功率兼容性更高的濺射靶本發(fā)明涉及板定中系統(tǒng)，包括具有支座的板，在這里，該板在室溫和較高溫度下都與所述板和支座的熱脹無關(guān)地在支座內(nèi)被定中，并且該板在支座內(nèi)在較高溫度下可以自由膨脹。本發(fā)明尤其涉及具有框形靶架的靶，其非常適合用在用于靶的高功率脈沖磁控濺射的涂覆源中。

背景技術(shù)：
高功率密度是經(jīng)濟(jì)運(yùn)行濺射方法所必需的。但濺射靶的冷卻在此是很重要的。目前，濺射靶通常或是被直接冷卻，或是被間接冷卻。被直接冷卻的靶例如在圖2的視圖中被示意性示出：為了濺射而在靶表面1a上轉(zhuǎn)化的功率與靶材1b的導(dǎo)熱性相關(guān)地通過導(dǎo)熱被傳導(dǎo)至靶背面1c。冷卻液(通常是水)流過濺射源主體10內(nèi)的冷卻液通道5(通常是水通道)并且根據(jù)流動狀況相應(yīng)散走熱流。為了將靶1固定接合至水通道5，通常采用螺釘4，其穿過靶1和濺射源主體10。另外也需要安裝密封3以免水流入真空室。圖2未示出這種濺射靶-冷卻裝置的本領(lǐng)域技術(shù)人員所知道的其它組成部件。被間接冷卻的靶例如在圖3的視圖中被示意性示出。在此情況下，冷卻液通道5是完整閉合的，在這里形成所謂的“閉合”冷卻板。靶1被如此固定到閉合冷卻板上(例如螺栓連接或夾住)，即靶1的背面1c與冷卻表面接觸，并且通過將靶背面1c壓緊到冷卻表面上來實現(xiàn)或促進(jìn)從靶至冷卻液的傳熱。圖2未示出這種濺射靶-冷卻板裝置的本領(lǐng)域技術(shù)人員所知道的其它組成部件。根據(jù)冷卻方法或極端功率密度的不同，可能出現(xiàn)靶高溫并且靶材的機(jī)械強(qiáng)度可能會出問題。例如在鋁制靶情況下，該靶利用螺釘在冷卻板邊緣處被固定在冷卻板上(如圖3所示)并且被壓緊到堅硬的冷卻表面?？赡艹霈F(xiàn)，在濺射靶-冷卻板裝置中(如圖3所示)，當(dāng)因濺射作業(yè)而變熱時，靶膨脹到出現(xiàn)由螺釘夾緊所引起的應(yīng)力和機(jī)械扭曲，它們導(dǎo)致了對冷卻板的導(dǎo)熱變差，這可能導(dǎo)致靶損壞。在考慮這些邊界條件的情況下，例如鋁制的濺射靶的功率密度必須被限制到小于10W/cm2的值，可能的話小于5W/cm2。另一種重要的靶夾緊和冷卻的方法是利用活動膜的間接冷卻，如圖4所示。靶通過適當(dāng)?shù)臋C(jī)構(gòu)9被固定(如通過夾子、螺栓、卡口接合)在濺射源主體10上。在可讓液體(一般是水)流過的冷卻通道5中存在液靜壓，其將活動膜均勻壓緊到靶背面1c上。這樣的活動膜例如可以是一種金屬箔。因而，這樣的帶有活動膜的冷卻板裝置也稱為金屬箔冷卻板裝置或簡稱為金屬箔冷卻板。在膜和靶背面之間，可以預(yù)計到有縮小的導(dǎo)熱面。該導(dǎo)熱面可以通過襯上一個例如由銦、鋅、石墨構(gòu)成的可延展性襯膜來明顯改善。例如，人們可以將一個極薄的自粘性碳膜粘附到靶背面或要接觸靶背面的膜側(cè)面上，就像WO2013149692A1所述的那樣，以最佳地改善導(dǎo)熱。但這種方法的缺點(diǎn)是，靶因液靜壓而承受彎曲。在極高的功率密度和更高溫度下的靶的機(jī)械強(qiáng)度通常不足以防止靶彎曲、進(jìn)而損壞。尤其當(dāng)卡口接合充當(dāng)用于在濺射源體上夾緊和固定所述靶的支承座時它是不夠的。例如，一般由鋁和鈦或由鋁和鉻粉末冶金制造的靶在高于200℃的溫度下很軟且可塑。因此，這樣的靶在高于200℃的溫度下通常強(qiáng)烈彎曲和損壞。

技術(shù)實現(xiàn)要素：
