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清潔系統(tǒng)和方法

文檔序號:7250991閱讀:250來源:國知局
清潔系統(tǒng)和方法
【專利摘要】在一個實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔EUV載具的EUV清潔系統(tǒng)和方法。EUV清潔系統(tǒng)包括:分離的骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境;用于雙容器載具的不同部件的單獨的清潔室;用于使用相同的機械手拾取和放置不同部件的夾持臂;用于將部件保持在不同位置處的夾持臂;用于外容器的水平自旋清潔和干燥;熱水和熱空氣(70℃)清潔處理;用于通過熱空氣噴嘴清潔內(nèi)容器以進行干燥的垂直噴嘴和格柵式兆聲波噴嘴;用于使用吹掃氣體除氣不同部件的單獨的真空凈化室,例如,在高真空(例如,<10-6托)情況下,用于內(nèi)容器的真空凈化室和用于外容器的真空凈化室;在真空室內(nèi)部的加熱器和RGA傳感器;吹掃氣體組裝臺;和吹掃氣體裝載和卸載臺。
【專利說明】清潔系統(tǒng)和方法
[0001]本申請主張2011年6月23日提出申請的題目為“Semiconductor cleanersystems and methods”的美國臨時專利申請第61 / 500,608號的優(yōu)先權(quán),該申請通過引用在此并入供參考。
【背景技術(shù)】
[0002]半導體元件的制造要求清潔度,例如對顆粒、雜質(zhì)或異物的控制。這些微粒的存在可能會影響處理好的晶片內(nèi)的合格裝置的產(chǎn)量。因此,通常在專用輸送容器中執(zhí)行這些晶片的輸送,例如,暗盒、托架或盤以及可打開或可密封容器或箱,包括前開式統(tǒng)集盒(FOUP)、前開式輸送箱(FOSB)、標準機械接口(SMIF)盒或箱。FOUP通常在兩個面對長側(cè)處具有用于支撐晶片的梳狀引導件,并且可以使用可移除罩閉合。在沒有罩的情況下,F(xiàn)OUP是具有帶有矩形表面面積的壺狀基本形狀的中空容器。除了晶片之外,掩模版被存儲在掩模版載具中,所述掩模版載具存儲在掩模版存儲機中。當需要掩模曝光時,掩模版載具被輸送到光刻儀。
[0003]有時候需要清潔FOUP和掩模版載具以保持在處理半導體晶片時所需的清潔度的標準??梢栽趯S们謇砗透稍镌O備中執(zhí)行清潔處理。在對清潔度的要求越來越高的情況下,在現(xiàn)代化半導體工廠中的清潔周期數(shù)與對清潔度的增加的要求一起升高。例如,理想的是在每一個個體使用之后清潔FOUP以防止例如從一個晶片負載到下一個晶片負載的交叉污染。
[0004]因此,理想的是縮短FOUP的全部清潔所需的時間。此外,還期望的是保持清潔消耗盡可能小,尤其是在增加清潔周期的情況下。另一方面,清理必須非常徹底以便滿足現(xiàn)代化半導體工廠的清潔度要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]在一個實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔諸如載具的工件的清潔系統(tǒng)和方法。清潔系統(tǒng)包括:分離的骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境中的至少一個;用于雙容器載具的不同部件的單獨的清潔室;用于使用相同的機械手拾取和放置不同部件的夾持臂;用于將部件保持在不同位置處的夾持臂;用于外容器的水平自旋清潔和干燥;熱水和熱空氣(70°C)清潔處理;用于通過熱空氣噴嘴清潔內(nèi)容器以進行干燥的垂直噴嘴和格柵式兆聲波噴嘴;用于使用吹掃氣體除氣不同部件的單獨的真空凈化室,例如,在高真空(例如,〈10_6托)情況下,用于內(nèi)容器的真空凈化室和用于外容器的真空凈化室;在真空室內(nèi)部的加熱器和氣體監(jiān)測器(例如,RGA傳感器);吹掃氣體組裝臺;和吹掃氣體裝載和卸載臺。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]圖1示出了要被清潔的EUV掩模版載具的一個示例性結(jié)構(gòu);
[0007]圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的清洗系統(tǒng)的示例性結(jié)構(gòu);
[0008]圖3A-3C示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于清潔系統(tǒng)的不同結(jié)構(gòu);[0009]圖4A-4B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的在骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境的示例性流動結(jié)構(gòu);
[0010]圖5A-5B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于清洗清潔室的示例性結(jié)構(gòu);
