

在一個實施例中，如圖2所示，觸控電極層4可以設置在空穴注入層32和空穴傳輸層33之間，觸控電極層的具體位置可以根據(jù)需要進行設置。其中，可以為陽極層通以正電壓，為陰極層通以負電壓，從而形成陽極層到陰極層的電流，來自陰極層的電子依次通過電子注入層、電子傳輸層、有機材料層、空穴傳輸層、空穴注入層到達陽極層，并在經過有機材料層時激發(fā)其中的有機材料發(fā)光。

在一個實施例中，所有子像素中的有機材料層在受到激發(fā)時發(fā)出白光，那么與該顯示基板對應設置的基板中需要設置彩色濾光片，例如紅色濾光片、綠色濾光片和藍色濾光片，以使在不同顏色的濾光片對應的子像素射出的光為不同的顏色，進而可以通過調整子像素的出光強度來改變對應像素的出光顏色。

在一個實施例中，不同子像素中的有機材料層在受到激發(fā)時發(fā)出不同顏色的光，例如可以分別發(fā)出紅光、綠光和藍光，以使在不同的子像素射出的光為不同顏色，進而可以通過調整子像素的出光強度來改變對應像素的出光顏色。

在一個實施例中，若顯示基板應用于底發(fā)射結構的顯示裝置中，那么可以通過透明導電材料形成陽極，并通過反射率較高的導電材料形成陰極，以使光線能夠從底部射出。若顯示基板應用于頂發(fā)射結構的顯示裝置中，那么可以通過透明導電材料形成陰極，并通過反射率較高的導電材料形成陽極，以使光線能夠從頂部射出。其中，透明導電材料可以是ITO(氧化銦錫)，反射率較高的導電材料則可以是鋁、銀等金屬。

圖3是根據(jù)一示例性實施例示出的另一種有機發(fā)光層的結構示意圖，還包括：

絕緣層7，設置在所述觸控電極層4和與其相鄰的層結構之間。

在一個實施例中，例如在圖2所示的基礎上，絕緣層可以設置在觸控電極層4和空穴注入層32之間，以及觸控電極層4和空穴傳輸層33之間。由于有機發(fā)光層中的各層結構中存在由陰極層至陽極層方向的電子流，并且在與觸控電極層相鄰的層結構中，電子可能存在滯留的情況，從而影響觸控電極層產生的觸控信號，通過在觸控電極層和與其相鄰的層結構之間設置絕緣層，可以降低觸控電極層受到其他層結構的影響，從而提高觸控電極感應觸控操作的準確度。

可選地，所述觸控電極層為自感式電容。

在一個實施例中，當用戶接觸上述顯示基板所在的顯示裝置時，陰極層會位于手指和觸控電極層之間，從而對觸控電極層感應生成的觸控信號產生屏蔽作用，而自感式電容感應觸控操作生成的觸控信號強度較大，更有利于得到準確的觸控結果。

與前述的顯示基板的實施例相對應，本公開還提供了顯示基板制作方法的實施例。

圖4是根據(jù)一示例性實施例示出的一種顯示基板制作方法的示意流程圖，如圖4所示，該制作方法包括：

在步驟S41中，在基底上形成薄膜晶體管；

在步驟S42中，在所述薄膜晶體管遠離所述基底的一側形成有機發(fā)光層；

在步驟S43中，在形成所述有機發(fā)光層時，在所述有機發(fā)光層中形成觸控電極層。

圖5是根據(jù)一示例性實施例示出的另一種顯示基板制作方法的示意流程圖，在圖4所示實施例的基礎上，在所述薄膜晶體管遠離所述基底的一側形成有機發(fā)光層包括：