本發(fā)明的任務(wù)是提供一種濺射源裝置，其使得采用帶有活動膜的冷卻板裝置成為可能，其中，該靶在高溫時沒有因在冷卻板裝置的冷卻通道內(nèi)的液靜壓的作用而損壞。發(fā)明描述如此完成本發(fā)明的任務(wù)：提供一種如下所述的具有板定中系統(tǒng)的涂覆源，其包括：a)安置在支座內(nèi)的板，該板具有板正面和板背面以及定中機(jī)構(gòu)，其中，所述支座包括用于容納所述板的框形靶架，所述板是靶，該板正面設(shè)置用于在PVD過程中將層材料從表面轉(zhuǎn)變至氣相，并且該定中機(jī)構(gòu)設(shè)計成：在不同板溫度時保證定中，b)設(shè)置在該板背面上的具有冷卻通道和閉合冷卻板的冷卻裝置，該閉合冷卻板呈活動膜狀，其中，為了保證在所述板背面和膜之間的良好熱接觸，將自粘的石墨膜粘附到該板背面上，其中，在該支座上和在該冷卻裝置上設(shè)有卡口接合的元件，因而該支座連同被定中的板借助該卡口接合被固定到該冷卻裝置，其中，為了保持該靶，分別在靶和靶架內(nèi)設(shè)有至少三個相互間隔的導(dǎo)向成形部和/或槽，以便當(dāng)該靶被安放到靶架上時所述靶的和/或所述靶架的導(dǎo)向成形部分別嵌入所述靶架的和/或所述靶的對應(yīng)槽中，其中，“導(dǎo)向成形部-槽”配對如此分布，即，在每個“導(dǎo)向成形部-槽”配對中，該槽的寬度中心位置與對應(yīng)的導(dǎo)向成形部的寬度中心位置重合，并且如此選擇該位置，即該位置在室溫下處于靶中心的一個軸向上，在所述靶和/或所述靶架在較高溫度下熱脹之后保持不變地處于靶中心的相同軸向上，其中該板的材料具有第一熱脹系數(shù)α1，該支座的材料具有第二熱脹系數(shù)α2，在此α1>α2。根據(jù)本發(fā)明的該板定中系統(tǒng)包括帶有支座的板，如圖1示意性所示，其中，板1具有正面1a、背面1c和外邊緣面1d(其從正面延伸向背面)，并且由具有第一熱脹系數(shù)α1的第一材料制造；該支座包括具有內(nèi)側(cè)面2e的用于容納所述板的框形板架2并且由具有第二熱脹系數(shù)α2的第二材料制造，其特征是：-在室溫下，板架的內(nèi)側(cè)面2e的周長大于板1的邊緣面1d的周長，由此，當(dāng)該板1定中位于板架2內(nèi)時，在該板的邊緣面和該板架的內(nèi)側(cè)面之間存在具有規(guī)定縫寬S的縫隙，以及-該邊緣面且優(yōu)選是靠近底面1c的邊緣面1d包括一個或多個導(dǎo)向成形部1f，該導(dǎo)向成形部優(yōu)選在一基本平行于板1的背側(cè)面1c的平面內(nèi)向外延伸超過邊緣面1d并且插入板架2的內(nèi)側(cè)面2e的對應(yīng)的槽2n中，和/或邊緣面1d包括一個或多個槽1n，所述槽優(yōu)選在一基本平行于板的背側(cè)面的平面內(nèi)向內(nèi)延伸進(jìn)入邊緣面1d并供板架2的內(nèi)側(cè)面2e的對應(yīng)的導(dǎo)向成形部2f插入其中，-其中，該板定中系統(tǒng)包括至少三個這樣的相互嵌合的“導(dǎo)向成形部-槽”配對，并且-其中，對于每一“導(dǎo)向成形部-槽”配對，“在板邊緣面的切向上的寬度剖面形狀”和“在垂直于板邊緣面的方向上的長度剖面形狀”是如此相互協(xié)調(diào)的，即在室溫下在切向上的縫隙SB小于在該垂直方向上的縫隙SL，同時SL≥S，并且-其中，該“導(dǎo)向成形部-槽”配對如此分布，即在每個“導(dǎo)向成形部-槽”配對中，一個槽的寬度中心的位置MN與對應(yīng)的導(dǎo)向成形部的寬度中心的位置MF重合，并且如此選擇該位置，即它在室溫下處于板中心PZ的一個軸向上，并且其在板1或者板1和板架2在較高溫度下熱脹之后保持不變地位于板中心PZ的相同軸向上(不僅在室溫下，也在板1或者板1和板架2膨脹的較高溫度下)，在板架2內(nèi)的板1被定中錨固在板架2內(nèi)，最多除了該縫隙SB外。