[0011]圖6A-6B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于使用分離的骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境清潔對象的示例性流程圖;
[0012]圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的使用分離的骯臟環(huán)境潔凈環(huán)境的另一個示例性清潔過程;
[0013]圖8A-8B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于對象的不同組分的示例性分離
清潔室;
[0014]圖9示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的使用用于對象的不同部件的單獨的清潔室的示例性清潔系統(tǒng);
[0015]圖10A-10B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于使用單獨的清潔室清潔對象的示例性流程圖;
[0016]圖11示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于使用單獨的清潔室分別清潔對象的示例性流程圖;
[0017]圖12A-12B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的示例性機械手;
[0018]圖13A-13C示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的夾持臂的示例性夾持結(jié)構(gòu);
[0019]圖14A-14B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于使用本夾持臂夾持對象的示例性流程圖;
[0020]圖15示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于使用單獨的清潔室分別清潔對象的示例性流程圖;
[0021]圖16A-16C示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的對象的示例性清潔次序;
[0022]圖17A-17B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于清潔對象的示例性流程圖;
[0023]圖18A-18C和19A-19B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的采用超音速或兆聲波液體噴射的示例性清潔室;
[0024]圖20A-20B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于清潔對象的示例性流程圖;
[0025]圖21A示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的示例性凈化室;
[0026]圖21B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的另一個示例性凈化室;
[0027]圖22A-22B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于對對象進行凈化的示例性流程圖;
[0028]圖23A-23B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的示例性組裝臺和過程;
[0029]圖24A-24B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于組裝對象的示例性流程圖;
[0030]圖25示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的具有吹掃噴嘴的示例性輸送和/或存儲臺;
[0031]圖26A-26B示出了根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的清潔器的示例;
[0032]圖27示出了根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的混合清潔系統(tǒng)的示例;以及
[0033]圖28示出了根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的清潔系統(tǒng)的示例。
【具體實施方式】[0034]本發(fā)明公開了用于諸如半導體工件容器和掩模版載具的對象的綜合清潔的方法和設備。清潔過程可以包括液體清潔、干燥、和真空凈化。
[0035]清潔方法包括除去諸如有機、無機金屬、自然氧化物和微粒物的顆粒和/或污染物以及除去水潰的方法。對于諸如暗盒、F0UP、保持器、載具等的半導體制品來說清潔可能是關鍵的要求。在清潔處理中,在幾微米范圍內(nèi)除去顆粒降至子微米水平并減少殘余污染物(金屬或離子)已經(jīng)變成半導體清潔行業(yè)所關心的問題的一部分。
