一種真空滅弧室底涂工裝的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空滅弧室底涂工裝，包括底座，底座上轉(zhuǎn)動設(shè)置有切換真空滅弧室操作工位的水平旋轉(zhuǎn)的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上端設(shè)置有至少兩個沿公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤周向均勻分布的定位機構(gòu)單元，每個定位機構(gòu)單元包括用于承托真空滅弧室并對其定位的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤和用于對真空滅弧室進行限位的限位升降架，自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤包括轉(zhuǎn)動設(shè)置在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上端的托盤、設(shè)置在托盤上的定位結(jié)構(gòu)和驅(qū)動托盤自轉(zhuǎn)的驅(qū)動機構(gòu)，限位升降架固定設(shè)置在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上端，自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤和限位升降架共同作用使真空滅弧室的重心在自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤帶動其自轉(zhuǎn)時始終與其自轉(zhuǎn)軸線重合。本實用新型的真空滅弧室底涂工裝在保證了底涂涂覆均勻度的同時又能完成底涂和晾干的連續(xù)操作，省時省力，提高生產(chǎn)效率。
【專利說明】一種真空滅弧室底涂工裝

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種真空滅弧室底涂工裝。

【背景技術(shù)】
[0002]真空滅弧室包封前要先進行真空滅弧室磁殼的清洗，涂上硅烷偶聯(lián)劑以利于真空滅弧室磁殼與硅橡膠的緊密結(jié)合。目前國內(nèi)外關(guān)于真空滅弧室包封硅橡膠前處理的清洗、底涂涂覆一般采用手工操作，把真空滅弧室放置在桌面上，手動轉(zhuǎn)動真空滅弧室進行酒精擦洗，擦洗之后放置不少于15分鐘后，再進行底涂的涂覆。在清洗和底涂時，由于真空滅弧室本身質(zhì)量大，人工轉(zhuǎn)動真空滅弧室造成生產(chǎn)效率低下，且手工轉(zhuǎn)動容易出現(xiàn)清洗時漏擦、底涂時涂覆不均勻的問題，影響硅橡膠包封的質(zhì)量，降低了產(chǎn)品的合格率和生產(chǎn)效率。這就要求提供一種在保證底涂涂覆均勻度的同時又能提高生產(chǎn)效率的底涂工裝。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型的目的在于提供一種在保證底涂涂覆均勻度的同時又能提高生產(chǎn)效率的真空滅弧室底涂工裝。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案:一種真空滅弧室底涂工裝，包括底座，底座上轉(zhuǎn)動設(shè)置有用于切換真空滅弧室操作工位的水平旋轉(zhuǎn)的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤，所述的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上端設(shè)置有至少兩個沿公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤周向均勻分布的定位機構(gòu)單元，每個定位機構(gòu)單元包括用于承托真空滅弧室并對其定位的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤和用于對真空滅弧室進行限位的限位升降架，所述的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤包括轉(zhuǎn)動設(shè)置在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上端的用于承托真空滅弧室的托盤、設(shè)置在托盤上用于對真空滅弧室定位的定位結(jié)構(gòu)和驅(qū)動托盤自轉(zhuǎn)的驅(qū)動機構(gòu)，所述的限位升降架固定設(shè)置在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上端，所述的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤和限位升降架共同作用使真空滅弧室的重心在自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤帶動其自轉(zhuǎn)時始終與其自轉(zhuǎn)軸線重合。
[0005]所述的底座上還固設(shè)有熱風(fēng)機，熱風(fēng)機的風(fēng)口朝向公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤。
