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頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩、頂發(fā)射AMOLED頂電極及頂發(fā)射AMOLED的制作方法

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頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩、頂發(fā)射AMOLED頂電極及頂發(fā)射AMOLED的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩、頂發(fā)射AMOLED頂電極及頂發(fā)射AMOLED。



背景技術(shù):

有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)顯示器,也稱為有機(jī)電致發(fā)光顯示器,是一種新興的平板顯示裝置,由于其具有制備工藝簡(jiǎn)單、成本低、功耗低、發(fā)光亮度高、工作溫度適應(yīng)范圍廣、體積輕薄、響應(yīng)速度快,而且易于實(shí)現(xiàn)彩色顯示和大屏幕顯示、易于實(shí)現(xiàn)和集成電路驅(qū)動(dòng)器相匹配、易于實(shí)現(xiàn)柔性顯示等優(yōu)點(diǎn),因而具有廣闊的應(yīng)用前景。

OLED通常包括:基板、設(shè)于基板上的陽(yáng)極、設(shè)于陽(yáng)極上的空穴注入層、設(shè)于空穴注入層上的空穴傳輸層、設(shè)于空穴傳輸層上的發(fā)光層、設(shè)于發(fā)光層上的電子傳輸層、設(shè)于電子傳輸層上的電子注入層、及設(shè)于電子注入層上的陰極。OLED顯示器件的發(fā)光原理為半導(dǎo)體材料和有機(jī)發(fā)光材料在電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)下,通過(guò)載流子注入和復(fù)合導(dǎo)致發(fā)光。具體的,OLED器件通常采用ITO像素電極和金屬電極分別作為器件的陽(yáng)極和陰極,在一定電壓驅(qū)動(dòng)下,電子和空穴分別從陰極和陽(yáng)極注入到電子傳輸層和空穴傳輸層,電子和空穴分別經(jīng)過(guò)電子傳輸層和空穴傳輸層遷移到發(fā)光層,并在發(fā)光層中相遇,形成激子并使發(fā)光分子激發(fā),后者經(jīng)過(guò)輻射弛豫而發(fā)出可見(jiàn)光。

OLED按照驅(qū)動(dòng)方式可以分為無(wú)源矩陣型OLED(Passive Matrix OLED,PMOLED)和有源矩陣型OLED(Active Matrix OLED,AMOLED)兩大類,即直接尋址和薄膜晶體管矩陣尋址兩類。其中,AMOLED具有呈陣列式排布的像素,屬于主動(dòng)顯示類型,發(fā)光效能高,通常用作高清晰度的大尺寸顯示裝置。

通常AMOLED產(chǎn)品的制備方法為:將OLED器件直接制備在TFT(薄膜晶體管)背板上得到;對(duì)于頂發(fā)射AMOLED來(lái)說(shuō),由于其出光方向與TFT背板不在同一側(cè),因此可獲得更高的開(kāi)口率從而制備出高分辨率的AMOLED產(chǎn)品。在頂發(fā)射AMOLED器件中,透明頂電極(陰極)的材質(zhì)及制備工藝對(duì)產(chǎn)品的品質(zhì)影響巨大,透明金屬薄膜以其高透過(guò)率及高導(dǎo)電性成為目前業(yè)內(nèi)最為常用的頂電極。實(shí)際生產(chǎn)中通過(guò)全開(kāi)口的光罩來(lái)在顯示面板頂部制備整面的透明導(dǎo)電膜,此種方法雖然能獲得導(dǎo)電率較高的頂電極,但是由于該頂電極的出光效率較低且微共振腔效應(yīng)強(qiáng),容易影響產(chǎn)品品質(zhì)。

圖1為現(xiàn)有的頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖1所示,該光罩包括支撐框架100、以及設(shè)于所述支撐框架100內(nèi)部且與其固定連接的掩膜片200,所述掩膜片200上設(shè)有數(shù)個(gè)開(kāi)口區(qū)域210,采用該光罩對(duì)一金屬薄膜進(jìn)行光刻時(shí),所述金屬薄膜上分別與所述數(shù)個(gè)開(kāi)口區(qū)域210對(duì)應(yīng)的區(qū)域形成間隔設(shè)置的數(shù)塊頂電極,該數(shù)塊頂電極分別為數(shù)個(gè)顯示面板的頂電極。這種由整塊電極構(gòu)成的頂電極透光率低,從而使含有該頂電極的AMOLED器件效率低且容易產(chǎn)生視角色偏。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩,結(jié)構(gòu)獨(dú)特,采用該光罩制得的頂發(fā)射AMOLED頂電極透光率高。

