相關(guān)申請(qǐng)的引用

本申請(qǐng)請(qǐng)求于2014年12月26日提交、標(biāo)題為“改善混合式掃描離子束注入機(jī)的生產(chǎn)率的系統(tǒng)及方法(systemandmethodtoimproveproductivityofhybridscanionbeamimplanters)”的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)序列號(hào)62/096,976的優(yōu)先權(quán)及權(quán)益，其全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用的方式完整并入本文。

本發(fā)明大體上涉及半導(dǎo)體處理系統(tǒng)，更具體地涉及用于在離子注入期間提供改善的離子束建立時(shí)間(setuptime)與最佳掃描寬度的系統(tǒng)及方法。

背景技術(shù)：

在半導(dǎo)體工業(yè)中，通常會(huì)對(duì)工件(例如，半導(dǎo)體基板)進(jìn)行各種制造過(guò)程，以便在所述工件上實(shí)現(xiàn)各種效果。舉例而言，執(zhí)行諸如注入的過(guò)程，以便在工件內(nèi)獲得特殊特征，例如，通過(guò)注入特定類型的離子而在該工件上獲得介電層的特定體電阻率或有限的擴(kuò)散率。

在典型的連續(xù)注入過(guò)程中，借由離子束每次注入單個(gè)工件，該離子束可能是大體上相對(duì)于工件往復(fù)掃描的筆狀離子束或點(diǎn)狀離子束，或者是寬帶射束，在其中利用離子來(lái)促進(jìn)注入或摻雜全部工件。在機(jī)械式掃描注入系統(tǒng)中，通過(guò)靜止的離子束在快速掃描方向上機(jī)械掃描工件，同時(shí)使其在橫向于離子束的方向上(例如，在慢速掃描方向上)以較慢速度步進(jìn)，其中在工件每次在快速掃描方向上穿過(guò)離子束時(shí)有效注入工件的一部分或“狹帶”。

在所謂的“混合式”掃描離子束注入系統(tǒng)中，沿一條軸線在快速掃描方向上掃描離子束(例如，利用電氣掃描儀)，在其中限定具有給定長(zhǎng)度(慣稱為掃描寬度)的經(jīng)掃描的帶狀射束。據(jù)此，通常通過(guò)經(jīng)掃描的帶狀射束在大體上正交于該帶狀射束的慢速掃描方向上機(jī)械掃描工件，在其中使射束均勻分布在工件上。在經(jīng)掃描離子束每一次在其快速掃描方向上跨經(jīng)工件時(shí)便有效地注入工件的一部分或”狹帶”，其中，離子束的經(jīng)掃描路徑的長(zhǎng)度通常超過(guò)工件的直徑(慣稱為”過(guò)沖(overshoot)”或”過(guò)掃描(overscan)”)，這樣才能利用離子均勻地?fù)诫s工件。

離子注入系統(tǒng)中的工件的總處理量通常為離子束利用率的函數(shù)，其由給定時(shí)間周期內(nèi)注入工件的摻雜物量對(duì)由離子束輸出的摻雜物的總量來(lái)定義。人們?cè)噲D通過(guò)確定帶狀射束的最佳掃描寬度來(lái)最大化混合式掃描離子注入機(jī)的離子束利用率。然而，一項(xiàng)難點(diǎn)在于，帶狀射束的掃描寬度在給定的離子注入機(jī)中通常固定，因此，掃描寬度須足以注入最大尺寸的工件(以及適量的過(guò)掃描)，方能提供均勻的注入。但許多工件的直徑皆小于最大尺寸工件的直徑(例如，大體上圓形的工件)，因此針對(duì)小于最大尺寸工件的工件還保持這樣長(zhǎng)的掃描寬度常會(huì)造成不良的離子束利用率。