[0006]所述的定位結(jié)構(gòu)為固設(shè)在托盤上用于插入真空滅弧室的靜端螺孔的定位柱，且定位柱的旋轉(zhuǎn)軸線與托盤的旋轉(zhuǎn)軸線重合。
[0007]所述的托盤表面涂覆有硅橡膠層。
[0008]所述的轉(zhuǎn)盤與定位柱為一體成型結(jié)構(gòu)。
[0009]所述的限位升降架包括支柱和滑動設(shè)置在支柱上的限位板，所述的限位板上設(shè)置有與真空滅弧室動導(dǎo)電桿配合的限位孔，且限位孔的軸線與所述的托盤的旋轉(zhuǎn)軸線重合。
[0010]所述的驅(qū)動機構(gòu)包括固設(shè)在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤下端且與托盤直聯(lián)的電機，所述的底座上還設(shè)置有沿電機的運動軌跡的環(huán)槽。
[0011]本實用新型的真空滅弧室底涂工裝通過在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上設(shè)置多個定位機構(gòu)單元為真空滅弧室提供多個底涂工位，能夠同時開展多個底涂工作，在底涂工序完成后轉(zhuǎn)動公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤將真空滅弧室從底涂工位旋轉(zhuǎn)至熱風(fēng)機處進行晾干，就輕松地實現(xiàn)了將底涂工位切換至晾干工位的操作，操作簡單，并實現(xiàn)了連續(xù)操作，與此同時還在一些真空滅弧室進行底涂時不耽誤另外一些真空滅弧室的晾干工序，提高了生產(chǎn)效率。該底涂工裝中定位機構(gòu)單元的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤帶動真空滅弧室自轉(zhuǎn)避免了手工涂覆時費時費力且容易遺漏的問題，同時該定位機構(gòu)單元還設(shè)置了用于對真空滅弧室限位的限位升降架，該限位升降架與對真空滅弧室定位的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤共同作用，使真空滅弧室在旋轉(zhuǎn)時其重心始終與自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)軸線重合，避免了只有自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤帶動真空滅弧室旋轉(zhuǎn)時由于真空滅弧室的重心偏移自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)軸線造成的涂覆不均勻的現(xiàn)象發(fā)生。
[0012]此外，本實用新型的托盤上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)軸線與托盤旋轉(zhuǎn)軸線重合的定位柱，定位柱直接插入真空滅弧室的靜端螺孔內(nèi)，結(jié)構(gòu)簡單且能精確定位，確保了與限位升降架共同作用下帶動真空滅弧室轉(zhuǎn)動時真空滅弧室的重心與其自轉(zhuǎn)軸線重合。再者，托盤的表面還涂覆有硅橡膠層，能夠用來防止托盤磨損真空滅弧室的靜端銅殼。將限位升降架設(shè)置為支柱和滑動設(shè)置在支柱上的限位板，可滿足不同尺寸真空滅弧室的安裝要求并在完成真空滅弧室的底涂后便于取下真空滅弧室，在限位板上設(shè)置限位孔，在底涂工序時將限位孔套裝在真空滅弧室的動導(dǎo)電桿上對其限位防止了對導(dǎo)電桿的磨損。底座上固設(shè)的熱風(fēng)機加快了底涂晾干的速度，縮短底涂工序的時間，提高生產(chǎn)效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是真空滅弧室的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2是本實用新型一種實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖3是圖2的俯視圖；
[0016]圖4是圖2所不的真空滅弧室底涂工裝使用時的結(jié)構(gòu)不意圖。
[0017]圖中各附圖標記名稱為:1動導(dǎo)電桿，2靜端螺孔，3底座，4電機，5真空滅弧室，6熱風(fēng)機，7支撐轉(zhuǎn)軸，8公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤，9托盤，10定位柱，11支柱，12限位板，13限位孔。

【具體實施方式】
[0018]如圖1-3所示，一種真空滅弧室底涂工裝，包括底座3，底座3上轉(zhuǎn)動設(shè)置有水平旋轉(zhuǎn)的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤8，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤8上端設(shè)置有至少兩個沿公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤8周向均布的定位機構(gòu)單元，本實施例以兩個定位機構(gòu)單元為例加以說明，但實際使用時也可根據(jù)現(xiàn)場情況使用三個或三個以上定位機構(gòu)單元。