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外腔型窄線(xiàn)寬V槽光纖光柵激光器的制作方法

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外腔型窄線(xiàn)寬V槽光纖光柵激光器的制作方法與工藝

本發(fā)明屬于激光器技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種外腔型窄線(xiàn)寬V槽光纖光柵激光器。



背景技術(shù):

激光器在通信、軍事、醫(yī)療和光信息處理等領(lǐng)域都將有廣闊的應(yīng)用前景,特別是在光通信領(lǐng)域,隨著光波分復(fù)用技術(shù)的發(fā)展,光纖激光器將能很好地滿(mǎn)足通信系統(tǒng)對(duì)光源的更高要求。目前通信用激光器主要是半導(dǎo)體激光器,存在的問(wèn)題有:半導(dǎo)體激光器單色性較差,線(xiàn)寬較寬,所以應(yīng)用布拉格光柵的窄線(xiàn)寬激光器應(yīng)運(yùn)而生。由于波導(dǎo)型的布拉格光柵的窄線(xiàn)寬激光器具有較大的耦合損耗,m=0級(jí)的布拉格光柵制作成本高,較難制作。雖然現(xiàn)在存在一些光纖型光柵激光器,但是抗沖擊能力小,容易產(chǎn)生噪音。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明要解決的是波導(dǎo)型外腔光柵激光器耦合效率低,制作成本高,光纖型光柵激光器抗震動(dòng)性差,容易產(chǎn)生噪聲等技術(shù)問(wèn)題,從而提供一種耦合損耗小,抗擊性能好,噪音小,制作成本低的外腔型窄線(xiàn)寬V槽光纖光柵激光器。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明所采用的技術(shù)方案如下:

一種外腔型窄線(xiàn)寬V槽光纖光柵激光器,包括增益介質(zhì),在增益介質(zhì)的一端鍍高反射膜,在增益介質(zhì)的另一端鍍有增透膜Ⅰ,在增益介質(zhì)外部并與增透膜Ⅰ相對(duì)的位置設(shè)置有光纖光柵載體,所述光纖光柵載體上端面設(shè)置有V型槽,光纖光柵的一端固定在V型槽內(nèi),光纖光柵的另一端伸出光纖光柵載體,在光纖光柵載體與增益介質(zhì)相對(duì)應(yīng)的一端設(shè)置有增透膜Ⅱ,增透膜Ⅱ與增透膜Ⅰ相對(duì)應(yīng)。

在光纖光柵載體的上端設(shè)置有蓋板,蓋板將光纖光柵的固定在V型槽內(nèi)。蓋板和V型槽配合使用的,起到固定的作用,防止光纖光柵晃動(dòng)。

所述V型槽的夾角為60度,容易加工。

所述V型槽內(nèi)的光纖光柵到V型槽兩側(cè)的距離相等。

所述V型槽的高度等于1.5倍光纖光柵的直徑,負(fù)容差為0.5μm。固定光纖光柵,這樣既可以保證光纖光柵的位置,又可以防止光纖光柵松動(dòng)錯(cuò)位。

所述增透膜Ⅰ的寬度大于等于增透膜Ⅱ的寬度,所述增透膜Ⅰ的高度大于等于增透膜Ⅱ的高度,所述增透膜Ⅱ的寬度大于光纖光柵的直徑;所述增透膜Ⅱ的高度大于光纖光柵的直徑。

所述光纖光柵的有折射率為1.44-1.46??梢愿鶕?jù)實(shí)際需要進(jìn)行修改。

所述V型槽內(nèi)的光纖光柵到V型槽兩側(cè)的距離相等。

所述V型槽為若干個(gè),V型槽之間相互平行設(shè)置且V型槽之間的間距125μm-250μm。具體距離可以自行調(diào)整。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)如下:(1)加V槽的光纖光柵與增益介質(zhì)的耦合損耗小。(2)加V槽后光纖光柵抗沖擊性好,噪聲小。(3)光纖光柵作反射結(jié)構(gòu)和波長(zhǎng)選擇,噪聲小,線(xiàn)寬窄。(4)光纖光柵作諧振腔的一部分,激光器耦合進(jìn)光纖不需要透鏡,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,損耗小。高反射膜的作用是增加我們所需要波長(zhǎng)的光的反射率。增透膜的作用是增加光的透過(guò)率,減小反射損耗。且光纖光柵露出光纖光柵載體的一端作為尾纖,沒(méi)有耦合損耗,且使用的V型槽結(jié)構(gòu)更穩(wěn)固,保證光纖的位置穩(wěn)定,降低損耗。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為圖1中的A-A剖視圖。

圖3為本發(fā)明的使用狀態(tài)圖。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例:如圖1-2所示,一種外腔型窄線(xiàn)寬V槽光纖光柵激光器,包括增益介質(zhì)1,在增益介質(zhì)1的一端安鍍高反射膜2,在增益介質(zhì)1的另一端安鍍?cè)鐾改あ?,在增益介質(zhì)1外部并與增透膜Ⅰ3相對(duì)的位置設(shè)置有光纖光柵載體4,所述光纖光柵載體4上端面設(shè)置有V型槽5,所述V型槽5的夾角為60度,容易加工。