[0036]清潔處理可以提供具有最小液體剩余的有效對象清潔,這可以有助于隨后的干燥處理。例如,要被清潔的物品以最小液阱位于例如水平或垂直表面上。另外,在可能的圈閉位置處,氣體噴嘴可以被定位成吹走任何被圈閉液體以有助于最小化液體殘余并輔助干燥處理。氣體噴嘴優(yōu)選地提供氮氣或過濾空氣,但是還可以提供液體或充氣液體。在一個方面中,氣體噴嘴可以執(zhí)行清潔動作,并且液體噴嘴可以除去圈閉液體。
[0037]在一個實施例中,本發(fā)明公開了用于諸如超紫外線(EUV)掩模版載具的高水平清潔度物品的清潔方法和系統(tǒng)。隨后的描述使用超紫外輻射掩模版載是示例性的,但是本發(fā)明不受此限制,而是可以被應用于具有嚴格清潔度要求的任何對象,例如低微粒污染物和低除氣部件。
[0038]圖1示出了要被清潔的EUV掩模版載具79的一個示例性結(jié)構(gòu)。EUV掩模版70通常被存儲在雙容器載具79中,且在內(nèi)容器與外容器之間的空間77中具有氮氣。內(nèi)容器通常由金屬制成,所述內(nèi)容器包括與下支撐件配合的上罩71。外容器通常由低除氣聚合物制成,所述外容器包括與下支撐件74配合的上罩73。兩個容器都可以具有用于被操作者或自動輸送系統(tǒng)保持的手柄。手柄75被顯示為用于外容器的上罩73。外容器的支撐件74可以具有用于接收清除到掩模版載具的內(nèi)容積77的氮氣的入口。
[0039]雙容器EUV掩模版載具是用于半導體處理的高水平清潔度的一個示例,其中掩模版被存儲在兩個水平的容器中以防止污染。另外,兩個水平之間的容積被氮氣清除以避免細菌增長,或防止來自外容器的除氣顆粒附到內(nèi)容器。因此,用于這種清潔對象的種清潔系統(tǒng)需要在被清潔之后保持期望的清潔度水平的改進的特征。
[0040]在一個實施例中,本發(fā)明公開了在清潔之后,在潔凈環(huán)境下進行清潔之前,分離骯臟環(huán)境。分離可以例如通過防止清潔對象被骯臟環(huán)境中的污染物所污染來在對象被清潔之后保持對象的清潔度。在以下說明中,術(shù)語“骯臟”用于表示與術(shù)語“清潔”的關系,并表示不潔凈環(huán)境。例如,對象可能是骯臟的,例如需要清潔,在半導體處理所需的清潔度水平方面,而不是日常操作方面。在清潔之后,對象可以是潔凈的,例如,比當對象在骯臟狀態(tài)時更潔凈。
[0041 ] 在一個實施例中,清潔系統(tǒng)包括一個或多個清潔室,所述清潔室具有與分離的骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境連通的分離的輸入端口和輸出端口。例如,清潔室具有連接到骯臟環(huán)境用于接收將要被清潔的對象的輸入端口。清潔室還具有連接到潔凈環(huán)境以用于將在清潔室中被清潔之后的對象輸送到潔凈環(huán)境的單獨的輸出端口。清潔室因此將清潔系統(tǒng)分成輸入骯臟環(huán)境和輸出潔凈環(huán)境。清潔室的輸入端口和輸出端口同步以防止骯臟環(huán)境與潔凈環(huán)境之間的交叉污染。例如,一次僅打開一個端口以防止骯臟環(huán)境中的臟空氣進入潔凈環(huán)境。在一個實施例中,在打開朝向潔凈環(huán)境的輸出端口之前,清潔室具有清潔清除氣體(或者清潔壓縮空氣或氮氣)。另外,在打開朝向骯臟環(huán)境的輸入端口之前,可以在清潔室中建立正壓力,因此最小化來自骯臟環(huán)境的臟空氣的任何回流。可以在打開朝向潔凈環(huán)境的輸出端口之前在清潔室中建立負壓力,從而最小化臟空氣到潔凈環(huán)境的任何回流。
[0042]在一個實施例中,可以使用不同的裝載端口。例如,輸入裝載端口用于骯臟環(huán)境中以用于接收要被清潔的對象。分開的輸出卸載端口用于潔凈環(huán)境中以用于輸出清潔對象。進一步地,可以使用不同的機器人操作系統(tǒng)。例如,臟機器人用于骯臟環(huán)境中,而分開的清潔機器人用于潔凈環(huán)境中。
[0043]可以在骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境中建立不同的清潔度水平。例如,骯臟環(huán)境可以具有過濾層流。潔凈環(huán)境可以具有提高的清潔度,例如,具有增加的底部和冷卻器的過濾的再循環(huán)空氣或氮氣流。潔凈環(huán)境中的再循環(huán)流可以使清潔室與外部環(huán)境隔離,從而最小化來自外部空氣的任何可能的污染物。冷卻器可以安裝在再循環(huán)通路、冷卻空氣或氮氣流中并防止空氣分子的熱瑞流。
[0044]另外,在與清潔室的輸出端口的接口處包括在頂部頂板處的風扇和在底部地板處的風扇的清潔空氣簾可以進一步隔離潔凈環(huán)境與骯臟環(huán)境的任何可能連通。
[0045]在一個實施例,耐用部件優(yōu)選地位于骯臟環(huán)境中以最小化對潔凈環(huán)境的方位,從而盡可能保持潔凈環(huán)境清潔。