再者，常規(guī)上，在注入建立期間描繪離子束的輪廓，其中，確定離子束的尺寸和最佳掃描寬度，使得固定的掃描寬度能確保整個(gè)工件中會(huì)有足夠的注入和過(guò)沖，以便提供可接受的注入均勻性。然而，這種輪廓描繪通常包括一個(gè)或多個(gè)診斷和/或計(jì)算程序，其中會(huì)增加注入建立的時(shí)間。在注入建立期間用于描繪離子束輪廓所花費(fèi)的額外時(shí)間經(jīng)常抵消或否定因優(yōu)化掃描寬度所實(shí)現(xiàn)的注入時(shí)間縮減效果，因此會(huì)對(duì)工件總處理量造成負(fù)面影響。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明通過(guò)提供一種高效的系統(tǒng)及方法來(lái)確定帶狀射束的最佳掃描寬度而克服現(xiàn)有技術(shù)的限制，其對(duì)建立時(shí)間的影響最小并具有改善的過(guò)程性能和生產(chǎn)率。因而，下文介紹本發(fā)明的簡(jiǎn)要概述，以便對(duì)本發(fā)明的某些方面具有基本了解。本發(fā)明內(nèi)容部分并非本發(fā)明的詳盡綜述。其既非旨在確定本發(fā)明的關(guān)鍵元件或主要元件，亦非限定本發(fā)明的范圍。其目的在于，以簡(jiǎn)化形式呈現(xiàn)本發(fā)明的某些構(gòu)思，作為下文具體實(shí)施方式的引言。

本發(fā)明大體上針對(duì)改善混合式掃描離子束注入機(jī)的系統(tǒng)及方法。使所述工件以受控的方式在一個(gè)方向上移動(dòng)通過(guò)經(jīng)掃描的筆狀離子射束，用以緩解“過(guò)沖”。所述工件在所述第一方向上移動(dòng)，所述第一方向正交于所述經(jīng)掃描射束的寬度。更特別地，所述筆狀離子射束沿快速掃描路徑來(lái)掃描，并且相對(duì)于基本上垂直的慢速掃描路徑保持靜止，所述工件沿所述慢速掃描路徑移動(dòng)以在所述工件上產(chǎn)生近似所述工件的尺寸和/或形狀的掃描圖案。如此，所述注入過(guò)程以高效的方式進(jìn)行。所述工件與所述離子束的相對(duì)移動(dòng)能夠進(jìn)一步受到控制，以在所述工件上顯露一個(gè)或多個(gè)額外的掃描圖案，這些額外的掃描圖案交織于現(xiàn)有的掃描圖案當(dāng)中。這有助于利用離子均勻地注入整個(gè)工件。

根據(jù)本發(fā)明的另一示例性方面，本發(fā)明提供一種用于確定混合式掃描注入機(jī)中的最佳掃描寬度的系統(tǒng)。所述系統(tǒng)包括：離子源，其被配置成引出筆狀離子束；質(zhì)量解析設(shè)備；以及離子束掃描系統(tǒng)。所述離子束掃描系統(tǒng)被配置成在快速掃描方向上掃描所述離子，以產(chǎn)生所謂的帶狀射束。工件被安裝于輸送機(jī)構(gòu)上，其中，所述輸送機(jī)構(gòu)被配置成使所述工件正交于所述帶狀射束的長(zhǎng)度掃掠通過(guò)所述帶狀射束。控制系統(tǒng)進(jìn)一步被設(shè)置用于控制所述離子注入系統(tǒng)，其中，劑量測(cè)定系統(tǒng)測(cè)量并儲(chǔ)存與所述離子束相關(guān)聯(lián)的束電流信號(hào)。

根據(jù)本發(fā)明的另一示例性方面，本發(fā)明提供一種用于改善混合式掃描離子束注入機(jī)的生產(chǎn)率的方法。所述方法包括從離子源引出離子束并且將該離子束引導(dǎo)至質(zhì)量解析系統(tǒng)，由此質(zhì)量解析該離子束。所述方法進(jìn)一步包括掃描所述離子束，以限定帶狀離子束。所述帶狀離子束進(jìn)一步經(jīng)由光學(xué)器件系統(tǒng)而被引導(dǎo)至工件，以便注入其中。

