具有像素界定層的顯示面板及像素界定層的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明的實施例提供一種具有像素界定層的顯示面板以及像素界定層的制造方法，該具有像素界定層的顯示面板，包括：基板；多個像素區(qū)域，呈矩陣分布在所述基板上；所述像素界定層，設置在所述基板上，且所述像素界定層包括：多個開口；像素分隔體，圍設形成所述多個開口的每個且限定所述多個像素區(qū)域，其中所述像素分隔體的用于限定所述像素區(qū)域的側壁形成為上部的坡角大于下部的坡角。
【專利說明】具有像素界定層的顯示面板及像素界定層的制造方法

【技術領域】
[0001]本發(fā)明的實施例涉及一種具有像素界定層的顯示面板及該像素界定層的制造方法。

【背景技術】
[0002]有機電致發(fā)光顯示器，具有自發(fā)光、反應快、視角廣、亮度高、色彩艷、輕薄等優(yōu)點，因此，有機電致發(fā)光顯示技術已成為一種重要的顯示技術。
[0003]目前，有機電致發(fā)光顯示器的有機電致發(fā)光層形成方法有:一、采用蒸鍍制程，該方法適用于有機小分子，其特點是有機電致發(fā)光層的形成不需要溶劑，膜厚度均一，但是設備投資大、材料利用率低、不適用于大尺寸產品的生產；二、采用有機電致發(fā)光材料的溶液進行旋涂、噴墨打印、噴嘴涂覆法、絲網印刷等方法，這些方法適用于聚合物材料和可溶性小分子，其特點是設備成本低，在大規(guī)模、大尺寸生產上優(yōu)勢突出。特別是噴墨打印技術能將溶液精準的噴墨到像素區(qū)域中，由于其材料利用率較高、可以實現(xiàn)大尺寸化，被認為是大尺寸有機電致發(fā)光顯示器實現(xiàn)量產的重要方式。
[0004]噴墨打印工藝需要預先在基板上制作像素界定層(TOL)，以限定墨滴精確的噴入指定的像素區(qū)域。通常，PDL結構的截面形狀以正梯形(圖1)應用為主，如圖1所示，像素界定層20形成在基板10上，在由像素界定層20限定的像素區(qū)域40中形成有有機發(fā)光層30，這里形成像素界定層20的材料為疏液性材料，從而保證噴墨打印有機發(fā)光層30時墨滴不會溢出到像素區(qū)域之外。但是墨滴與像素界定層20接觸處由于兩者間表面能差異、PDL的大的坡角以及墨滴自身干燥行為，墨滴干燥后容易形成邊緣薄、中間厚的不均勻薄膜，尤其是在像素區(qū)域的邊緣處膜厚差異很大，正如圖1中虛線圓圈出的區(qū)域A所示。由此，所得到的結構會導致在像素區(qū)域的邊緣存在針孔(Pinhole)而漏電。而且，對于圖1所示的像素界定層，發(fā)光層30用于發(fā)光的區(qū)域B與整個像素區(qū)域40的面積大致相等，由于發(fā)光區(qū)域B內發(fā)光層厚度不均勻，由此會導致像素區(qū)域亮度不均。


【發(fā)明內容】

[0005]本發(fā)明的實施例提供一種具有像素界定層的顯示面板及像素界定層的制造方法，能夠提高墨滴在像素區(qū)域內的成膜均勻性，提升像素區(qū)域的發(fā)光均勻性，且提升有機發(fā)光器件的發(fā)光壽命。
[0006]一方面，本發(fā)明的實施例提供一種具有像素界定層的顯示面板，該顯示面板包括:基板；多個像素區(qū)域，呈矩陣分布在所述基板上；所述像素界定層，設置在所述基板上，且所述像素界定層包括:多個開口 ；像素分隔體，圍設形成所述多個開口的每個且限定所述多個像素區(qū)域，其中所述像素分隔體的用于限定所述像素區(qū)域的側壁形成為上部的坡角大于下部的坡角。
[0007]備選地，沿著朝向所述基板的方向，所述側壁的下部的坡角逐漸變小，且在所述像素分隔體與所述基板的界面處，所述下部的坡角大致為零。
[0008]備選地，所述側壁的上部的坡角恒定；和/或，所述側壁的下部的坡角恒定。
[0009]備選地，在沿著所述朝向基板的方向上，所述側壁的上部的坡角逐漸變大。
[0010]備選地，在沿著所述朝向基板的方向上，用于限定所述像素區(qū)域的所述側壁形成為從所述像素分隔體的上表面到所述像素分隔體的下表面坡角先由小變大然后再由大變小。
