用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板，用于在圖形化藍(lán)寶石襯底的蝕刻過(guò)程中形成蝕刻圖案，包括由金屬材料制成的遮擋蓋板和覆蓋于所述的遮擋蓋板上表面的耐腐蝕層，所述的遮擋蓋板上的預(yù)定位置制作有掩膜圖形。由于采用了以上技術(shù)方案，本發(fā)明通過(guò)使用具有良好導(dǎo)電特性的金屬材料作為蓋板的主體，并且為了防止金屬材質(zhì)在等離子體氛圍中的過(guò)度消耗，在以金屬為主體材料的基礎(chǔ)上，在金屬表面噴涂一薄層陶瓷材料，以增加蓋板的耐蝕性。
【專利說(shuō)明】用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于半導(dǎo)體光電芯片制造領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)中在圖形化藍(lán)寶石襯底刻蝕領(lǐng)域，主要使用石英蓋板作為藍(lán)寶石干法刻蝕時(shí)的治具。盡管石英本身具有良好的抗蝕性，但是由于材料本身具有絕緣的特性，使得藍(lán)寶石刻蝕中經(jīng)常出現(xiàn)較為嚴(yán)重的邊緣效應(yīng)，從而降低了圖形化藍(lán)寶石襯底的品質(zhì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種方案來(lái)解決藍(lán)寶石襯底的圖形化刻蝕中經(jīng)常出現(xiàn)的邊緣效應(yīng)問(wèn)題。
[0004]為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供的一種用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板，用于在圖形化藍(lán)寶石襯底的蝕刻過(guò)程中形成蝕刻圖案，包括由金屬材料制成的遮擋蓋板和覆蓋于所述的遮擋蓋板上表面的耐腐蝕層，所述的遮擋蓋板上的預(yù)定位置制作有掩膜圖形。由于采用了具有良好導(dǎo)電特性的金屬材料作為蓋板的主體，其在蝕刻過(guò)程中，解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)。
[0005]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的耐腐蝕層至少包括一層陶瓷覆蓋層。
[0006]作為進(jìn)一步的改進(jìn),所述的陶瓷覆蓋層的厚度范圍為10-200 μ m。
[0007]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的掩膜圖形為圓柱形。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種用于生產(chǎn)以上任一權(quán)利要求所述的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的制備方法，包括如下步驟:
[0009]步驟S1:提供一由金屬材料制成的遮擋蓋板；
[0010]步驟S2:根據(jù)掩膜圖形對(duì)所述的遮擋蓋板進(jìn)行加工，制作與掩模圖形相對(duì)應(yīng)的遮擋蓋板；
[0011]步驟S3:在所述的遮擋蓋板上表面設(shè)置耐腐蝕層。
[0012]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，在所述的步驟S2與步驟S3之間還具有一表面處理步驟，用于對(duì)所述的遮擋蓋板進(jìn)行表面處理。
[0013]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的表面處理步驟包括用于對(duì)所述的遮擋蓋板進(jìn)行表面拋光的步驟。
[0014]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的表面處理步驟包括用于對(duì)表面拋光后的遮擋蓋板進(jìn)行除油的步驟。
[0015]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的耐腐蝕層由陶瓷材料制成。
[0016]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的步驟S3中采用噴涂的方法將耐腐蝕層涂覆于所述的遮擋蓋板的上表面。
[0017]由于采用了以上技術(shù)方案，本發(fā)明通過(guò)使用具有良好導(dǎo)電特性的金屬材料作為蓋板的主體，并且為了防止金屬材質(zhì)在等離子體氛圍中的過(guò)度消耗，在以金屬為主體材料的基礎(chǔ)上，在金屬表面噴涂一薄層陶瓷材料，以增加蓋板的耐蝕性。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為根據(jù)本發(fā)明的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的結(jié)構(gòu)圖；
[0019]圖2為根據(jù)本發(fā)明的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的制備方法的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0021]參見(jiàn)附圖1所示，為根據(jù)本發(fā)明的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的結(jié)構(gòu)圖。本實(shí)施例中的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板，用于在圖形化藍(lán)寶石襯底的蝕刻過(guò)程中形成蝕刻圖案，包括由金屬材料制成的遮擋蓋板和覆蓋于遮擋蓋板上表面的耐腐蝕層，遮擋蓋板上的預(yù)定位置制作有掩膜圖形。由于采用了具有良好導(dǎo)電特性的金屬材料作為蓋板的主體，其在蝕刻過(guò)程中，解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)。