根據(jù)本發(fā)明的又一示例性方面，本發(fā)明提供一種用于調(diào)諧經(jīng)掃描離子束的方法，該方法確定束電流，用以利用期望特性來(lái)注入工件。所述方法包括：利用設(shè)置法拉第杯來(lái)調(diào)諧所述經(jīng)掃描射束；以及使用來(lái)自所述設(shè)置法拉第杯的時(shí)間信號(hào)來(lái)調(diào)整掃描寬度，以獲得最佳掃描。所述方法進(jìn)一步包括：針對(duì)與所述注入的期望劑量相對(duì)應(yīng)的期望通量值來(lái)調(diào)諧所述光學(xué)器件；以及當(dāng)獲得期望通量值時(shí)，進(jìn)一步控制通量分布的均勻性。在一個(gè)示例中，所述方法進(jìn)一步包括測(cè)量并控制所述離子束的角度分布。

為實(shí)現(xiàn)前述及有關(guān)目的，本發(fā)明包括下文完整描述且特別在權(quán)利要求書(shū)中所指出的特征。下文內(nèi)容及附圖詳細(xì)闡明本發(fā)明的某些說(shuō)明性實(shí)施方案。然而，這些實(shí)施方案僅表明采用本發(fā)明原理的多種不同方式中的少數(shù)幾種。在結(jié)合附圖考慮的情況下，由下文對(duì)本發(fā)明的詳細(xì)描述會(huì)更清楚理解本發(fā)明的其他目的、優(yōu)點(diǎn)及新穎性特征。

附圖說(shuō)明

圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性方面的用于改善混合式掃描離子束注入機(jī)的生產(chǎn)率的系統(tǒng)的示意圖。

圖2a是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性方面的沿混合式掃描離子束注入機(jī)和劑量測(cè)定系統(tǒng)的工件平面的視圖。

圖2b是根據(jù)本發(fā)明的又一示例性方面的正交于混合式掃描離子束注入機(jī)和劑量測(cè)定系統(tǒng)的工件平面的視圖。

圖3是圖示根據(jù)本發(fā)明的另一示例性方面的束電流測(cè)量的曲線圖。

圖4至圖6是根據(jù)本發(fā)明的又一示例性方面的正交于工件的一部分的工件平面以及劑量測(cè)定系統(tǒng)在離子束相對(duì)于工件的各個(gè)位置的各視圖。

圖7是根據(jù)本發(fā)明的另一方面的通過(guò)確定最佳掃描寬度來(lái)改善混合式掃描注入機(jī)的生產(chǎn)率的方法的流程圖。

圖8是根據(jù)本發(fā)明的又一方面的確定混合式掃描注入機(jī)的最佳掃描寬度的方法的另一流程圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明大體上針對(duì)改善混合式掃描離子束注入機(jī)的系統(tǒng)及方法。使所述工件在第一方向上以受控的方式移動(dòng)通過(guò)經(jīng)掃描的離子束(例如，筆狀離子束或點(diǎn)狀離子束)，以便緩解“過(guò)沖”。所述工件在所述第一方向上移動(dòng)，所述第一方向正交于所述經(jīng)掃描射束的寬度。更特別地，所述離子射束沿快速掃描路徑來(lái)掃描，并且相對(duì)于基本上垂直的慢速掃描路徑保持靜止，所述工件沿所述慢速掃描路徑移動(dòng)以在所述工件上產(chǎn)生近似所述工件的尺寸和/或形狀的掃描圖案。

據(jù)此，現(xiàn)將參照附圖對(duì)本發(fā)明予以闡述，在通篇中，相似的附圖標(biāo)記用于指代相似的元素。應(yīng)當(dāng)理解，對(duì)這些方面的描述僅供說(shuō)明，而不得解釋為限定目的。出于解釋目的，在下文中闡明若干具體細(xì)節(jié)，以便全面理解本發(fā)明。然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員會(huì)顯而易知，本發(fā)明可在不具備這些具體細(xì)節(jié)的情況下實(shí)施。