[0011]備選地，所述像素分隔體的上部由疏液性材料形成，所述像素分隔體的下部由親液性材料形成。
[0012]備選地，所述像素分隔體由一種上下異性雙功能像素分隔材料形成。
[0013]備選地，所述上下異性雙功能像素分隔材料為感光材料。
[0014]備選地，在所述下部，所述側壁形成為平滑的曲面。
[0015]另一方面，本發(fā)明的實施例提供一種像素界定層的制造方法，該制造方法包括:提供基板；在所述基板上形成像素界定材料層；通過構圖工藝圖案化所述像素界定材料層，以形成包括多個開口和像素間隔體的所述像素界定層，其中所述像素分隔體圍繞每個所述開口且限定像素區(qū)域，所述像素分隔體的用于限定所述像素區(qū)域的側壁形成為上部的坡角大于下部的坡角。
[0016]備選地，在基板上形成所述像素界定材料層包括:在所述基板上涂敷一層上下異性雙功能像素分隔材料；并且通過構圖工藝圖案化所述像素界定材料層以形成包括多個開口和像素間隔體的所述像素界定層包括:對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行前烘；利用掩模板對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行曝光；顯影所述上下異性雙功能像素分隔材料；對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行后烘，其中所述像素間隔體的上部為疏液性，所述像素間隔體的下部為親液性。
[0017]備選地，在所述基板上涂敷一層上下異性雙功能像素分隔材料包括:以600rpm的速度在所述基板上進行20秒鐘的旋涂；對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行前烘包括:在100°C下進行所述前烘120秒鐘；利用掩模板對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行曝光包括:在所述掩模板與所述上下異性雙功能像素分隔材料之間的距離為50 μ m且曝光能量為200mj/cm2下進行所述曝光。
[0018]備選地，在基板上形成所述像素界定材料層包括:在所述基板上涂敷一層親液性材料層；在所述親液性材料層上涂敷一層疏液性材料層；并且，通過構圖工藝圖案化所述像素界定材料層，以形成包括多個開口和像素間隔體的像素界定層，包括:利用掩模板通過構圖工藝圖案化所述疏液性材料層和所述親液性材料層以形成所述多個開口。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例的技術方案，下面將對實施例的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本發(fā)明的一些實施例，而非對本發(fā)明的限制。
[0020]圖1是現(xiàn)有的像素界定層結構的截面示意圖；
[0021]圖2是根據本發(fā)明實施例的具有像素界定層的顯示面板的平面圖；
[0022]圖3是根據本發(fā)明實施例的一種像素界定層的結構截面圖；
[0023]圖4是根據本發(fā)明實施例的另一種像素界定層的結構截面圖；
[0024]圖5是根據本發(fā)明實施例的再一種像素界定層的結構截面圖；
[0025]圖6是根據本發(fā)明實施例的再一種像素界定層的結構截面圖；
[0026]圖7是根據本發(fā)明實施例的像素界定層的制造方法中形成像素界定層之前基板的截面圖；
[0027]圖8是根據本發(fā)明實施例的像素界定層的制造方法中形成像素界定材料層后的截面圖；
[0028]圖9是根據本發(fā)明實施例的像素界定層的制造方法中形成像素界定層后的截面圖；
[0029]圖10(a)、10(b)和10(c)是根據本發(fā)明實施例的像素界定層的制造方法中分別在180mj/cm2、200mj/cm2、220mj/cm2的曝光能量下曝光采用上下異性雙功能像素分隔材料形成的像素界定材料層之后得到的像素界定層的截面圖；以及