[0046]圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的清洗系統(tǒng)的示例性結(jié)構(gòu)。清潔室14將骯臟環(huán)境12與潔凈環(huán)境16分開,且臟機器人12B和輸入裝載端口 12A位于骯臟環(huán)境12中,而清潔機器人16B和輸出卸載端口 16位于潔凈環(huán)境16中。在典型工件流中,將要被清潔的對象(例如,EUV掩模版載具)被裝載到輸入裝載端口 12A中(步驟11),接著通過臟機器人12B被輸送到清潔14在(步驟13)。在清潔室14中被清潔之后,清潔對象通過清潔機器人16B被輸送到輸出卸載端口 16A (步驟15)以被卸載(步驟17)。清潔室可以具有分開的輸入門和輸出門,且臟對象進入骯臟的輸入門13,而清潔對象尚開清潔輸出門15。進一步地考慮可以被包括以防止?jié)崈舡h(huán)境與骯臟環(huán)境之間的交叉污染。例如,可以在清潔對象的輸送期間在潔凈環(huán)境中建立高壓力以產(chǎn)生遠離潔凈環(huán)境的層流,從而最小化來自骯臟環(huán)境的顆?;亓?。另外,可以例如通過使清潔室門互鎖而在潔凈環(huán)境和骯臟環(huán)境之間建立隔離,從而防止同時打開輸入門和輸出門。
[0047]圖3A-3C示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于清潔系統(tǒng)的不同結(jié)構(gòu)。在圖3A中,骯臟環(huán)境22和潔凈環(huán)境26被并排定位且具有輸入裝載端口 21和輸出卸載端口 27。輸入裝載門21A首先被打開以接收到輸入裝載端口 21的骯臟對象。在關閉輸入裝載門21A之后,輸出裝載門21B打開,并且可以通過骯臟的機器人拾取骯臟對象。在關閉輸出裝載門21B之后,輸入室門24A被打開,并且可以將骯臟的對象輸送到清潔室24。在清潔之后,對象可以被輸送到輸出室門24B,所述輸出室門24B接著被打開,使得可以通過清潔機器人拾取清潔對象。清潔對象接著被輸送到輸出卸載端口 27,然后通過門27B和27A被輸送到外部環(huán)境。
[0048]圖3B示出另一個結(jié)構(gòu),其中清潔室24具有兩個相對的輸入門24A和輸出門24B。圖3C示出了其中清潔系統(tǒng)具有多個清潔室的另一個結(jié)構(gòu),其中顯示了兩個清潔室24'和24"。分別在骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境中的線性導向裝置22B和26B可以分別將骯臟的機器人22A和清潔機器人26A輸送到不同的清潔室24'和24"和從不同的清潔室分別輸送骯臟的機器人22A和清潔機器人26A。[0049]除了在清潔之前和清潔之后隔離環(huán)境之外,可以保持環(huán)境處于不同的清潔度。例如,在其中對象較臟的輸入部分處,可以建立較臟的環(huán)境。在其中對象已經(jīng)被清潔并因此較清潔的輸出部分處,可以建立潔凈環(huán)境。
[0050]圖4A-4B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的在骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境的示例性流動結(jié)構(gòu)。圖4A示出了通過過濾系統(tǒng)32A的在骯臟環(huán)境32中的層流32B。電子設備31可以位于骯臟環(huán)境32中,所述電子設備31可以通過維修門30被訪問。潔凈環(huán)境36具有再循環(huán)流36B,所述再循環(huán)流通過升高的底板37,進入冷卻器38,并被過濾系統(tǒng)36A過濾。封閉環(huán)境可以隔離潔凈環(huán)境36與外部環(huán)境,從而進一步提高潔凈環(huán)境的清潔度。清潔室34被夾在兩個環(huán)境32與36之間,所述清潔室34包括吹掃氣體入口 35A和吹掃氣體出口 35B。
[0051]圖4B示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于潔凈環(huán)境的示例性幕墻式氣流。風扇系統(tǒng)39c位于清潔室的輸出端口的前面,因此改變潔凈環(huán)境中的流動39B,使得在輸出門34B處建立幕墻式流動。該幕墻式流動可以最小化來自清潔室34的任何回流,從而防止與潔凈環(huán)境的任何交叉污染。
[0052]除了對于清洗系統(tǒng)的輸入部分和輸出部分保持不同的清潔度水平之外,可以在輸入部分與輸出部分之間的連通期間提供氣體吹掃以最小化輸入部分與輸出部分之間的交叉污染。例如,可以在兩個部分之間的門打開期間建立從潔凈環(huán)境到骯臟環(huán)境的正壓力或流動??蛇x地,可以在骯臟環(huán)境中建立負壓力,以還形成從潔凈環(huán)境到骯臟環(huán)境的正壓力或流動。
[0053]圖5A-5B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于清洗清潔室的示例性結(jié)構(gòu)。在圖5A中,在打開通向骯臟環(huán)境32的輸入門之前,清潔室34通過加壓,或通過清潔氣體45被吹掃。在打開輸入門之后,可以建立從清潔室34到骯臟環(huán)境32的正流動42,從而最小化由于從骯臟環(huán)境的回流導致的任何交叉污染。清潔室34中的壓力可以等于或大于骯臟環(huán)境32中的壓力。