在本發(fā)明的板定中系統(tǒng)中，板材的線性熱脹系數(shù)優(yōu)選大于支座材料的線性熱脹系數(shù)，或者至少等于，即α1≥α2，優(yōu)選α1>α2。本發(fā)明的一個特別優(yōu)選的實施方式涉及一種“板-支座”系統(tǒng)，其包括帶有支座的圓盤形板，其中，該板具有在其周向的大延伸范圍內(nèi)呈圓形且?guī)в型獍暹吘壍捻斆?，并且該板的材料具有第一熱脹系?shù)α1；而該支座具有在其其周向的大延伸范圍內(nèi)呈圓形的開口，所述開口由內(nèi)支座鑲邊限定，并且支座材料具有第二熱脹系數(shù)α2，其特征是，-在室溫下，該支座的開口的周長大于該板的頂面的周長，由此，在該板居中位于該支座的開口中時，在板邊緣和內(nèi)支座鑲邊之間存在具有規(guī)定縫寬S的縫隙，并且-α2<α1，并且-板邊緣包括一個或多個突出部，其從圓形表面的中心看在徑向上從板邊緣表面以突出部長度來延伸，并且插入該支座鑲邊的具有內(nèi)凹長度的對應(yīng)內(nèi)凹部中，和/或該板邊緣包括一個或多個內(nèi)凹部，其從板邊緣看在朝向圓形表面的中心點(diǎn)方向上延伸內(nèi)凹部長度并且供支座鑲邊的具有突出部長度的對應(yīng)突出部插入其中，-其中，該“板-支座”系統(tǒng)包括至少三個這樣相互嵌合的內(nèi)凹部-突出部配對，并且其中針對“內(nèi)凹部-突出部配對”如此選擇長度，即在室溫下在徑向上每個內(nèi)凹部最多除了徑向間距d外接合至該突出部，所述徑向間距的數(shù)量級對應(yīng)于縫寬S的數(shù)量級，并且其中，對于內(nèi)凹部-突出部配對，在切向上所述寬度剖面形狀如此相互協(xié)調(diào)，即，所述內(nèi)凹部可對于對應(yīng)的突出部作為導(dǎo)軌，其在切向上的縫隙sp(sp＝SB)小于S，并且是如此做到的，即不僅在室溫下，也在該板比支座更顯著膨脹的較高溫度下，膨脹的板最多除了該縫隙sp外總是定中錨固在支座內(nèi)。膨脹系數(shù)或熱脹系數(shù)是一個特性值，其描述材料在其尺寸在溫度變化時的變化方面的特性，因此通常也稱為熱脹系數(shù)。對此負(fù)責(zé)的作用是熱脹。熱脹取決于所用材料，即它是材料專屬的材料常數(shù)。因為在許多材料中熱脹在所有溫度范圍內(nèi)并不均勻地進(jìn)行，故熱脹系數(shù)本身也與溫度相關(guān)并因而是針對一定的標(biāo)準(zhǔn)溫度或一定的溫度范圍來給出的。分為長度熱脹系數(shù)α(也稱為線性熱脹系數(shù))和空間熱脹系數(shù)γ(也稱為空間膨脹系數(shù)或體積膨脹系數(shù)或立體膨脹系數(shù))。長度熱脹系數(shù)α是在溫度變化dT和固體的相關(guān)長度變化dL/L之間的比例常數(shù)。相應(yīng)地，借此來描述溫度變化時的相對長度變化。它是材料專屬參數(shù)，其單位為K-1(每開爾文)并且通過以下公式來限定：α＝1/L:dl/dT，該公式可簡化為Lfinal≈Linitial·(1+α·ΔT)。于是，例如人們能夠計算出該板在板頂面的某個方向上在最高工作溫度下具有哪種長度。按照相似的方式，人們可以計算出支座熱脹后的尺寸。因此，人們可以計算出在板和支座之間需要哪種縫寬以保證直到最高工作溫度，板在支座中可“自由地”熱脹。