[0030]圖11是在根據本發(fā)明實施例的像素界定層的制造方法中形成像素界定層之后進一步形成有機發(fā)光顯示面板的截面圖。

【具體實施方式】
[0031]為使本發(fā)明實施例的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合本發(fā)明實施例的附圖，對本發(fā)明實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例?；谒枋龅谋景l(fā)明的實施例，本領域普通技術人員在無需創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0032]本發(fā)明的實施例提供一種具有像素界定層的顯示面板及像素界定層的制造方法，該顯示面板包括:基板；多個像素區(qū)域，呈矩陣分布在所述基板上；像素界定層，設置在所述基板上。所述像素界定層包括:多個開口 ；以及像素分隔體，圍設形成所述多個開口的每個且限定所述多個像素區(qū)域，其中所述像素分隔體的用于限定所述像素區(qū)域的側壁形成為上部的坡角大于下部的坡角。由于采用本發(fā)明實施例的像素界定層，當采用噴墨打印技術形成例如有機發(fā)光顯示器件(Organic light emitting device)時,能夠提高墨滴在像素區(qū)域內的成膜均勻性，且由于下部坡角小于上部坡角，部分像素不均勻區(qū)域不發(fā)光，根據本發(fā)明實施例的顯示面板具有提高的像素區(qū)域的發(fā)光均勻性，從而提升了顯示面板的顯示質量。而且，采用了本發(fā)明實施例的像素界定層，在一定程度上消除了墨滴在像素間隔體邊緣的咖啡環(huán)現(xiàn)象，消除了由于針孔引起的漏電，從而提升了采用該像素界定層的顯示面板中發(fā)光器件的壽命。
[0033]需要說明的是，所述像素界定層側壁的上部是指像素界定層遠離基板的部分的側壁，下部是指像素界定層靠近基板的部分的側壁，上部和下部并沒有明確的界限，只要整體上，像素界定層側壁的上部比下部更陡，就可以認為像素界定層側壁的上部的坡度角比下部的坡度角大。
[0034]以下將結合附圖具體說明本發(fā)明實施例提供的具有像素界定層的顯示面板及像素界定層的制造方法。
[0035]第一實施例
[0036]根據本發(fā)明的第一實施例提供了一種具有像素界定層的顯示面板，圖2是具有像素界定層的顯示面板的平面示意圖，在圖2中，基板I上形成有多個像素區(qū)域4，該多個像素區(qū)域4呈矩陣分布，這里為了簡潔僅示出了部分像素區(qū)域，像素界定層2形成在基板I上，像素界定層2包括多個開口 21和圍設開口而用于限定像素區(qū)域4的像素分隔體22。
[0037]圖3是沿圖2中的A-A’線剖取的截面圖，如圖3所示，像素分隔體22的用于限定所述像素區(qū)域的側壁221，也就是，朝向像素區(qū)域4的側壁，形成為上部的坡角大于下部的坡角。示例性地，在由開口 21限定的像素區(qū)域4內，在基板I上還形成有膜層3。
[0038]這里以顯示面板是有機發(fā)光顯示面板為例，例如，形成在基板I上的膜層3為有機發(fā)光層，由圖3可以看出，在整個像素區(qū)域4內由于下部的坡角較小，像素分隔體22的下部延伸進入像素區(qū)域，這樣，僅圖中的B區(qū)域的具有均勻厚度的有機發(fā)光層3能夠發(fā)光，而B區(qū)域之外的具有不均勻膜厚的有機發(fā)光層3由于像素分隔體介入基板I與有機發(fā)光層3之間而不發(fā)光，這樣，在像素區(qū)域邊緣的厚度不均勻的有機發(fā)光層并不發(fā)光，而僅厚度均勻的有機發(fā)光層3發(fā)光，從而減小了像素區(qū)域內的發(fā)光不均勻性。
[0039]這里，坡角是指側壁所在的面或切面與水平面，也就是，基板所在平面的夾角，應該注意的是，如果側壁是曲面，則坡角就是側壁的切面與基板所在平面的夾角。
[0040]示例性地，圖3示出了側壁221上部的坡角恒定，且下部的坡角也恒定的情況，具體地，如圖3所示，側壁221的下部的坡角為α，而側壁的上部的坡角為β，由圖可見，α遠小于β，從而側壁的下部延伸進入像素區(qū)域4內部，而隔離了基板I和有機發(fā)光層3，從而具有不均勻厚度的有機發(fā)光層3不發(fā)光。