[0054]在圖5B中,在打開通向潔凈環(huán)境36的輸出門之前,清潔室34被抽真空,或通過清潔氣體入口 45A和出口 45B被壓力調(diào)節(jié)。在打開輸出門之后,可以建立從潔凈環(huán)境36到清潔室34的正流動43,從而最小化由到潔凈環(huán)境的回流導致的任何交叉污染。清潔室34中的壓力可以等于或低于潔凈環(huán)境36中的壓力。
[0055]在一些實施例中,本發(fā)明公開一種用于清潔諸如掩模版載具的工件的系統(tǒng)。系統(tǒng)可以包括第一臺,其中第一臺包括用于輸送工件的第一機器人機構(gòu)。第一臺可以是清洗系統(tǒng)的輸入部分,所述輸入部分可以被構(gòu)造成接收骯臟的工件,例如,需要被清潔的工件。系統(tǒng)可以包括第二臺,其中第二臺包括用于輸送工件的第二機器人機構(gòu)。第二臺可以是清潔系統(tǒng)的輸出部分,所述輸出部分可以被構(gòu)造成接收潔凈工件,例如已經(jīng)被清潔系統(tǒng)清潔的工件。系統(tǒng)可以包括室,其中室可操作以清潔工件。室可以包括入口,其中入口可操作以用于能夠通過第一機器人機構(gòu)將工件從第一臺被輸送到室。室可以包括出口,其中出口可操作以用于能夠通過第二機器人機構(gòu)件工件從室被輸送到第二臺。室可以包括用于輸送清潔液體的液體噴嘴、用于輸送干燥氣體的干燥噴嘴和用于加熱工件的任選的加熱器。第二臺可以與第一臺隔離??傊鍧嵤冶粖A在第一臺與第二臺之間,并因此第一臺和第二臺相互隔離。在一些實施例中,第一臺和第二臺在清潔系統(tǒng)的操作期間也被隔離。例如,清潔室可以被構(gòu)造成當清潔被分別暴露給第二/第一臺時隔離第一/第二臺。當面對第二臺的門打開時,可以關閉面對第一臺的門,從而隔離第一臺和第二臺。第二臺的環(huán)境比第一臺的環(huán)境清潔。因為第一臺容納骯臟的工件,而第二臺容納潔凈工件,保持第二臺與第一臺清潔可以對于工件清潔度是有益的。例如,第一臺包括連接到外部環(huán)境的過濾層流。第二臺包括具有升高的底板和冷卻器的過濾再循環(huán)氣流,其可以保持更加潔凈環(huán)境。系統(tǒng)可以包括在室的出口處建立幕墻式流動的機構(gòu)。
[0056]在一些實施例中,清洗系統(tǒng)可以包括用于清潔多個工件的多個室。例如,第一室可用于清潔工件的第一部件,而第二室可用于清潔工件的第二部件。系統(tǒng)可以包括連接到第一臺以用于接收將要被輸送到室的工件的輸入載荷端口。系統(tǒng)可以包括連接到第二臺以用于接收來自室的工件的輸出載荷端口。為了隔離第一臺和第二臺,在一些實施例中,室的入口和出口沒有同時打開以提供第一臺與第二臺的隔離。系統(tǒng)可以包括建立在入口打開期間從第二臺到室的流動或在出口打開期間從室到第一臺的流動。
[0057]在對象的輸送期間,例如,從輸入端口(骯臟的)到清潔室(用于清潔)到輸出端口(清潔的),可以建立最小化清潔對象的再污染的條件。
[0058]圖6A-6B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于使用分離的骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境清潔對象的示例性流程圖。在圖6A中,操作50建立連接清潔室的具有不同清潔度水平的兩個環(huán)境。操作51將要被清潔的對象從骯臟環(huán)境輸送到用于清潔的清潔室并輸送到潔凈環(huán)境,其中清潔對象與骯臟環(huán)境隔離以防止交叉污染。
[0059]在圖6B中,操作54將要被清潔的對象帶到骯臟環(huán)境。操作55將所述對象從骯臟環(huán)境輸送到清潔室。操作56在清潔室中清潔對象。操作57將清潔對象從清潔室輸送到潔凈環(huán)境,其中潔凈環(huán)境與骯臟環(huán)境隔離以防止交叉污染。操作58從潔凈環(huán)境取出清潔對象。
[0060]圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的使用分離的骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境的另一個示例性清潔過程。在圖7中,操作60建立用于接收要被清潔的對象的骯臟環(huán)境和用于接收清潔之后的對象的潔凈環(huán)境,其中兩個環(huán)境連接用于清潔對象的清潔室。操作61在骯臟環(huán)境中建立層流以減少污染物。操作62將要被清潔的對象帶到骯臟環(huán)境。操作63在通向骯臟環(huán)境之前隔離清潔室并給清潔室加壓以最小化來自骯臟環(huán)境的回流。操作64將要被清潔的對象從骯臟環(huán)境輸送到清潔室。操作65在清潔室中清潔對象。操作66在潔凈環(huán)境中建立再循環(huán)流以減少污染物。操作67在潔凈環(huán)境中冷卻再循環(huán)流和/或在清潔室前面建立流動幕墻以減少污染物。操作68在通向潔凈環(huán)境之前隔離清潔室和降低壓合清潔室以最小化來自清潔室的回流。操作69將清潔對象從清潔室輸送到潔凈環(huán)境。