現(xiàn)將參照附圖，圖1圖示出根據(jù)本發(fā)明的各方面的示例性混合式掃描離子注入系統(tǒng)100。例如，混合式掃描離子束注入系統(tǒng)100包括離子源102，其中，引出組件(圖中未示)被配置成經(jīng)由向引出組件施加引出電壓而從離子源引出帶電離子。例如，在n型注入中，在離子源102內(nèi)提供的源材料可以包括硼、鎵或銦。在p型注入中，這些源材料可以包括砷、磷、銻及此類元素。離子束104(例如，筆狀離子束或點(diǎn)狀離子束)進(jìn)入離子源102下游的質(zhì)量解析設(shè)備106，從而限定經(jīng)質(zhì)量分析的離子束108。然后，經(jīng)質(zhì)量分析的離子束108再進(jìn)入離子束掃描系統(tǒng)110，其中，該離子束掃描系統(tǒng)被配置成掃描經(jīng)質(zhì)量分析的離子束108，以限定具有射束寬度(例如，該射束寬度進(jìn)入紙面中)的所謂帶狀射束112。工件114被安裝于輸送機(jī)構(gòu)116上，其中，該輸送機(jī)構(gòu)被配置成使工件114在第一方向118上平移通過(guò)帶狀射束112。例如，第一方向118正交于帶狀射束112的射束寬度。

根據(jù)一個(gè)示例性方面，光學(xué)器件系統(tǒng)120被設(shè)置用于控制帶狀射束112的聚焦與定位。例如，光學(xué)器件系統(tǒng)120的部件能夠被定位于離子束104、108、112的路徑上的任何位置，以控制離子束的參數(shù)，諸如聚焦、平行化及此類參數(shù)。在一個(gè)示例中，光學(xué)器件系統(tǒng)120包括多個(gè)離子束聚焦轉(zhuǎn)向部件，例如，離子透鏡(例如，偶極透鏡、四極透鏡或更高級(jí)的透鏡)以及棱柱(例如，偶極磁體、wien濾波器)，這些離子束聚焦轉(zhuǎn)向部件中的任一部件均能夠是磁性、電性或使用二者的組合。

根據(jù)另一示例，劑量測(cè)定系統(tǒng)122進(jìn)一步被設(shè)置并配置成測(cè)量與帶狀射束112相關(guān)聯(lián)的束電流信號(hào)?？刂葡到y(tǒng)124被進(jìn)一步設(shè)置用以控制混合式掃描離子束注入系統(tǒng)100的各個(gè)方面。例如，數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)126被配置成檢索、儲(chǔ)存和/或分析與混合式掃描離子束注入系統(tǒng)100的操作相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)并被配置成將所述數(shù)據(jù)提供給控制器124。例如，數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)126被配置成從劑量測(cè)定系統(tǒng)122檢索諸如束電流數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)、從輸送機(jī)構(gòu)116檢索諸如位置數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)、從離子束掃描系統(tǒng)110檢索諸如射束位置數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)以及此類數(shù)據(jù)，并且將所述數(shù)據(jù)提供給控制器124。例如，控制器124也可以充當(dāng)數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)126。

倘若期望跨劑量測(cè)定系統(tǒng)122的額外器件(諸如圖2a中所示的設(shè)置法拉第杯150，亦稱為調(diào)諧法拉第杯)掃描帶狀射束112，借以使得期望掃描寬度大于工件114的寬度，則設(shè)置法拉第杯的寬度可以增加至期望掃描寬度，或者能夠在最佳掃描寬度中添加預(yù)定或已知的附加掃描寬度。例如，設(shè)置法拉第杯150在帶狀射束112的方向上的寬度152有限并代表期望掃描寬度(例如，類似于工件114的寬度)。