[0041]備選地，側壁221的下部的坡角可以在朝向基板的方向上逐漸變小，而上部的坡角保持恒定。例如，如圖4所示，側壁221的下部可以形成為光滑的曲面，其中以側壁221上的點O為例，O點處的坡角如圖4所示為a。由圖可見，側壁221下部的任意位置處的坡角均小于上部的坡角。由此，當側壁的下部形成為坡角逐漸減小，例如，下部形成為光滑的曲面時，與圖3所示的下部為坡角恒定的斜面相比，有機發(fā)光層3與像素分隔體平滑接觸，從而使有機發(fā)光材料沿光滑的側壁形成相應的邊緣較光滑的發(fā)光層，因此，成膜質量進一步提聞，可以進一步提聞有機發(fā)光器件的壽命，改善像素區(qū)域的發(fā)光不均勻性。
[0042]進一步地，側壁221的上部也可以形成為在朝向基板的方向上坡角逐漸變化，例如，逐漸變大，而相應地，此時側壁221下部的坡角保持恒定或逐漸變小，但上部的坡角總是大于下部的坡角。示例性地，當側壁上部的坡角逐漸變大而下部的坡角逐漸變小時，在朝向基板的方向上，側壁221形成為從像素分隔體22的上表面到像素分隔體的下表面坡角先由小變大然后再由大變小。
[0043]進一步地，為了避免不同顏色的像素區(qū)域的混色問題，在根據本發(fā)明實施例的具有像素界定層的顯示面板中，像素分隔體22的上部可以形成為疏液性，對有機電致發(fā)光材料的溶液具有排斥性，而下部形成為親液性，對有機電致發(fā)光材料的溶液具有吸引性。采用上部和下部具有不同浸潤性的像素分隔體，當有機電致發(fā)光材料落在具有疏液性的上部時，二者之間的排斥作用會使得液滴狀有機電致發(fā)光材料容易朝向基板方向自動滑落回對應顏色的像素區(qū)域內，而不會流到相鄰其他顏色的像素區(qū)域內。由此避免了相鄰不同顏色的像素區(qū)域的有機發(fā)光材料混色的問題。
[0044]備選地，像素分隔體22的上部可以由疏液性材料形成，而其下部可以由親液性材料形成。
[0045]示例性地，由于親液性和疏液性是相對于有機電致發(fā)光材料來定義的，因此，無論有機電致發(fā)光材料為疏液性材料還是親液性材料，像素分隔體22的上部均由表面能小于有機電致發(fā)光材料的材料形成，而像素分隔體22的下部則由表面能大于有機電致發(fā)光材料的材料形成，例如，當形成有機電致發(fā)光層的墨水的溶劑為乙二醇乙醚時，像素分隔體22的上部的形成材料可以包括聚硅氧烷類、氟碳氫類等，像素分隔體22的下部的形成材料可以包括聚酰胺類聚合物、環(huán)氧樹脂等。
[0046]備選地，像素分隔體22可以由上下異性雙功能像素分隔材料，例如，旭硝子雙功能像素分隔材料制成，利用上下異性雙功能像素分隔材料形成的像素分隔體22上部具有疏液性而下部具有親液性，具體示例可參見圖5。
[0047]下面，以旭硝子雙功能像素分隔材料為例對由這樣的材料形成的像素分隔體具有上下異性的過程進行簡述。由旭硝子雙功能像素分隔材料形成的像素分隔體上部為氟樹月旨，下部為聚酰亞胺樹脂。氟樹脂為納米級低表面能固體顆粒，在未涂敷時懸浮在高表面能的光刻膠溶劑里面。由于氟樹脂密度小，又不溶于溶劑，在旋涂工藝及真空干燥過程中氟樹脂會逐漸上升到薄膜的表面。通過曝光、顯影等工藝得到圖案化的雙功能像素界定層，之后再通過后烘工藝，薄膜徹底固化，從而形成上部為疏液性下部為親液性的像素界定層。
[0048]上面以形成在基板上的為有機發(fā)光層作為示例進行了說明，但對于有機發(fā)光顯示面板，各像素區(qū)域內設置有一個有機發(fā)光器件，OLED—般包括至少三層:陰極/陽極層、發(fā)光功能層以及陽極/陰極層，而發(fā)光功能層可以包括:空穴注入層、空穴傳輸層、有機發(fā)光層、電子注入層、電子傳輸層等，每一層例如采用噴墨打印的方法形成。因此，在每個像素區(qū)域內除了形成有機發(fā)光層3外，還可以形成有采用噴墨打印形成的空穴注入層、空穴傳輸層等。以上技術效果同樣適用于采用噴墨打印形成的這些層，這里不再進行重復贅述。