[0061]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔工件的方法。所述方法可以包括通過清潔室的入口將工件從第一臺輸送到室。方法可以包括在清潔室中清潔工件。所述方法可以包括通過室的出口將工件從室輸送到第二臺。第二臺與第一臺隔離。第二臺的環(huán)境比第一臺的環(huán)境清潔。
[0062]在一些實施例中,所述方法可以進一步包括將工件裝載到輸入載荷端口以被輸送到第一臺。所述方法還可以包括將工件從第二臺卸載到輸出載荷端口。所述方法還可以包括在將工件從第一臺輸送到室之前關閉室的出口。所述方法還可以包括在打開室的入口以用于將工件從第一臺輸送到室之前給室加壓。所述方法還可以包括在將工件從室輸送到第二臺之前關閉室的入口。所述方法還可以包括在打開室的出口以用于將工件從室輸送到第二臺之前降低室中的壓力。所述方法還可以包括在第二臺中建立再循環(huán)氣流。所述方法還可以包括冷卻第二臺的環(huán)境。所述方法還可以包括在室的出口處建立幕墻式流動。
[0063]在一些實施例中,所述方法可以包括確定連接清潔室的具有不同清潔度水平的兩個環(huán)境;將工件從較臟的環(huán)境輸送到清潔室以進行清潔;將工件從清潔室輸送到潔凈環(huán)境,其中兩個環(huán)境在工件的輸送期間相互隔離。
[0064]上述說明描述了在兩個骯臟環(huán)境與潔凈環(huán)境之間的清潔室。然而,本發(fā)明沒有受限于此,而是可以等同地應用于通過分離輸入臟環(huán)境與輸出潔凈環(huán)境建立所需的清潔度水平的任何處理室。
[0065]進一步地,清潔工件的清潔系統(tǒng)和方法可以包括諸如其它部分中所述的特征的其它特征。例如,特征可以包括單獨的清潔室、用于使用同一個機器人把手拾取并放置不同部件的手柄臂、用于將不同部件保持在不同位置的手柄臂、用于外容器的水平自旋清潔和干燥、熱水和熱空氣清潔過程、用于通過熱空氣噴嘴進行清潔以用于干燥的垂直噴嘴和格柵式兆超聲波噴嘴、用于對不同部件進行除氣的真空凈化室、和吹掃氣體裝載和卸載臺。
[0066]在一個實施例中,本發(fā)明公開了用于對象的不同部件的單獨的清潔室。分離可以防止在清潔過程期間清潔部件被臟部件污染。例如,雙容器EUV掩模版載具的內(nèi)容器比相應的外容器更清潔,這是因為內(nèi)容器已經(jīng)被設計成由外容器和惰性氣體環(huán)境兩者來保護。因此,在內(nèi)部件和外部件共同清潔的情況下,用于外容器部件和用于內(nèi)容器部件的分離的清潔室可以在清潔期間例如通過外容器最小化內(nèi)容器的污染。
[0067]在一個實施例中,根據(jù)清潔度的水平確定清潔室的數(shù)量。例如,雙容器載具可以具有兩個清潔度水平:用于外容器的較臟水平和用于容器的較清潔水平。因此,可以使用兩個分離的清潔室。第一清潔室用于清潔雙容器載具的外容器,所述外容器包括外容器的上罩和下支撐件。第二清潔室用于清潔雙容器載具的內(nèi)容器,所述內(nèi)容器包括內(nèi)容器的上罩和下支撐件
[0068]在一個實施例中,清潔度的水平可以進一步被改進。例如,可以建立四個清潔度水平,從而為每一個外容器和內(nèi)容器產(chǎn)生兩個清潔度水平,這是因為容器的上罩和下支撐件可能會吸引不同水平的污染物。因此,可以使用四個單獨的清潔室。第一和第二清潔室用于分別清潔雙容器載具的外容器的上罩和下支撐件。第三和第四清潔室用于分別清潔雙容器載具的內(nèi)容器的上罩和下支撐件。
[0069]在一個實施例中,對象的每一個部件都分別在單獨的清潔室中被清潔。例如,雙容器載具可以在四個單獨的清潔室中被清潔:用于外容器的上罩的清潔室、用于外容器的下支撐件的清潔室、用于內(nèi)容器的上罩的清潔室和用于內(nèi)容器的下支撐件的清潔室。
[0070]圖8A-8B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于對象的不同組分的示例性分離清潔室。在圖8A中,四個不同的清潔室83A-83D緊接于彼此設置以用于清潔對象的不同部件,例如,雙容器載具80的四個部件80A-80D。載具80被裝載到裝載臺81,然后通過在輸送臺82中具有手柄臂82B的機器人82A拾取部件。機器人82A可以例如通過線性導向裝置82C在多個清潔室83A-83D之間移動。
[0071]在圖8B中,清潔室83A-83D分尚輸入骯臟環(huán)境82與輸出潔凈環(huán)境86,從而為將要被清潔的對象提供額外的清潔度水平。諸如雙容器載具80的對象被裝載到輸入裝載臺81,并通過機器人82A被輸送到骯臟環(huán)境82。從所述骯臟環(huán)境82,載具80的部件被放置到不同清潔室83A-83D以被分別清潔。在被清潔之后,潔凈的機器人86A拾取所述部件,將所述部件放入潔凈環(huán)境86中,并輸出到卸載臺87。
[0072]圖9示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的使用單獨的清潔室用于對象的不同部件的示例性清潔系統(tǒng)。諸如雙容器載具80的對象被裝載到輸入裝載臺91,并通過機器人被輸送到骯臟環(huán)境92。從所述骯臟環(huán)境92,載具80的部件被放置到不同清潔室93以被分別清潔。在被清潔之后,潔凈的機器人拾取所述部件以將所述部件帶到潔凈環(huán)境96。任選的除氣室95A-95B可以在將部件組裝到組裝臺98之前容納除去部件。在被組裝之后,組裝載具被輸出到輸出卸載臺97。