例如假定L1final≈α1·L1initial·ΔT1，其中，L1final是在溫度Tfinal(例如在板的最高工作溫度下)時的板在一定方向上的長度(在圓盤形板情況下于是是直徑)，α1是在該溫度范圍時的板的線性熱脹系數(shù)，L1initial是在溫度Tinitial(例如在室溫)時在同一方向上的板長度；按照相似方式針對在Tfinal時的支座尺寸計算，但要考慮支座的形狀尺寸以及支座材料的線性熱脹系數(shù)。優(yōu)選如此選擇在該板和支座之間的縫隙寬度，即該板在支座內(nèi)可以在達(dá)到至少450℃的溫度之前都自由膨脹，優(yōu)選達(dá)到至少500℃，更優(yōu)選達(dá)到至少650℃。所述內(nèi)凹部和/或突出部優(yōu)選相互等距分布在該板中。優(yōu)選該支座呈環(huán)形或者包括用于容納該板的環(huán)形部分。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選實施方式，該板可以是圓盤形靶，其包括呈星形布置的導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，其中，每兩個導(dǎo)向機(jī)構(gòu)具有一個共同軸線(該軸線位于靶中心)，并且所述導(dǎo)向機(jī)構(gòu)突入該支座的相應(yīng)的多個星形的槽中，例如該支座是冷卻板裝置的一部分。因此，該靶通過根據(jù)本發(fā)明的靶-冷卻板設(shè)計結(jié)構(gòu)與溫度無關(guān)地被定中到冷卻板上。因此，在使用圍繞該靶的陽極環(huán)情況下，靶和陽極環(huán)之間的縫隙可以保持同心或根據(jù)本發(fā)明被同心保持。由此一來，避免了可能由不希望有的在作為陰極工作的靶和陽極環(huán)之間的接觸所引起的短路。在靶和靶支座之間的支承面也由此保持居中位于冷卻板裝置(如在靶和靶定位環(huán)之間)內(nèi)并且在采用金屬箔冷卻板時在靶內(nèi)得到均勻的應(yīng)力。支承面可以因此被最小化。代替在冷卻板內(nèi)設(shè)置內(nèi)凹部(凸起從靶突入其中)，也可以在靶內(nèi)設(shè)置內(nèi)凹部并且將冷卻板裝置的容納體(例如靶定位環(huán))設(shè)計成具有內(nèi)凸的突出部，該突出部插入該靶的內(nèi)凹部中，如圖5所示。通過在現(xiàn)有的冷卻板中采用本發(fā)明而得到突出優(yōu)點(diǎn)，在這里，在靶和冷卻板之間的過小縫隙通過使用墊圈而可被擴(kuò)大。如果靶被安裝在墊圈中且墊圈隨后被安裝到冷卻板上，則在靶和冷卻板之間的整個縫隙(縫隙1和2)和進(jìn)而所施加的功率也可被增大，如圖6所示。根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方式，本發(fā)明的板定中系統(tǒng)是靶定中系統(tǒng)，其中，板1是靶1，支座2是靶座，并且框形板架2是用于容納靶1的框形靶架2。根據(jù)本發(fā)明，靶優(yōu)選包括頂面1a、底面1c和外側(cè)面1d，其中，該靶的頂面或正面限定出第一面，該靶的底面或背面限定出第二面，該靶的外側(cè)面或外邊緣面限定出第三面，第三面從該頂面延伸向該底面。框形靶架2包括內(nèi)側(cè)面2e，其配設(shè)有導(dǎo)向成形部2f和/或槽2n，其中，導(dǎo)向成形部2f分別向內(nèi)延伸超過內(nèi)側(cè)面2e，和/或該槽2n向外延伸進(jìn)入內(nèi)側(cè)面2e。靶的邊緣面1d對應(yīng)地具有導(dǎo)向成形部1f和/或槽1n，優(yōu)選在靠近底面1c的表面區(qū)1d中，在這里，導(dǎo)向成形部1f分別優(yōu)選基本平行于第二面1c地向外延伸超過邊緣面1d，和/或槽1n優(yōu)選基本平行于第二面1c地向內(nèi)延伸進(jìn)入邊緣面1d。