圖2a和圖2b圖示出示例性劑量測(cè)定系統(tǒng)200，其中，工件202被安裝至輸送系統(tǒng)204，該輸送系統(tǒng)204被定位于混合式掃描離子束注入系統(tǒng)(諸如圖1的混合式掃描離子束注入系統(tǒng)100)的終端站內(nèi)。例如，圖2a和圖2b的劑量測(cè)定系統(tǒng)200包括設(shè)置法拉第杯150、第一法拉第杯206和第二法拉第杯208(亦稱為劑量杯)，這二者分離的距離約等于工件202的直徑209。在本示例中，如箭頭212所示，使具有帶狀射束高度211(例如，圖1的離子束108的直徑)的帶狀射束210掃掠至右側(cè)，其中，第一法拉第杯206和第二法拉第杯208的開(kāi)口高度約等于至少帶狀射束的高度(例如，最大高度)。

劑量測(cè)定系統(tǒng)200被配置成具有機(jī)構(gòu)214，其可操作成如期望般控制第一法拉第杯206與第二法拉第杯208之間的距離215，其中，劑量測(cè)定系統(tǒng)被配置成適應(yīng)不同直徑209的工件202。例如，機(jī)構(gòu)214包括線性驅(qū)動(dòng)器、齒條和小齒輪或者可操作成控制劑量測(cè)定系統(tǒng)200的第一法拉第杯206與第二法拉第杯208之間的距離215的任何其他驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。例如，各類工件202包括150mm、200mm、300mm和450mm的寬度，因而使得劑量測(cè)定系統(tǒng)200的第一法拉第杯206與第二法拉第杯208之間的距離215同樣可變。應(yīng)當(dāng)指出，本文中所述的劑量測(cè)定系統(tǒng)200雖然包括兩個(gè)法拉第杯206、208，但劑量測(cè)定系統(tǒng)能夠替選地包括如上定位的任何束電流測(cè)量裝置，而且所有這些替選方案皆視為落入本發(fā)明的范圍內(nèi)。

例如，第一法拉第杯206與第二法拉第杯208之間的距離215被配置成經(jīng)由機(jī)構(gòu)214而改變，以便限制帶狀射束210的掃描寬度216(例如，點(diǎn)狀離子束跨工件掃描的寬度)，借以當(dāng)離子束(例如，圖1的經(jīng)掃描的點(diǎn)狀離子束108)穿過(guò)第一法拉第杯和第二法拉第杯時(shí)，由調(diào)諧法拉第杯150感測(cè)到的束電流下降。例如，如圖2b所示，這兩個(gè)法拉第杯中206、208的每一個(gè)均包括與其相關(guān)聯(lián)的相應(yīng)孔徑218，并且機(jī)構(gòu)214被配置成改變劑量測(cè)定系統(tǒng)200的收集面積并封閉相應(yīng)孔徑，由此限制正測(cè)量的帶狀離子束210的寬度?？讖?18可以與相應(yīng)的法拉第杯206、208一體成形或分立。當(dāng)由調(diào)諧法拉第杯150感測(cè)到的束電流約為零時(shí)(例如，當(dāng)全部離子束210處于相應(yīng)的第一法拉第杯206或第二法拉第杯208上時(shí))，掃描寬度216視為得到優(yōu)化。

參照?qǐng)D3，曲線圖300示出由圖4中所示的劑量測(cè)定系統(tǒng)400的第一法拉第杯206收集到的各種波形。例如，第一波形302顯示所測(cè)得的第一法拉第杯206的法拉第電流的時(shí)間相關(guān)性。如圖4所示，使帶狀射束210如箭頭212所示般掃描至右側(cè)。由第一法拉第杯206所測(cè)得的法拉第電流位于虛線區(qū)域310內(nèi)的某處，與第一波形302相一致。當(dāng)由第一法拉第杯206收集到整個(gè)帶狀射束210時(shí)(如圖所示)，或者由第二法拉第杯208收集到整個(gè)帶狀射束210時(shí)，參閱圖3，圖5的劑量測(cè)定系統(tǒng)500的法拉第電流達(dá)到近似最大值304。例如，如圖6所示，在使帶狀射束210掃描離開(kāi)第一法拉第杯206時(shí)，電流以下降斜率降至較低電平并達(dá)到圖3中所示的靠近或接近零位線308的值306。