[0073]在一個實施例中,本發(fā)明公開了對清潔之后的部件進行凈化的除氣室95A和95B??梢允褂盟膫€除氣室。優(yōu)選地,使用兩個除氣室,一個用于內(nèi)容器部件,而一個用于外容器部件。為了除氣凈化,通過使用兩個除氣室結(jié)合四個清潔室用于內(nèi)容器和外容器的不同部分,可以實現(xiàn)清潔度水平。在隨后的部件中描述除氣室的細節(jié)。
[0074]在一個實施例中,本發(fā)明公開了用于在被分別清潔和除氣凈化之后組裝在一起的組裝臺98。組裝臺優(yōu)選地包括與潔凈環(huán)境96 —樣清潔或甚至更清潔的潔凈環(huán)境。例如,組裝臺可以填充有氮氣,以確保載具內(nèi)部的容積填充有氮氣,從而防止任何氧氣用于潛在的氧化和細菌增長。在隨后的部件中將描述用于組裝臺的細節(jié)。
[0075]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔工件的系統(tǒng),其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件。第一部件可以是由聚合物材料制成并包括蓋和主體部分的外箱。第二部件可以是由金屬材料制成并包括蓋和主體部分的內(nèi)箱。系統(tǒng)可以包括:第一室,其中第一室可操作以清潔第一部件;第二室,其中第二室可操作以清潔第二部件;第一臺,其中第一臺連接到第一和第二室,其中第一臺包括第一機器人機構(gòu),其中第一機器人機構(gòu)可操作以將第一部件從第一臺輸送到第一室和將第二部件從第一臺輸送到第二室。
[0076]在一些實施例中,第一部件包括蓋和主體,并且其中第一室可操作以清潔蓋和主體兩者。第一部件可以包括蓋和主體,并且其中第一室可以包括可操作以清潔蓋的第一蓋室和可操作以清潔主體的第一主體室。第二部件可以包括蓋和主體,并且其中第二室可操作以清潔蓋和主體兩者。第二部件可以包括蓋和主體,并且其中第二室可操作以清潔蓋的第二蓋室和可操作以清潔主體的第二主體室。第一室可以包括第一入口和第一出口,其中第二室可以包括第二入口和第二出口,其中第一臺連接到第一入口和第二入口,其中系統(tǒng)還可以包括第二臺,其中第二臺連接到第一出口和第二出口,其中第二臺可以包括第二機器人機構(gòu),其中第二機器人機構(gòu)可操作以將第一部件從第一室輸送到第二臺和將第二部件從第二室輸送到第二臺。第二臺可以與第一臺隔離。系統(tǒng)可以進一步包括:連接到第一臺以用于接收工件的負載端口 ;一個或多個第三室,其中第三室可操作以能夠在清潔之后對第一和第二部件進行除氣;和第四室,其中第四室可操作以能夠在清潔之后組裝第一和第二部件。
[0077]圖10A-10B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于使用單獨的清潔室清潔對象的示例性流程圖。在圖1OA中,操作100接收包括多個部件的諸如雙容器載具的將要被清潔的對象。操作101將對象分解成單個部件。例如,雙容器載具可以被分解成外容器和內(nèi)容器。可選地,雙容器載具可以被分解成外容器的蓋和支撐件和內(nèi)容器的蓋和支撐件。操作102將單個部件輸送到單獨的清潔室以用于清潔。操作103優(yōu)選地在潔凈環(huán)境中組裝清潔的單個部件以保持清潔度。組裝臺因此優(yōu)選地與多個清潔室成一體以保持清潔度水平。
[0078]在圖1OB中,單獨的環(huán)境與單獨的清潔室一起被實施。操作104將包括多個部件的對象帶到骯臟環(huán)境。操作105分解單個部件并將單個部件從骯臟環(huán)境輸送到單獨的清潔室以被單獨清潔從而防止交叉污染。操作106將清潔部件從清潔室輸送到潔凈環(huán)境,其中潔凈環(huán)境與骯臟環(huán)境隔離以防止交叉污染。操作107調(diào)節(jié)被清潔部件。例如,可以對清潔部件進行真空凈化,以除去部件內(nèi)的圈閉氣體。操作108組裝清潔后的各個部件。
[0079]圖11示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于使用單獨的清潔室分別清潔對象的示例性流程圖。操作110建立骯臟環(huán)境和潔凈環(huán)境,其中兩個環(huán)境連接多個清潔室。操作111將雙容器載具帶到骯臟環(huán)境,其中雙容器載具包括頂部和底部內(nèi)容器以及頂部和底部外容器。操作112將雙容器載具分解成單個部件。操作113將單個部件輸送到單獨的清潔室以用于清潔。操作114在各個清潔室中清潔單個部件。操作115將單個部件從清潔室輸送到潔凈環(huán)境。操作116在多個單獨的除氣室中對單個部件進行除氣。操作117組裝清潔后的單個部件以形成雙容器載具,同時在外容器內(nèi)部填充惰性氣體。