[0049]這里，應該注意的是，像素間隔體的上部和下部以及側壁的上部和下部是指像素分隔體浸潤性不同的兩個部分，例如，上部為疏液性而下部為親液性。
[0050]示例性地，本發(fā)明實施例中的基板是形成像素界定層之前的基板，其可以是襯底基板也可以是在襯底基板(例如，玻璃、硅片、石英等)上形成多個薄膜或層的得到的結構。當顯示面板為有機發(fā)光顯示面板時，如圖7所示，基板I包括襯底基板11以及形成在沉積在襯底基板上的陽極層15。對于底發(fā)光型0LED，可以設置透明性的陽極層和反射型的陰極層來形成，而對于頂發(fā)光型0LED，可以設置透明性的陰極層和反射型的陽極層來形成。因此，根據OLED器件結構的不同，選擇不同的陽極材料，通常是氧化銦錫(ITO)、Ag、N1, Al、石墨烯等高功函的透明或半透明材料，本發(fā)明的實施例對此不做限定。
[0051]示例性地，根據本發(fā)明實施例的具有像素界定層的顯示面板還可以為液晶顯示面板，濾色器材料通過噴墨打印技術填充到像素分隔體21限定的開口 22中，以形成圖案化的濾色器層。這時，基板可以為液晶顯示面板的陣列基板或濾色器基板，本發(fā)明的實施例對此不做限定。
[0052]這里，應該注意的是，本文所稱的坡角逐漸變大或變小，是指坡角連續(xù)變化或者坡角不連續(xù)變化，本發(fā)明的實施例對此不做限定。
[0053]根據本發(fā)明實施例的具有像素界定層的顯示面板，該像素界定層包括限定多個開口的像素分隔體，通過使像素分隔體的側壁的下部的坡角小于其上部的坡角，像素間隔體的側壁可以延伸進入像素區(qū)域，從而介入基板與有機發(fā)光層之間，使得像素區(qū)域邊緣處具有不均勻厚度的有機發(fā)光層并不參與發(fā)光，而僅具有均勻厚度的有機發(fā)光層發(fā)光。由此在一定程度上減小了像素區(qū)域的發(fā)光不均勻性，提高了顯示器件的顯示質量。而且，由于采用這樣的像素界定層，當采用噴墨打印技術形成膜層時，能夠提高墨滴在像素區(qū)域內的成膜均勻性，這在一定程度上消除了墨滴在像素間隔體邊緣的咖啡環(huán)現(xiàn)象，消除了由于針孔引起的漏電，從而提升了采用該像素界定層的有機發(fā)光器件的壽命。
[0054]第二實施例
[0055]根據本發(fā)明的第二實施例提供了一種根據第一實施例的像素界定層的制造方法。
[0056]步驟S101、提供基板。
[0057]本發(fā)明實施例中的基板是在形成像素界定層之前的基板，其可以是襯底基板也可以是在襯底基板上形成多個薄膜或層而得到的結構。所述襯底基板可以是玻璃、硅片、石英等。例如，如圖7所示，所述基板包括襯底基板11及形成在襯底基板11上的陽極層15。作為示例，在下面的描述中均以基板I包括襯底基板11及形成在襯底基板11上的陽極層15為例進行說明。
[0058]步驟S102、在基板I上形成像素界定材料層。
[0059]在本步驟中，形成像素界定材料層的方法可以是氣相沉積(CVD)、旋涂(spincoating)和刮涂等，本發(fā)明的實施例對此不做限制，需要根據待形成的膜層的材料進行選擇。
[0060]步驟S103、通過構圖工藝圖案化像素界定材料層，以形成包括多個開口和像素間隔體的所述像素界定層，其中每個所述開口例如與每個或多個像素區(qū)域相對應，所述像素分隔體圍設形成每個開口，所述像素分隔體的用于限定所述像素區(qū)域的側壁形成為上部的坡角大于下部的坡角，如圖3所示。
[0061]這里，本發(fā)明實施例的構圖工藝可以至少包括曝光、顯影、刻蝕(濕法刻蝕或干法刻蝕)等過程。
[0062]示例性地，像素間隔體的側壁的下部的坡角可以在朝向基板的方向上逐漸變小，而上部的坡角保持恒定或者上部的坡角在朝向基板的方向上逐漸變大；或者，像素間隔體的側壁的下部的坡角可以保持恒定，而上部的坡角也恒定或者上部的坡角可以在朝向基板的方向上逐漸變大。
[0063]示例性地，當側壁上部的坡角逐漸變大而下部的坡角逐漸變小時，在朝向基板的方向上，像素分隔體的側壁形成為從像素分隔體的上表面到像素分隔體的下表面坡角先由小變大然后再由大變小。