每個定位機構(gòu)單元包括自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤和限位升降架，上述的限位升降架固定設(shè)置在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤8上端，上述的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤包括轉(zhuǎn)動設(shè)置在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤8上的托盤9、設(shè)置在托盤9上的定位結(jié)構(gòu)和驅(qū)動托盤9自轉(zhuǎn)的驅(qū)動機構(gòu)。上述的定位結(jié)構(gòu)為固設(shè)在托盤9上且旋轉(zhuǎn)軸線與托盤9旋轉(zhuǎn)軸線重合的定位柱10，在清洗和底涂時托盤9用于承托真空滅弧室5，定位柱10插入真空滅弧室5的靜端螺孔2對真空滅弧室5進行精確定位，為了降低加工成本并使得安裝簡便易行，將上述的轉(zhuǎn)盤與定位柱設(shè)置成一體成型結(jié)構(gòu)，此外，為了防止磨損真空滅弧室5的靜端銅殼，在托盤9表面涂覆硅橡膠層。
[0019]上述的驅(qū)動機構(gòu)包括固設(shè)在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤8下端與自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤直聯(lián)的電機4，電機4主軸通過聯(lián)軸器與設(shè)置在托盤9下端的動力輸入軸固連，當(dāng)然也可以根據(jù)現(xiàn)場情況取消動力輸入軸選擇直接在托盤9下端設(shè)置與電機4主軸配合的安裝孔，通過鍵連接或脹緊軸套將托盤9與電機4主軸固連。為了保證電機4隨公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤8的支撐轉(zhuǎn)軸7無阻礙旋轉(zhuǎn)，還在底座3上設(shè)置有沿電機4運動軌跡的環(huán)槽。
[0020]當(dāng)電機4驅(qū)動自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)時，為了防止真空滅弧室5的重心偏移自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)軸線造成底涂時涂覆不均勻的現(xiàn)象發(fā)生，采用上述的限位升降架來對真空滅弧室5進行限位，使真空滅弧室5在自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤和限位升降架的共同作用下，在旋轉(zhuǎn)時始終保持重心與自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)軸線重合。上述的限位升降架包括支柱11和滑動設(shè)置在支柱11上的限位板12，限位板12上設(shè)置與真空滅弧室5的動導(dǎo)電桿I配合的限位孔13，限位孔13的軸線與上述的托盤9的旋轉(zhuǎn)軸線重合，為了降低動導(dǎo)電桿I在限位孔13中轉(zhuǎn)動產(chǎn)生的磨損，可以在限位孔13內(nèi)安裝自潤滑軸套或軸承。上述的限位升降架可通過調(diào)節(jié)滑動設(shè)置在支柱11上的限位板12來滿足不同尺寸的真空滅弧室5的安裝要求，同時升起該限位板12來還方便取下完成底涂的真空滅弧室5。此外，為了縮短底涂后真空滅弧室5的靜置時間，在底座3上還固設(shè)有風(fēng)口朝向公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤的熱風(fēng)機6。
[0021]如圖4所示，上述實施例在使用時，轉(zhuǎn)動公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤8，使其中一個定位機構(gòu)單元轉(zhuǎn)動至底涂工位。將真空滅弧室5的靜端螺孔2套入定位柱10，然后滑動限位板12將限位孔13套在真空滅弧室5的動導(dǎo)電桿I上。檢查真空滅弧室5被定位機構(gòu)單元固定好后，開啟電機4，電機4驅(qū)動與其固連的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤帶動真空滅弧室5轉(zhuǎn)動，使用者將底涂均勻地涂覆在真空滅弧室5表面。底涂工序完成后，關(guān)閉電機4，轉(zhuǎn)動公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤8，將完成底涂工序的真空滅弧室5轉(zhuǎn)動至熱風(fēng)機6的晾干工位，開啟熱風(fēng)機6，待真空滅弧室5被晾干后，停止熱風(fēng)機6。在此期間，另一個定位機構(gòu)單元可以對另一真空滅弧室進行底涂的涂覆工作。提升完成晾干工序的真空滅弧室5上的滑動限位板12，取下真空滅弧室5。
[0022]以上為本實用新型的優(yōu)選實施例，在其它實施例中也可采用其它的方式，例如定位柱和托盤可以是組裝結(jié)構(gòu)；托盤上的定位結(jié)構(gòu)還可以是固設(shè)在托盤上的螺母和與螺母螺旋配合的兩個以上的螺栓，螺栓沿托盤的徑向延伸，螺栓靠近托盤的旋轉(zhuǎn)軸線的端部設(shè)有弧形卡爪，通過轉(zhuǎn)動螺栓來調(diào)節(jié)弧形卡爪的前進或后退，兩個以上的弧形卡爪聚攏時夾緊真空滅弧室外殼；驅(qū)動機構(gòu)還可以包括電機和傳動機構(gòu)，傳動機構(gòu)可以采用帶傳動機構(gòu)、齒輪傳動、鏈傳動等。