本發(fā)明的目的在于提供一種頂發(fā)射AMOLED頂電極,透光率高,可有效改善視角色偏并提升器件效率。

本發(fā)明的目的在于提供一種頂發(fā)射AMOLED,含有上述頂發(fā)射AMOLED頂電極,可有效改善視角色偏并提升器件效率。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩,包括支撐框架、設(shè)于所述支撐框架內(nèi)部且與其固定連接的掩膜片、設(shè)于所述掩膜片上的數(shù)個(gè)開(kāi)口區(qū)域、以及設(shè)于每個(gè)開(kāi)口區(qū)域中且間隔平行排列的數(shù)個(gè)遮光條,其中,每個(gè)開(kāi)口區(qū)域中的數(shù)個(gè)遮光條的兩端均與所述掩膜片相連接。

所述掩膜片的形狀為矩形;所述開(kāi)口區(qū)域的形狀為矩形;所述掩膜片上設(shè)有四個(gè)開(kāi)口區(qū)域,所述四個(gè)開(kāi)口區(qū)域在所述掩膜片上呈矩陣分布。

每個(gè)開(kāi)口區(qū)域中,所述數(shù)個(gè)遮光條的寬度相等,所述數(shù)個(gè)遮光條之間的狹縫的寬度相等。

所述遮光條的寬度為10μm~30μm,相鄰兩個(gè)遮光條之間的狹縫的寬度為10μm~30μm。

所述支撐框架的材料為不銹鋼或者因瓦合金。

所述掩膜片與遮光條一體成型;所述掩膜片與遮光條的材料均為因瓦合金。

本發(fā)明還提供一種頂發(fā)射AMOLED頂電極,包括間隔平行排列的數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層。

所述數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層的寬度相等,所述數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層之間的狹縫的寬度相等。

所述條形導(dǎo)電膜層的寬度為10μm~30μm,相鄰兩個(gè)條形導(dǎo)電膜層之間的狹縫的寬度為10μm~30μm。

本發(fā)明還提供一種頂發(fā)射AMOLED,包括TFT基板、設(shè)于TFT基板上的底電極、設(shè)于底電極上的發(fā)光層、及設(shè)于發(fā)光層上的頂電極;所述頂電極為上述頂發(fā)射AMOLED頂電極。

本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明提供的一種頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩,包括具有數(shù)個(gè)開(kāi)口區(qū)域的掩膜片,且每個(gè)開(kāi)口區(qū)域中設(shè)有間隔平行排列的數(shù)個(gè)遮光條,采用該光罩制得的頂發(fā)射AMOLED頂電極包括間隔平行排列的數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層,由于數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層之間設(shè)有數(shù)個(gè)狹縫,且狹縫處的透光率高,因此,與傳統(tǒng)的整塊頂電極相比,本發(fā)明的頂發(fā)射AMOLED頂電極的透光率高,在增強(qiáng)整個(gè)頂電極的透光率的同時(shí)降低了整個(gè)頂電極的反射率,可有效改善視角色偏并提升器件效率。本發(fā)明提供的一種頂發(fā)射AMOLED,含有上述頂發(fā)射AMOLED頂電極,可有效改善視角色偏并提升器件效率。

為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容,請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明與附圖,然而附圖僅提供參考與說(shuō)明用,并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加以限制。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖,通過(guò)對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式詳細(xì)描述,將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其它有益效果顯而易見(jiàn)。

附圖中,

圖1為現(xiàn)有的頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為本發(fā)明的頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3為本發(fā)明的頂發(fā)射AMOLED頂電極的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4為本發(fā)明的頂發(fā)射AMOLED的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果,以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。

請(qǐng)參閱圖2,本發(fā)明提供一種頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩,包括支撐框架10、設(shè)于所述支撐框架10內(nèi)部且與其固定連接的掩膜片20、設(shè)于所述掩膜片20上的數(shù)個(gè)開(kāi)口區(qū)域21、以及設(shè)于每個(gè)開(kāi)口區(qū)域21中且間隔平行排列的數(shù)個(gè)遮光條30,其中,每個(gè)開(kāi)口區(qū)域21中的數(shù)個(gè)遮光條30的兩端均與所述掩膜片20相連接。

具體的,在圖2所示的實(shí)施例中,所述掩膜片20的形狀為矩形;所述開(kāi)口區(qū)域21的形狀為矩形;所述掩膜片20上設(shè)有四個(gè)開(kāi)口區(qū)域21,所述四個(gè)開(kāi)口區(qū)域21在所述掩膜片20上呈矩陣分布。

