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具有核/殼型結構納米線的光電裝置的制作方法

文檔序號:12542056閱讀:來源:國知局
具有核/殼型結構納米線的光電裝置的制作方法

技術特征:
1.一光電裝置,包括具有納米線形式(1,7)的發(fā)光裝置,所述納米線具有核/殼型結構并形成于襯底(11)上方,其特征在于,所述納米線包括有源區(qū)(12,72),所述有源區(qū)包括至少兩種具有不同發(fā)射波長的量子阱以及分布在所述有源區(qū)內至少兩個不同的區(qū)域(120,121;720,721,722),所述納米線(1,7)上的所述有源區(qū)(12,72)中設有第一區(qū)域(120,720),所述第一區(qū)域是至少部分包圍所述納米線的芯部(10,70)的外圍部分,并且是垂直部分,并且還包含有徑向量子阱,所述有源區(qū)上第二區(qū)域(121,721)是位于所述納米線芯部端面的一上端部分,并且是水平部分,并設置有軸向量子阱,其中,所述光電裝置還包括位于襯底上方的第一電連接區(qū)(15)和所述發(fā)光裝置上方的第二電連接區(qū)(16,51;17,81),所述第二電連接區(qū)這樣設置是為了,當發(fā)光裝置至少分成兩組進行分布,所述電連接是通過連續(xù)導電層加以實現(xiàn)的,為了所述有源區(qū)不同區(qū)域內至少兩組中任意一組發(fā)光裝置,并且控制電源以獲得多波長光的發(fā)射。2.如權利要求1所述的光電裝置,其特征在于,所述有源區(qū)(72)包括一第三區(qū)域(722),所述第三區(qū)域位于所述第一區(qū)域和第二區(qū)域之間。3.如權利要求1或2所述的光電裝置,其特征在于,所述第二電連接區(qū)域向外延伸并覆蓋所述納米線有源區(qū)的中至少一部分第一區(qū)域。4.如權利要求1或2所述的光電裝置,其特征在于,所述光電裝置包括多個并聯(lián)連接的部分(40至48),在所述部分的內部的所述發(fā)光裝置并聯(lián)連接,對于相鄰兩個部分,在有源區(qū)不同區(qū)域內產生第二電連接區(qū)域的電連接。5.如權利要求1或2所述的光電裝置,其特征在于,所述發(fā)光裝置的所述有源區(qū)包括兩個不同的區(qū)域,第二組的發(fā)光裝置(3)是由一種電絕緣材料(34)所包圍,除了正對所述襯底的上表面(330),并且所述第二電連接區(qū)域完全包圍第二組的發(fā)光裝置并且在第一組的發(fā)光裝置(2)外圍上形成,所述第一組和所述第二組直接接觸,并且對應于有源區(qū)域的第一區(qū)域超出一高度h,從而使這些發(fā)光裝置(2)的上端部暴露在外。6.如權利要求5所述的光電裝置,其特征在于,所述發(fā)光裝置包括一含有第三區(qū)域的有源區(qū),一第三組的發(fā)光裝置(7b)上超出的高度h被電絕緣材料所包圍,所述第二電連接區(qū)域形成于第三區(qū)域內發(fā)光裝置(7b)的外圍,其超出一高度h1大于高度h,從而使所述發(fā)光裝置的上端部分部分地暴露在外。7.如權利要求1或2所述的光電裝置,其特征在于,對至少某些發(fā)光裝置,設置所述第二電連接區(qū)域,從而使有源區(qū)至少兩個區(qū)域形成電連接。8.如權利要求7所述的光電裝置,其特征在于,所述發(fā)光裝置分布在至少兩個電氣獨立組(60,61)中,并且控制電源從而使所述有源區(qū)的不同區(qū)域內至少兩組的其中之一得到電力供應。9.如權利要求1或2所述的光電裝置,其特征在于,所述納米線的所述有源區(qū)由氮化銦鎵或者氮化鎵構成。
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