[0023]在其它實施例中，還可以將真空滅弧室倒裝在自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上，托盤上的定位結(jié)構(gòu)還可以是在托盤上開設(shè)的用于套設(shè)真空滅弧室的動導(dǎo)電桿的定位孔，通過該定位孔實現(xiàn)對真空滅弧室的定位，同時將與托盤配合的限位升降架設(shè)置為固設(shè)在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上端的支柱和滑動設(shè)置在該支柱的限位桿，該限位桿上設(shè)置有可插入真空滅弧室的靜端螺孔的插軸，插軸的軸線與定位孔的軸線重合。本領(lǐng)域技術(shù)人員也可以在不同情況下，根據(jù)本領(lǐng)域的設(shè)計常識進行等同替換，其都在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種真空滅弧室底涂工裝，其特征在于:包括底座，底座上轉(zhuǎn)動設(shè)置有用于切換真空滅弧室操作工位的水平旋轉(zhuǎn)的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤，所述的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上端設(shè)置有至少兩個沿公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤周向均勻分布的定位機構(gòu)單元，每個定位機構(gòu)單元包括用于承托真空滅弧室并對其定位的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤和用于對真空滅弧室進行限位的限位升降架，所述的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤包括轉(zhuǎn)動設(shè)置在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上端的用于承托真空滅弧室的托盤、設(shè)置在托盤上用于對真空滅弧室定位的定位結(jié)構(gòu)和驅(qū)動托盤自轉(zhuǎn)的驅(qū)動機構(gòu)，所述的限位升降架固定設(shè)置在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤上端，所述的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤和限位升降架共同作用使真空滅弧室的重心在自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤帶動其自轉(zhuǎn)時始終與其自轉(zhuǎn)軸線重合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室底涂工裝，其特征在于:所述的底座上還固設(shè)有熱風(fēng)機，熱風(fēng)機的風(fēng)口朝向公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室底涂工裝，其特征在于:所述的定位結(jié)構(gòu)為固設(shè)在托盤上用于插入真空滅弧室的靜端螺孔的定位柱，且定位柱的旋轉(zhuǎn)軸線與托盤的旋轉(zhuǎn)軸線重合。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空滅弧室底涂工裝，其特征在于:所述的托盤表面涂覆有硅橡膠層。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的一種真空滅弧室底涂工裝，其特征在于:所述的轉(zhuǎn)盤與定位柱為一體成型結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空滅弧室底涂工裝，其特征在于:所述的限位升降架包括支柱和滑動設(shè)置在支柱上的限位板，所述的限位板上設(shè)置有與真空滅弧室動導(dǎo)電桿滑動配合的限位孔，且限位孔的軸線與所述的托盤的旋轉(zhuǎn)軸線重合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室底涂工裝，其特征在于:所述的驅(qū)動機構(gòu)包括固設(shè)在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤下端且與托盤直聯(lián)的電機，所述的底座上還開設(shè)有沿電機的運動軌跡的環(huán)槽。
【文檔編號】H01H33/664GK204088124SQ201420360774
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年6月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月30日
【發(fā)明者】劉隨軍, 王茂玉, 張國躍, 甘新華, 郭國領(lǐng), 李競 申請人:天津平高智能電氣有限公司