[0064]備選地，像素間隔體的側壁的下部形成為光滑的曲面，這樣可以進一步提高成膜質量。
[0065]示例性地，像素分隔體的側壁形成為從像素分隔體的上表面到像素分隔體的下表面坡角先由小變大然后再由大變小，且像素間隔體的側壁的下部形成為光滑的曲面時，像素分隔體的上部也可以形成為與側壁的下部向上延伸的光滑的曲面，像素分隔體的上表面可以形成為與側壁的上部向上延伸的光滑的曲面，如圖10(a)至圖10(c)所示。
[0066]進一步地，像素分隔體的上部可以形成為疏液性，對有機電致發(fā)光材料的溶液具有排斥性，而下部形成為親液性，對有機電致發(fā)光材料的溶液具有吸引性。示例性地，像素分隔體的上部可以由疏液性材料形成，而其下部可以由親液性材料形成；或者，像素分隔體可以由上下異性雙功能像素分隔材料，例如，旭硝子雙功能像素分隔材料制成，利用上下異性雙功能像素分隔材料形成的像素分隔體上部具有疏液性而下部具有親液性。
[0067]下面，以像素界定層由上下異性雙功能像素分隔材料形成作為示例對像素界定層的制造方法進行詳細說明。
[0068]準備好基板I之后，繼續(xù)下面的步驟。
[0069]步驟S102:在基板I上形成像素界定材料層包括:
[0070]在基板I上涂敷一層上下異性雙功能像素分隔材料12，如圖8所示。
[0071]例如，在圖7所示的基板上通過旋涂、刮涂等形成一層光刻膠薄膜，例如，旭硝子雙功能像素分隔材料，該光刻膠薄膜的厚度為0.1 μ m-100 μ m,例如，I μ m-5 μ m。
[0072]例如，可以在10rpm(轉/分鐘)_5000rpm(轉/分鐘)的轉速下旋涂而形成光刻膠薄膜。對于旋涂法，轉速越大，所形成的光刻膠薄膜越薄，可以根據所要形成的光刻膠膜的厚度而適當地選擇旋涂的轉速，本發(fā)明的實施例對此不做限定。
[0073]步驟S103:通過構圖工藝圖案化所述像素界定材料層以形成包括多個開口和像素間隔體的所述像素界定層。
[0074]該步驟103的一個示例包括:
[0075]對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行前烘；
[0076]利用掩模板對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行曝光；
[0077]顯影所述上下異性雙功能像素分隔材料；
[0078]對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行后烘。
[0079]所述像素間隔體的上部為疏液性，所述像素間隔體的下部為親液性，圖9給出一種示例性的像素分隔體結構。
[0080]示例性地，前烘時采用的前烘溫度可以為100°C _200°C，這里，前烘溫度越高，側壁下部的最大坡角越大。因此，可以根據所要形成的坡角而適當地選擇前烘溫度，本發(fā)明的實施例對此不做限定。
[0081]示例性地，采用掩模對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行曝光的工藝條件為:掩模板與待曝光的上下異性雙功能像素分隔材料之間的距離為5μπι-500μπι ;曝光能量可以為20mj/cm2 (毫焦/平方厘米)-1000mj/cm2 (毫焦/平方厘米)。通常情況下，掩模板與待曝光的上下異性雙功能像素分隔材料之間的距離越大，像素分隔體側壁下部的最大坡角越小，曝光能量越大，側壁下部的最大坡角越小，且對于不同的上下異性雙功能像素分隔材料，曝光能量也所有不同，本發(fā)明的實施例對此不做限定，本領域的技術人員可以根據實際選擇的上下異性雙功能像素分隔材料以及待形成的像素界定層結構進行選擇。
[0082]例如，為了得到像素間隔體的側壁的下部為坡角逐漸減小的光滑曲面，可以在600rpm的轉速下旋涂20s (秒)得到1.5 μ m厚的像素界定材料層，然后在100°C下前烘120s，采用掩模板在掩模板與待曝光的上下異性雙功能像素分隔材料之間的距離為50 μ m且曝光能量為180mj/cm2、200mj/cm2、220mj/cm2的條件下進行曝光，而得到所期望的像素分隔體結構，圖 10(a)、10(b)和 10(c)分別示出了在 180mj/cm2、200mj/cm2、220mj/cm2 的曝光能量下得到的像素分隔體的掃描電鏡(SEM)截面圖。由圖10(a)-(c)可見，隨著曝光能量的增加，像素分隔體的下部的最大坡角變小，在220mj/cm2的曝光能量下，所形成的像素分隔體的拖尾很大。