應(yīng)當(dāng)領(lǐng)會(huì)，在掃描周期中，帶狀射束210的法拉第電流有兩次大約為(例如，當(dāng)使帶狀射束在任一方向上掃描離開(kāi)法拉第杯206或208時(shí))。本示例圖示出跨工件202的掃描寬度相對(duì)于由劑量測(cè)定系統(tǒng)200收集來(lái)自帶狀射束210的電流的長(zhǎng)時(shí)間周期而較大的情況。然而，針對(duì)短掃描寬度或者小于劑量測(cè)定系統(tǒng)200的第一法拉第杯206與第二法拉第杯208之間的距離子215的掃描寬度，由劑量測(cè)定系統(tǒng)收集到的電流可能不會(huì)降至零308。

圖7圖示出根據(jù)本發(fā)明的另一示例性方面的用于調(diào)諧離子束以改善混合式掃描離子束注入機(jī)的生產(chǎn)率的方法700，其中參閱圖1、圖2a至圖2b以及圖3至圖6。方法700能夠被執(zhí)行用以實(shí)現(xiàn)上述特征，并且酌情用以根據(jù)所述特征對(duì)離子束生成和/或射束處理執(zhí)行調(diào)整。例如，方法700能夠作為建立過(guò)程的一部分和/或在離子注入期間來(lái)執(zhí)行。

方法700始于動(dòng)作702，其中，根據(jù)一個(gè)或多個(gè)期望特征或參數(shù)來(lái)確定所需的離子束電流，以便利用期望特性來(lái)注入工件。例如，期望特性尤其能夠包括：最佳掃描、期望束電流強(qiáng)度、期望通量值、均勻的通量和角度分布。在動(dòng)作704，相對(duì)于劑量測(cè)定系統(tǒng)(諸如圖2a至圖2b的劑量測(cè)定系統(tǒng)200)來(lái)執(zhí)行經(jīng)掃描射束210的調(diào)諧。在動(dòng)作706，調(diào)整掃描寬度以達(dá)最佳掃描；并且在動(dòng)作708，調(diào)諧光學(xué)器件，以達(dá)到與期望劑量相對(duì)應(yīng)的期望通量值。

在一個(gè)示例中，動(dòng)作706包括通過(guò)積分電流(例如，“脈沖”電流，借以使得電流在“脈沖”兩側(cè)變成零)，將掃描寬度設(shè)定成最佳掃描，并且針對(duì)法拉第杯的給定寬度，選擇期望電流極限值(例如，“約為零”的電流范圍從法拉第杯中電流的0％至5％)。例如，選擇非零電流極限值能夠有利于在法拉第杯中遺留一定電流，因?yàn)檫^(guò)掃描工件也可能有益，借此，較小的掃描寬度提供較高的利用率。應(yīng)進(jìn)一步指出，光學(xué)器件能夠至少部分基于上述測(cè)得的參數(shù)來(lái)實(shí)時(shí)調(diào)諧。

實(shí)時(shí)調(diào)整掃描寬度能夠在射束掃描系統(tǒng)正運(yùn)行時(shí)調(diào)諧注入機(jī)光學(xué)器件的情況下完成，例如，使得經(jīng)掃描的束電流最大化。在此情況下，例如，機(jī)械控制系統(tǒng)的閉合回路控制子系統(tǒng)相比按照筆狀射束的特性(例如寬度)作出射束調(diào)諧變化更快的速度將掃描寬度調(diào)整至最佳數(shù)值。該方法的示例性實(shí)施方式包括：通過(guò)調(diào)諧注入機(jī)光學(xué)器件來(lái)增成建立法拉第信號(hào)達(dá)到零的時(shí)間周期(例如，在過(guò)掃描期間)，使經(jīng)掃描射束的利用率最大化；以及相繼縮窄掃描寬度，同時(shí)保持或提高設(shè)置法拉第杯上的經(jīng)掃描束電流。當(dāng)已經(jīng)獲得期望或最佳的經(jīng)掃描束電流時(shí)，調(diào)諧便結(jié)束。