[0022]在本實(shí)施了中，耐腐蝕層至少包括一層陶瓷覆蓋層，其陶瓷覆蓋層的厚度范圍為；此外，以上掩膜圖形具有特點(diǎn)。
[0023]參見(jiàn)附圖2所示，為根據(jù)本發(fā)明的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的制備方法的流程圖。本實(shí)施還提供了一種用于生產(chǎn)用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的制備方法，包括如下步驟:
[0024]步驟S1:提供一由金屬材料制成的遮擋蓋板，其根據(jù)原石英蓋板的樣式制作金屬蓋板；
[0025]步驟S2:根據(jù)掩膜圖形對(duì)遮擋蓋板進(jìn)行加上，制作與掩模圖形相對(duì)應(yīng)的遮擋蓋板；
[0026]步驟S3:表面處理步驟，將上步中制作的金屬蓋板進(jìn)行表面處理(拋光，除油)；
[0027]步驟S4:在遮擋蓋板上表面設(shè)置陶瓷耐腐蝕層，即對(duì)已經(jīng)過(guò)表面改性的金屬蓋板進(jìn)行表面陶瓷噴涂。
[0028]針對(duì)以上步驟完成的蓋板進(jìn)行試用，可以對(duì)具有陶瓷噴涂的金屬蓋板并與原石英蓋板進(jìn)行刻蝕效果上的比對(duì)，可以發(fā)現(xiàn)由于采用了以上技術(shù)方案，本發(fā)明通過(guò)使用具有良好導(dǎo)電特性的金屬材料作為蓋板的主體，并且為了防止金屬材質(zhì)在等離子體氛圍中的過(guò)度消耗，在以金屬為主體材料的基礎(chǔ)上，在金屬表面噴涂一薄層陶瓷材料，以增加蓋板的耐蝕性。
[0029]以上實(shí)施方式只為說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，具目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人了解本發(fā)明的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所做的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板，用于在圖形化藍(lán)寶石襯底的蝕刻過(guò)程中形成蝕刻圖案，其特征在于:包括由金屬材料制成的遮擋蓋板和覆蓋于所述的遮擋蓋板上表面的耐腐蝕層，所述的遮擋蓋板上的預(yù)定位置制作有掩膜圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板，其特征在于:所述的耐腐蝕層至少包括一層陶瓷覆蓋層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板，其特征在于:所述的陶瓷覆蓋層的厚度范圍為10-200 μ m。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板，其特征在于:所述的掩膜圖形為圓柱形。
5.一種用于生產(chǎn)以上任一權(quán)利要求所述的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的制備方法，其特征在于，包括如下步驟: 步驟S1:提供一由金屬材料制成的遮擋蓋板； 步驟S2:根據(jù)掩膜圖形對(duì)所述的遮擋蓋板進(jìn)行加工，制作與掩模圖形相對(duì)應(yīng)的遮擋蓋板； 步驟S3:在所述的遮擋蓋板上表面設(shè)置耐腐蝕層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的制備方法，其特征在于:在所述的步驟S2與步驟S3之間還具有一表面處理步驟，用于對(duì)所述的遮擋蓋板進(jìn)行表面處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的制備方法，其特征在于:所述的表面處理步驟包括用于對(duì)所述的遮擋蓋板進(jìn)行表面拋光的步驟。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的制備方法，其特征在于:所述的表面處理步驟包括用于對(duì)表面拋光后的遮擋蓋板進(jìn)行除油的步驟。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的制備方法，其特征在于:所述的耐腐蝕層由陶瓷材料制成。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于解決干法蝕刻邊緣效應(yīng)的蓋板的制備方法，其特征在于:所述的步驟S3中采用噴涂的方法將耐腐蝕層涂覆于所述的遮擋蓋板的上表面。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK103887215SQ201410126842
【公開日】2014年6月25日 申請(qǐng)日期:2014年4月1日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月1日
【發(fā)明者】陳起偉, 魏臻, 孫智江, 施榮華 申請(qǐng)人:海迪科（蘇州）光電科技有限公司