為了保持該靶，分別在靶和靶架內(nèi)設(shè)有至少三個相互間隔的導(dǎo)向成形部和/或槽，以便當(dāng)該靶被安放到靶架上時所述靶的和/或所述靶架的導(dǎo)向成形分別嵌入所述靶架的和/或所述靶的對應(yīng)槽中。該導(dǎo)向成形部和/或槽如此制造，即在每個“導(dǎo)向成形部-槽”配對中，該槽的寬度和長度大于該相應(yīng)的導(dǎo)向成形部的寬度和長度。優(yōu)選地，所有的槽具有相同的形狀和相同的尺寸，并且所有的導(dǎo)向成形部也具有相同的形狀和相同的尺寸?！皩?dǎo)向成形部-槽”配對如此分布，即，在每個“導(dǎo)向成形部-槽”配對中，該槽的寬度中心位置與對應(yīng)的導(dǎo)向成形部的寬度中心位置重合，并且如此選擇該位置，即該位置在室溫下處于靶中心的一個軸向上，在所述靶和/或所述靶架在較高溫度下熱脹之后保持不變地處于靶中心的相同軸向上。該靶可以具有任何形狀，例如可以是圓形、長方形、正方形、三角形或橢圓形的濺射靶。該框形靶架優(yōu)選由特種耐熱韌性鋼構(gòu)成，其浮動支承地容納該靶，如濺射靶。在框形靶架和濺射靶之間的尺寸公差容許在溫度升高時的膨脹，但沒有產(chǎn)生機(jī)械應(yīng)力。根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方式，該靶為圓盤形。根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方式，該框形靶架是支承環(huán)。根據(jù)本發(fā)明的支承環(huán)包括頂面2a、底面2c、內(nèi)側(cè)面2e和外側(cè)面2d，其中，支承環(huán)2用于將靶機(jī)械固定在濺射源體10上并且同時該支承環(huán)的內(nèi)側(cè)面2e至少部分包圍該靶的外側(cè)面1d。該定位環(huán)在其內(nèi)側(cè)面包括至少三個導(dǎo)槽或?qū)тN，其滿足定中功能。該靶相應(yīng)地在其外側(cè)面包括徑向“導(dǎo)向楔”或“導(dǎo)槽”，由此靶在支承環(huán)內(nèi)的導(dǎo)向總是對中的。相對定位環(huán)內(nèi)側(cè)面顛倒的、與靶外側(cè)面上的導(dǎo)銷和/或?qū)Р燮ヅ涞亩鄠€凹空部和/或延長部在定位環(huán)內(nèi)定中所述靶，并且如此選擇在靶的外側(cè)面和定位環(huán)的內(nèi)側(cè)面之間的縫隙，即可以在所有方向上發(fā)生長度和寬度變化。該靶優(yōu)選首先被安放到定位環(huán)上，從而對應(yīng)的“導(dǎo)銷-凹空部”和/或“導(dǎo)槽-延長部”配對被固定，并在需要時可采用固定夾子將該靶相對于定位環(huán)機(jī)械固定。彈性圈例如可以與此相關(guān)地很適合用作固定夾子。本發(fā)明范圍內(nèi)的定位環(huán)也被視為“墊圈”，因而也稱為墊圈，因為它被定位在所述靶和濺射源體之間。濺射源體優(yōu)選包括呈帶有活動膜的閉合冷卻板類型的、用于冷卻靶的冷卻裝置，從而通過被壓到靶背面上的活動膜獲得很好的冷卻作用或良好的導(dǎo)熱。當(dāng)濺射源體包括帶有活動膜的冷卻板裝置時，特別有利的是該墊圈由非磁性耐熱高韌性鋼制造。通過這種方式，避免了墊圈和進(jìn)而靶的彎曲，這種彎曲可能因為將活動膜均勻壓緊到靶背面上的液靜壓而出現(xiàn)。例如該定位環(huán)由耐熱鋼如1.3974鍛造，并在1020℃固溶退火1小時。