[0083]這里，通過前烘溫度、曝光能量、掩模板與待曝光膜層之間的距離以及后烘溫度等的精確調整，可以得到側壁下部坡角小于上部坡角，例如，下部坡角逐漸減小的像素分隔體，
[0084]示例性地，下面對采用兩種材料分別形成上部疏液性和下部親液性的像素界定層的制造方法進行說明。
[0085]提供基板I之后，在基板I上形成像素界定材料層包括:
[0086]在基板I上涂敷一層親液性材料層；
[0087]在所述親液性材料層上涂敷一層疏液性材料層。
[0088]然后，利用掩模板通過構圖工藝圖案化所述疏液性材料層和所述親液性材料層以形成所述多個開口。
[0089]進一步地，如果采用該像素界定層的顯示面板為有機發(fā)光顯示面板，則在形成像素界定層之后，還需要:采用噴墨打印形成發(fā)光功能層，例如，發(fā)光功能層包括空穴注入層、空穴傳輸層、有機發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層等。然后，在發(fā)光功能層上蒸鍍陰極層/陽極層6等，如圖11所示。
[0090]示例性地，如果采用該像素界定層的顯示面板為液晶顯示面板，則在形成像素界定層之后，需要:在像素界定層開口中填充各種濾色器材料，以形成圖案化的濾色器層。
[0091]對于根據本發(fā)明實施例的具有像素界定層的顯示面板以及像素界定層的制造方法，該像素界定層包括:多個開口 ；以及像素分隔體，圍設形成所述多個開口的每個且限定多個像素區(qū)域，像素分隔體的用于限定像素區(qū)域的側壁形成為上部的坡角大于下部的坡角。由于采用這樣的像素界定層，當采用噴墨打印技術形成例如有機發(fā)光顯示器件(OLED)時，能夠提高墨滴在像素區(qū)域內的成膜均勻性，且由于下部坡角小于上部坡角，部分像素不均勻區(qū)域不發(fā)光，根據本發(fā)明實施例的顯示面板具有提高的像素區(qū)域的發(fā)光均勻性，從而提升了顯示面板的顯示質量。采用根據本發(fā)明實施例的像素界定層，在一定程度上消除了墨滴在像素間隔體邊緣的咖啡環(huán)現(xiàn)象，消除了由于針孔引起的漏電，從而提升了采用該像素界定層的顯示面板中發(fā)光器件的壽命。以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實施方式】，但本發(fā)明實施例的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術領域】的技術人員在本發(fā)明實施例揭露的技術范圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發(fā)明實施例的保護范圍之內。
【權利要求】
1.一種具有像素界定層的顯示面板，包括: 基板； 多個像素區(qū)域，呈矩陣分布在所述基板上； 所述像素界定層，設置在所述基板上，且所述像素界定層包括: 多個開口 ； 像素分隔體，圍設形成所述多個開口的每個，且限定所述多個像素區(qū)域， 其中所述像素分隔體的用于限定所述像素區(qū)域的側壁形成為上部的坡角大于下部的坡角。
2.根據權利要求1所述的具有像素界定層的顯示面板，其中沿著朝向所述基板的方向，所述像素分隔體側壁的下部的坡角逐漸變小。
3.根據權利要求2所述的具有像素界定層的顯示面板，其中在所述像素分隔體與所述基板的界面處，所述像素分隔體側壁的下部的坡角大致為零。
4.根據權利要求1所述的具有像素界定層的顯示面板，其中所述像素分隔體側壁的下部的坡角恒定。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的具有像素界定層的顯示面板，其中所述像素分隔體的側壁上部的坡角恒定。