在步驟S421中，在所述薄膜晶體管遠離所述基底的一側形成陽極層；

在步驟S422中，在所述陽極層遠離所述薄膜晶體管的一側形成空穴注入層；

在步驟S423中，在所述空穴注入層遠離所述陽極層的一側形成空穴傳輸層；

在步驟S424中，在所述空穴傳輸層遠離所述空穴注入層的一側形成有機材料層；

在步驟S425中，在所述有機材料層遠離所述空穴傳輸層的一側形成電子傳輸層；

在步驟S426中，在所述電子傳輸層遠離所述有機材料層的一側形成電子注入層；

在步驟S427中，在所述電子注入層遠離所述電子傳輸層的一側形成陰極層。

可選地，在所述有機發(fā)光層中形成觸控電極層包括：

在所述陽極層和空穴注入層之間形成所述觸控電極層；

或在所述空穴注入層和空穴傳輸層之間形成所述觸控電極層；

或在所述空穴傳輸層和有機材料層之間形成所述觸控電極層；

或在所述有機材料層和電子傳輸層之間形成所述觸控電極層；

或在所述電子傳輸層和電子注入層之間形成所述觸控電極層；

或在所述電子注入層和陰極層之間形成所述觸控電極層。

圖6是根據(jù)一示例性實施例示出的又一種顯示基板制作方法的示意流程圖，在圖5所示實施例的基礎上，上述制作方法還包括：

在步驟S44中，在所述觸控電極層和與其相鄰的層結構之間形成絕緣層。

需要說明的是，上述制作方法中的步驟可以根據(jù)需要調整執(zhí)行順序，例如步驟S43可以在步驟S422和步驟S423之間執(zhí)行，而步驟S44可以在步驟S422與步驟S44之間，以及步驟S423與步驟S44之間執(zhí)行。

可選地，所述觸控電極層為自感式電容。

關于上述實施例中的制作方法，其中各個步驟的具體方式已經在相關顯示基板的實施例中進行了詳細描述，此處將不做詳細闡述說明。

圖7是根據(jù)一示例性實施例示出的一種顯示裝置700的框圖。例如，裝置700可以是移動電話，計算機，數(shù)字廣播終端，消息收發(fā)設備，游戲控制臺，平板設備，醫(yī)療設備，健身設備，個人數(shù)字助理等。

參照圖7，裝置700可以包括以下一個或多個組件：處理組件702，存儲器704，電源組件706，多媒體組件708，音頻組件710，輸入/輸出(I/O)的接口712，傳感器組件714，以及通信組件716。

處理組件702通?？刂蒲b置700的整體操作，諸如與顯示，電話呼叫，數(shù)據(jù)通信，相機操作和記錄操作相關聯(lián)的操作。處理組件702可以包括一個或多個處理器720來執(zhí)行指令。此外，處理組件702可以包括一個或多個模塊，便于處理組件702和其他組件之間的交互。例如，處理組件702可以包括多媒體模塊，以方便多媒體組件708和處理組件702之間的交互。

存儲器704被配置為存儲各種類型的數(shù)據(jù)以支持在裝置700的操作。這些數(shù)據(jù)的示例包括用于在裝置700上操作的任何應用程序或方法的指令，聯(lián)系人數(shù)據(jù)，電話簿數(shù)據(jù)，消息，圖片，視頻等。存儲器704可以由任何類型的易失性或非易失性存儲設備或者它們的組合實現(xiàn)，如靜態(tài)隨機存取存儲器(SRAM)，電可擦除可編程只讀存儲器(EEPROM)，可擦除可編程只讀存儲器(EPROM)，可編程只讀存儲器(PROM)，只讀存儲器(ROM)，磁存儲器，快閃存儲器，磁盤或光盤。

電源組件706為裝置700的各種組件提供電力。電源組件706可以包括電源管理系統(tǒng)，一個或多個電源，及其他與為裝置700生成、管理和分配電力相關聯(lián)的組件。

多媒體組件708包括在所述裝置700和用戶之間的提供一個輸出接口的屏幕。在一些實施例中，屏幕可以包括液晶顯示器(LCD)和觸摸面板(TP)。如果屏幕包括觸摸面板，屏幕可以被實現(xiàn)為觸摸屏，以接收來自用戶的輸入信號。觸摸面板包括一個或多個觸摸傳感器以感測觸摸、滑動和觸摸面板上的手勢。所述觸摸傳感器可以不僅感測觸摸或滑動動作的邊界，而且還檢測與所述觸摸或滑動操作相關的持續(xù)時間和壓力。在一些實施例中，多媒體組件708包括一個前置攝像頭和/或后置攝像頭。當裝置700處于操作模式，如拍攝模式或視頻模式時，前置攝像頭和/或后置攝像頭可以接收外部的多媒體數(shù)據(jù)。每個前置攝像頭和后置攝像頭可以是一個固定的光學透鏡系統(tǒng)或具有焦距和光學變焦能力。