具體的,每個(gè)開(kāi)口區(qū)域21中,所述數(shù)個(gè)遮光條30的寬度相等,所述數(shù)個(gè)遮光條30之間的狹縫的寬度相等。

優(yōu)選的,所述遮光條30的寬度為10μm~30μm,相鄰兩個(gè)遮光條30之間的狹縫的寬度為10μm~30μm。

具體的,所述支撐框架10的材料為不銹鋼或者因瓦合金(invar)。

優(yōu)選的,所述掩膜片20與遮光條30的材料相同,二者為一體成型。

優(yōu)選的,所述掩膜片20與遮光條30的材料均為因瓦合金。

采用圖2所示的光罩對(duì)一導(dǎo)電薄膜進(jìn)行光刻時(shí),所述導(dǎo)電薄膜上與該數(shù)個(gè)開(kāi)口21對(duì)應(yīng)的區(qū)域分別形成數(shù)個(gè)間隔設(shè)置的頂電極,其中,每個(gè)頂電極包括間隔平行排列的數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層,每個(gè)條形導(dǎo)電膜層對(duì)應(yīng)所述光罩上的相鄰兩個(gè)遮光條30之間的一個(gè)狹縫形成;該數(shù)個(gè)頂電極分別為數(shù)個(gè)顯示面板的頂電極。

請(qǐng)參閱圖3,基于上述光罩,本發(fā)明還提供一種頂發(fā)射AMOLED頂電極,包括間隔平行排列的數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層40。

具體的,所述數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層40的寬度相等,所述數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層40之間的狹縫的寬度相等。

優(yōu)選的,所述條形導(dǎo)電膜層40的寬度為10μm~30μm,相鄰兩個(gè)條形導(dǎo)電膜層40之間的狹縫的寬度為10μm~30μm。

具體的,所述條形導(dǎo)電膜層40的材料為金屬,優(yōu)選為銀。

上述頂發(fā)射AMOLED頂電極,具有數(shù)個(gè)狹縫區(qū)域,由于狹縫處的透光率高,因此,與傳統(tǒng)的整塊頂電極相比,本發(fā)明的頂發(fā)射AMOLED頂電極透光率高,在增強(qiáng)整個(gè)頂電極的透光率的同時(shí)降低了整個(gè)頂電極的反射率,可有效改善視角色偏并提升器件效率。

請(qǐng)參閱圖4,同時(shí)參閱圖3,本發(fā)明還提供一種頂發(fā)射AMOLED,包括TFT基板50、設(shè)于TFT基板50上的底電極60、設(shè)于底電極60上的發(fā)光層70、及設(shè)于發(fā)光層70上的頂電極80;所述頂電極80為如圖3所示的頂發(fā)射AMOLED頂電極,其結(jié)構(gòu)和材料如上文所述,此處不再描述。

具體的,所述底電極60與頂電極80分別為所述頂發(fā)射AMOLED的陽(yáng)極與陰極。

上述頂發(fā)射AMOLED,通過(guò)將頂電極80設(shè)置為具有數(shù)個(gè)狹縫的形狀,使得整個(gè)頂電極80的透光率高且反射率低,可有效改善視角色偏并提升器件效率。

綜上所述,本發(fā)明提供一種頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩、頂發(fā)射AMOLED頂電極及頂發(fā)射AMOLED。本發(fā)明的頂發(fā)射AMOLED頂電極光罩,包括具有數(shù)個(gè)開(kāi)口區(qū)域的掩膜片,且每個(gè)開(kāi)口區(qū)域中設(shè)有間隔平行排列的數(shù)個(gè)遮光條,采用該光罩制得的頂發(fā)射AMOLED頂電極包括間隔平行排列的數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層,由于數(shù)個(gè)條形導(dǎo)電膜層之間設(shè)有數(shù)個(gè)狹縫,且狹縫處的透光率高,因此,與傳統(tǒng)的整塊頂電極相比,本發(fā)明的頂發(fā)射AMOLED頂電極的透光率高,在增強(qiáng)整個(gè)頂電極的透光率的同時(shí)降低了整個(gè)頂電極的反射率,可有效改善視角色偏并提升器件效率。本發(fā)明的頂發(fā)射AMOLED,含有上述頂發(fā)射AMOLED頂電極,可有效改善視角色偏并提升器件效率。

以上所述,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形,而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。

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