在一個(gè)示例中，一旦在動(dòng)作708獲得期望通量值，便在動(dòng)作710調(diào)整通量分布的均勻性。當(dāng)已經(jīng)獲得期望通量值均勻性之后，在動(dòng)作710調(diào)整通量分布，并且在動(dòng)作712進(jìn)一步測(cè)量角度分布。倘若在動(dòng)作714判定角度分布正確或可接受，則調(diào)諧便會(huì)視為完成。倘若在動(dòng)作714判定角度分布需要調(diào)整，則在動(dòng)作716校正角度分布。在動(dòng)作718判定均勻性是否可接受。倘若在動(dòng)作718判定均勻性可接受，則調(diào)諧便會(huì)視為完成；否則，方法700便以迭代方式返回704。

在示例性方法700中所述的序列利用期望特性實(shí)現(xiàn)調(diào)諧最佳過(guò)掃描帶狀射束。這些期望特性在圖1的未經(jīng)掃描射束108的特性未知的情況下也能達(dá)成。例如，無(wú)需診斷未經(jīng)掃描的射束108，可以節(jié)省調(diào)諧時(shí)間，并且可以提高注入機(jī)100的生產(chǎn)率。然而，可能會(huì)期望確定未經(jīng)掃描射束108的特性以及經(jīng)掃描的帶狀射束112的特性。

倘若是這種情況，則典型的調(diào)諧序列便會(huì)如圖8中所示般開(kāi)始，在動(dòng)作802確定利用期望劑量的摻雜物來(lái)注入工件所需的束電流。操作者和/或控制系統(tǒng)在動(dòng)作804調(diào)諧送往設(shè)置法拉第杯(例如，劑量測(cè)定系統(tǒng))的未經(jīng)掃描的束電流，并且在動(dòng)作806執(zhí)行輪廓描繪和角度測(cè)量。倘若在動(dòng)作808未獲期望束電流，則方法800便返回動(dòng)作804。否則，掃描部件便掃描離子束并且在動(dòng)作812使用建立法拉第的波形來(lái)快速確定最佳的掃描寬度。隨后，在動(dòng)作814獲得跨工件的離子通量的均勻性。在動(dòng)作816測(cè)量離子束的角度內(nèi)容，并且視需要，在動(dòng)作818調(diào)整其角度內(nèi)容。倘若在動(dòng)作820需要調(diào)整經(jīng)掃描的射束的角度，則在動(dòng)作804將掃描寬度再次設(shè)定為新的最佳數(shù)值，并且通過(guò)迭代校正方案將經(jīng)掃描射束的均勻性再次調(diào)整到期望值。

盡管本發(fā)明的內(nèi)容已就某一或某些優(yōu)選實(shí)施方式得以闡明，但基于對(duì)本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及附圖的閱讀和理解，等同變化及修改對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言顯而易見(jiàn)。特別關(guān)于由上述組件(總成、裝置、電路等)執(zhí)行的各種功能，若非特別注明，否則用于描述這些組件的術(shù)語(yǔ)(包括提及“構(gòu)件”)旨在對(duì)應(yīng)于執(zhí)行組件的特定功能(即功能上等同)的任意部件，即便其在結(jié)構(gòu)上不等同于執(zhí)行本文所述的本發(fā)明典型實(shí)施方案所公開(kāi)的結(jié)構(gòu)亦然。此外，雖然僅就多個(gè)實(shí)施方案中的一種方案公開(kāi)本發(fā)明的特定特征，如若適于或利于任何指定或特定應(yīng)用，則這一特征可結(jié)合其它實(shí)施方案的一個(gè)或多個(gè)其他特征。