定位環(huán)優(yōu)選在其外側(cè)面包括卡口接合，以便簡化已容置在定位環(huán)內(nèi)的本發(fā)明的靶安裝至濺射源體中、或從濺射源體拆下。為了改善傳熱和進(jìn)而降低濺射靶內(nèi)的熱負(fù)荷和功率密度增大，優(yōu)選如WO2013149692A1所述地在濺射靶的背面粘接碳膜。在采用本發(fā)明的靶-支座-濺射源體系統(tǒng)情況下，該靶不僅能以例如在大于0W/cm2至小于50W/cm2的范圍內(nèi)的低濺射功率密度來使用，也能以例如50W/cm2至100W/cm2的很高的濺射功率密度來使用。根據(jù)本發(fā)明，在該靶的外側(cè)面和定位環(huán)的內(nèi)側(cè)面之間的距離誤差必須如此選擇，即，計算具有不同膨脹系數(shù)α1和α2的不同材料1和2的百分比膨脹。例如，針對如上所述由典型涂覆材料如Al或Ti構(gòu)成的靶和由鋼1.3974構(gòu)成的定位環(huán)所構(gòu)成的組合，人們可以選擇相關(guān)尺寸的0.5-1.5％的距離誤差，更優(yōu)選為0.75至1.25％.即，對于這樣的系統(tǒng)和150mm靶直徑，人們可以根據(jù)本發(fā)明選擇0.5mm的徑向距離誤差S/2，這總體上意味著在直徑上的1mm距離誤差S，其約等于0.7％。就此而言，該徑向距離誤差S/2優(yōu)選在0.1mm至5mm之間，更優(yōu)選的是S/2在0.3mm至1mm之間，尤其優(yōu)選該S/2約為0.5mm。當(dāng)該靶根據(jù)本發(fā)明配設(shè)有導(dǎo)向成形部時，該導(dǎo)向成形部優(yōu)選由用以制造靶的相同材料構(gòu)成。當(dāng)定位環(huán)根據(jù)本發(fā)明配設(shè)有導(dǎo)向成形部時，該導(dǎo)向成形部優(yōu)選由用以制造定位環(huán)的相同材料構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選變型，所述靶的正側(cè)面不是平的。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選變型，所述靶的正側(cè)面大于所述靶的背側(cè)面。公開另一種作為用于PVD涂層的材料供體的涂覆源，包括：a)安置在支座中的板，包括板正面、板背面和定中機(jī)構(gòu)，其中，該板正面設(shè)置用于在PVD過程中該層材料從該表面轉(zhuǎn)變至氣相并且定中機(jī)構(gòu)被設(shè)計成保證在不同板溫度時的定中。b)設(shè)于板背面上的且?guī)в虚]合冷卻板的冷卻裝置，冷卻板呈活動膜狀，在此，為了保證在板背面和膜之間的良好熱接觸，將自粘的石墨膜粘附到該板背面上，其中，在該支座上和在該冷卻裝置上設(shè)有卡口接合的元件，從而該支座連同被定中的板借助卡口接合被固定到冷卻裝置上。在該涂覆源中，該板的材料可以具有第一熱脹系數(shù)α1，該支座的材料可以具有第二熱脹系數(shù)α2，在此α1>α2。在該涂覆源中，支座可以在板背面的邊緣區(qū)具有用于所述板的面安放的托座，該支座在板正面上方具有溝槽，從而在將板置入支座中之后，它在那里可借助咬入該溝槽中的夾緊環(huán)被固定。在該涂覆源中，支座可以由非磁性耐熱韌性鋼制造，優(yōu)選由鋼1.3974制造，其被鍛造且在1020℃被固溶退火1小時。在涂覆源上，可以設(shè)置用于連接電壓源的機(jī)構(gòu)，其允許靶相對于一個電極處于負(fù)電位，從而該靶可用作陰極，該電極可用作陽極。該陽極能圍繞該靶安放并以陽極環(huán)形式構(gòu)成。公開了一種具有至少一個如上所述的涂覆源的PVD設(shè)備。