光纖光柵6的一端固定在V型槽5內(nèi),且所述V型槽5內(nèi)的光纖光柵6到V型槽5兩側(cè)的距離相等。且V型槽的高度等于1.5倍光纖光柵的直徑,負(fù)容差為0.5μm。這樣既可以保證光纖光柵的位置,又可以防止光纖光柵松動(dòng)錯(cuò)位。

光纖光柵6的另一端伸出光纖光柵載體4,在光纖光柵載體4與增益介質(zhì)1相對(duì)應(yīng)的一端設(shè)置有增透膜Ⅱ8,增透膜Ⅱ8與增透膜Ⅰ3相對(duì)應(yīng)。所述光纖光柵6為布拉格光纖光柵。且所述光纖光柵的有效折射率為1.44-1.46之間,可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行修改。

布拉格光纖光柵作為外腔激光器的波長(zhǎng)選擇和反射結(jié)構(gòu)。

所述增透膜Ⅰ3的寬度大于等于增透膜Ⅱ8的寬度,所述增透膜Ⅰ3的高度大于等于增透膜Ⅱ8的高度,所述增透膜Ⅱ8的寬度大于光纖光柵6的直徑;所述增透膜Ⅱ8的高度大于光纖光柵6的直徑。

在光纖光柵載體4的上端設(shè)置有蓋板7,蓋板7將光纖光柵6的一端限定在V型槽5內(nèi)。蓋板和V型槽配合使用的,起到固定的作用,防止光纖光柵晃動(dòng)。

在本實(shí)施例中,所述V型槽可以設(shè)置為若干個(gè),V型槽之間相互平行設(shè)置且V型槽之間的間距在125μm-250μm之間。具體距離可以自行調(diào)整。通過(guò)改變波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的增益介質(zhì),增透膜,高反模,和布拉格光纖光柵,實(shí)現(xiàn)每個(gè)光纖不同波長(zhǎng)輸出,

工作原理:增益介質(zhì)在激勵(lì)源產(chǎn)生受激輻射,受激輻射產(chǎn)生的光,由于只有布拉格波長(zhǎng)的光被光纖光柵反射,所以只有布拉格波長(zhǎng)的光可以在諧振腔(由高反膜和光纖光柵構(gòu)成)中發(fā)生諧振,形成特定波長(zhǎng)的激光,由于布拉格光柵反射譜寬很窄,可以通過(guò)控制光纖光柵長(zhǎng)度減小線(xiàn)寬,可以使激光器的線(xiàn)寬達(dá)到幾十KHz。且增透膜是為了增大增益介質(zhì)與光纖光柵的耦和效率,降低損耗。

如圖3所示,增益介質(zhì)在泵浦光9的作用下粒子數(shù)反轉(zhuǎn),低能級(jí)的電子被泵浦到能級(jí)較高的激發(fā)態(tài),同時(shí)大部分電子在極短的時(shí)間內(nèi)掉到同一個(gè)較低的能態(tài)上,輻射出相同頻率的光子。受激輻射產(chǎn)生大量光子,凡不沿諧振腔軸線(xiàn)形運(yùn)動(dòng)的光子和不滿(mǎn)足布拉格波長(zhǎng)的光很快溢出腔體外,與增益介質(zhì)不再接觸。沿軸線(xiàn)運(yùn)動(dòng)的光子且滿(mǎn)足布拉格波長(zhǎng)的光,在高反膜和布拉格光柵之間往返振蕩,與增益介質(zhì)不斷作用,粒子產(chǎn)生受激輻射,沿軸先運(yùn)動(dòng)的光子數(shù)不斷增加,在腔內(nèi)形成傳播方向一致、頻率和相位相同的激光,從光纖輸出。

在本實(shí)施例中,光纖光柵的布拉格波長(zhǎng)為

λD=2nefΛ

其中,nef是光在波導(dǎo)中的有效折射率,Λ是光柵的周期。

且中心波長(zhǎng)為

<mrow> <msub> <mi>&lambda;</mi> <mi>C</mi> </msub> <mo>=</mo> <mrow> <mo>(</mo> <mn>1</mn> <mo>+</mo> <mfrac> <mover> <mrow> <msub> <mi>&delta;n</mi> <mrow> <mi>e</mi> <mi>f</mi> <mi>f</mi> </mrow> </msub> </mrow> <mo>&OverBar;</mo> </mover> <msub> <mi>n</mi> <mrow> <mi>e</mi> <mi>f</mi> <mi>f</mi> </mrow> </msub> </mfrac> <mo>)</mo> </mrow> <msub> <mi>&lambda;</mi> <mi>D</mi> </msub> </mrow>

光纖光柵的反射率公式

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其中,是有效折射率增量,L是光纖光柵長(zhǎng)度,可以通過(guò)改變光纖光柵周期,選擇自己所需要的波長(zhǎng)。改變光纖光柵的反射率可以改變激光器輸出的線(xiàn)寬。

假如纖芯的有效折射率為1.46,光柵光纖的有效折射率改變量為0.0002,,光纖光柵周期為530.5nm,光纖光柵的長(zhǎng)度為7.96mm。該光纖光柵的中心波長(zhǎng)λD=1549.27nm,最大反射率為99.37%。

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