6.根據權利要求2-4中任一項所述的具有像素界定層的顯示面板，其中在沿著所述朝向基板的方向上，所述側壁的上部的坡角逐漸變大。
7.根據權利要求6中任一項所述的具有像素界定層的顯示面板，其中在沿著所述朝向基板的方向上，用于限定所述像素區(qū)域的所述側壁形成為從所述像素分隔體的上表面到所述像素分隔體的下表面坡角先由小變大然后再由大變小。
8.根據權利要求1-7中任一項所述的具有像素界定層的顯示面板，其中所述像素分隔體的上部為疏液性，所述像素分隔體的下部為親液性。
9.根據權利要求8所述的具有像素界定層的顯示面板，其中所述像素分隔體的上部由疏液性材料形成，所述像素分隔體的下部由親液性材料形成。
10.根據權利要求8所述的具有像素界定層的顯示面板，其中所述像素分隔體由上下異性雙功能像素分隔材料形成。
11.根據權利要求10所述的具有像素界定層的顯示面板，其中所述上下異性雙功能像素分隔材料為感光材料。
12.根據權利要求1-11中任一項所述具有像素界定層的顯示面板，其中所述像素分隔體的高度為I μ m-5 μ m。
13.根據權利要求2或3所述的具有像素界定層的顯示面板，其中在所述下部，所述側壁形成為平滑的曲面。
14.一種像素界定層的制造方法，包括: 提供基板； 在所述基板上形成像素界定材料層； 通過構圖工藝圖案化所述像素界定材料層，以形成包括多個開口和像素間隔體的像素界定層， 其中所述像素分隔體圍設形成每個所述開口且用于限定像素區(qū)域，所述像素分隔體的用于限定所述像素區(qū)域的側壁形成為上部的坡角大于下部的坡角。
15.根據權利要求14所述的像素界定層的制造方法，其中在基板上形成所述像素界定材料層包括: 在所述基板上涂敷一層上下異性雙功能像素分隔材料；并且 所述通過構圖工藝圖案化所述像素界定材料層以形成包括多個開口和像素間隔體的所述像素界定層包括: 對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行前烘； 利用掩模板對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行曝光； 顯影所述上下異性雙功能像素分隔材料； 對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行后烘； 其中所述像素間隔體的上部為疏液性，所述像素間隔體的下部為親液性。
16.根據權利要求15所述的像素界定層的制造方法，其中在所述基板上涂敷一層上下異性雙功能像素分隔材料包括:以100rpm-5000rpm的速度在所述基板上旋涂得到0.Ιμπι-ΙΟΟμπι厚的所述像素界定材料層；所述對上下異性雙功能像素分隔材料進行前烘包括:在100°C -20(TC下進行所述前烘；所述利用掩模板對所述上下異性雙功能像素分隔材料進行曝光包括:在所述掩模板與所述上下異性雙功能像素分隔材料之間距離為5 μ m-500 μ m且曝光能量為20mj/cm2-1000mj/cm2的條件下進行所述曝光。
17.根據權利要求14所述的像素界定層的制造方法，其中在基板上形成所述像素界定材料層包括: 在所述基板上涂敷一層親液性材料層； 在所述親液性材料層上涂敷一層疏液性材料層；并且， 通過構圖工藝圖案化所述像素界定材料層，以形成包括多個開口和像素間隔體的像素界定層，包括:利用掩模板通過構圖工藝圖案化所述疏液性材料層和所述親液性材料層以形成所述多個開口。
18.根據權利要求14-17中任一項所述的像素界定層的制造方法，其中沿著朝向所述基板的方向，所述側壁的下部的坡角逐漸變小。
19.根據權利要求18所述的像素界定層的制造方法，其中在所述像素分隔體與所述基板的界面處，所述下部的坡角大致為零。
20.根據權利要求14-17中任一項所述的像素界定層的制造方法，其中所述下部的坡角恒定。
【文檔編號】H01L51/56GK104241329SQ201410418005
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年8月22日 優(yōu)先權日:2014年8月22日
【發(fā)明者】王輝鋒, 劉則 申請人:京東方科技集團股份有限公司