音頻組件710被配置為輸出和/或輸入音頻信號。例如，音頻組件710包括一個麥克風(MIC)，當裝置700處于操作模式，如呼叫模式、記錄模式和語音識別模式時，麥克風被配置為接收外部音頻信號。所接收的音頻信號可以被進一步存儲在存儲器704或經由通信組件716發(fā)送。在一些實施例中，音頻組件710還包括一個揚聲器，用于輸出音頻信號。

I/O接口712為處理組件702和外圍接口模塊之間提供接口，上述外圍接口模塊可以是鍵盤，點擊輪，按鈕等。這些按鈕可包括但不限于：主頁按鈕、音量按鈕、啟動按鈕和鎖定按鈕。

傳感器組件714包括一個或多個傳感器，用于為裝置700提供各個方面的狀態(tài)評估。例如，傳感器組件714可以檢測到裝置700的打開/關閉狀態(tài)，組件的相對定位，例如所述組件為裝置700的顯示器和小鍵盤，傳感器組件714還可以檢測裝置700或裝置700一個組件的位置改變，用戶與裝置700接觸的存在或不存在，裝置700方位或加速/減速和裝置700的溫度變化。傳感器組件714可以包括接近傳感器，被配置用來在沒有任何的物理接觸時檢測附近物體的存在。傳感器組件714還可以包括光傳感器，如CMOS或CCD圖像傳感器，用于在成像應用中使用。在一些實施例中，該傳感器組件714還可以包括加速度傳感器，陀螺儀傳感器，磁傳感器，壓力傳感器或溫度傳感器。

通信組件716被配置為便于裝置700和其他設備之間有線或無線方式的通信。裝置700可以接入基于通信標準的無線網絡，如WiFi，2G或3G，或它們的組合。在一個示例性實施例中，通信組件716經由廣播信道接收來自外部廣播管理系統(tǒng)的廣播信號或廣播相關信息。在一個示例性實施例中，所述通信組件716還包括近場通信(NFC)模塊，以促進短程通信。例如，在NFC模塊可基于射頻識別(RFID)技術，紅外數(shù)據(jù)協(xié)會(IrDA)技術，超寬帶(UWB)技術，藍牙(BT)技術和其他技術來實現(xiàn)。

在示例性實施例中，裝置700可以被一個或多個應用專用集成電路(ASIC)、數(shù)字信號處理器(DSP)、數(shù)字信號處理設備(DSPD)、可編程邏輯器件(PLD)、現(xiàn)場可編程門陣列(FPGA)、控制器、微控制器、微處理器或其他電子元件實現(xiàn)。

在示例性實施例中，還提供了一種包括指令的非臨時性計算機可讀存儲介質，例如包括指令的存儲器704，上述指令可由裝置700的處理器720執(zhí)行。例如，所述非臨時性計算機可讀存儲介質可以是ROM、隨機存取存儲器(RAM)、CD-ROM、磁帶、軟盤和光數(shù)據(jù)存儲設備等。

本領域技術人員在考慮說明書及實踐這里公開的公開后，將容易想到本公開的其它實施方案。本申請旨在涵蓋本公開的任何變型、用途或者適應性變化，這些變型、用途或者適應性變化遵循本公開的一般性原理并包括本公開未公開的本技術領域中的公知常識或慣用技術手段。說明書和實施例僅被視為示例性的，本公開的真正范圍和精神由下面的權利要求指出。

應當理解的是，本公開并不局限于上面已經描述并在附圖中示出的精確結構，并且可以在不脫離其范圍進行各種修改和改變。本公開的范圍僅由所附的權利要求來限制。