[0080]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔工件的方法,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件。所述方法可以包括:將工件的第一部件從第一臺輸送到第一室;將工件的第二部件從第一臺輸送到第二室;在第一室和第二室中清潔第一部件和第二部件。
[0081]在一些實施例中,所述方法可以進一步包括:通過第一出口將第一部件從第一室輸送到第二臺;通過第二出口將第二部件從第二室輸送到第二臺;在清潔之后輸送第一和第二部件和除氣第一和第二部件;以及將第一和第二部件輸送到第四室,其中第四室可操作以組裝第一和第二部件。
[0082]進一步地,清潔工件的清潔系統(tǒng)和方法可以包括諸如其它部分中所述的特征的其它特征。例如,特征可以包括單獨的環(huán)境、用于使用同一個機器人把手拾取并放置不同部件的手柄臂、用于將不同部件保持在不同位置的手柄臂、用于外容器的水平自旋清潔和干燥、熱水和熱空氣清潔過程、用于通過熱空氣噴嘴進行清潔以用于干燥的垂直噴嘴和格柵式兆超聲波噴嘴、用于對不同部件進行除氣的真空凈化室、和吹掃氣體裝載和卸載臺。
[0083]在一個實施例中,本發(fā)明公開了保持將要被清潔的對象的機械手。單個機器手可以用于保持對象的所有部件。可選地,可以使用多個機械手。在一個實施例中,具有可調(diào)節(jié)夾持臂的抓握手柄用于保持雙容器載具的所有不同尺寸的部件。例如,因為外容器比內(nèi)容器大,因此夾持臂可以被加大以保持外容器和減小以保持內(nèi)容器。因此,具有夾持臂的單個機械手可以用于保持對象的不同部件。
[0084]在一個實施例中,機械手進一步被設計成通過使具有不同清潔度水平的不同與機械手的不同部分接觸來避免對象的部件之間的交叉污染。例如,夾持臂在夾持臂的不同位置處夾持不同部件。夾持臂的頂部可以用于支撐外容器部分。夾持臂的中間部分可以用于支撐內(nèi)容器部分。
[0085]在一個實施例中,機械手進一步被設計成最小化顆粒生成。例如,夾持臂被控制從而以最小化可以生成顆粒的摩擦力的最小力夾持部件。代替使用氣動控制,具有或沒有反饋傳感器的電動機控制可以用于控制當保持載具部件時由夾持臂產(chǎn)生的力。[0086]圖12A-12B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的示例性機械手。機械手包括連接到手柄120的兩個夾持臂121A和121B。諸如電動機的移動機構(gòu)126可以移動夾持臂(127),以用于使夾持臂的夾持擴大或變小以適應不同尺寸的對象。電動機可以具有控制器部件,諸如電流傳感器(內(nèi)置電動機,未示出)或者壓力傳感器125A / 125B,以控制在將要被夾持的對象上的來自夾持臂的力??梢园ㄈ芜x的插入件122A / 122B以進一步減少由于摩擦力生成的顆粒。
[0087]圖13A-13C示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的夾持臂的示例性夾持結(jié)構(gòu)。在圖13A中,夾持臂121從抓握臂插入件122的中間部分131支撐內(nèi)容器的部件130(例如,上蓋)。銷135可以用于通過與部件130的凹部137配合而鎖定部件130 (參見圖13C)。在圖13B中,夾持臂121從夾持臂插入件122的頂部部分133支撐外容器的部件132 (例如,上蓋)。銷135可以用于通過與部件的凹部配合而鎖定部件133 (未示出,但是與圖13C類似)。夾持臂因此在不同的位置處(中間部分131和頂部部分133)夾持對象的不同部件,從而可以最小化具有不同清潔度水平的不同部件之間的交叉污染。可以使用其它結(jié)構(gòu),例如,從插入件的底部支撐部件的夾持臂,或在沒有插入件的情況下直接通過夾持臂支撐部件的夾持臂。
[0088]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于保持工件的機械手,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件。機械手可以包括:手柄,其中手柄包括兩個臂,其中兩個臂之間的距離可調(diào)節(jié)以支撐第一部件和第二部件;連接到兩個臂以調(diào)節(jié)兩個臂之間的距離的機構(gòu);其中每一個臂都包括用于夾持第一部件的第一部分和用于夾持第二部件的第二部分,其中第一部分和第二部分設置在臂上的不同位置處。
[0089]在一些實施例中,機構(gòu)可以包括電動機。第一部分可以包括中間部分臂。第二部分可以包括頂部部分臂或底部部分臂。機械手可以進一步包括用于控制作用在第一或第二部件上的力的反饋傳感器。機械手可以包括連接到臂的插入件,其中第一部分包括插入件的中間部分。機械手可以包括連接到臂的插入件,其中第二部分插入件的頂部部分或底部部分。機械手可以包括用于與第一或第二部件中的凹部配合的銷。
[0090]圖14A-14B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于使用本夾持臂夾持對象的示例性流程圖。在圖14A中,操作140打開夾持臂以包圍工作對象。操作141閉合夾持臂以保持工作對象。操作142任選地感測夾持臂上的力。操作143控制夾持臂的力以最小化由于接觸而產(chǎn)生的顆粒。
[0091]在圖14B中,操作144提供包括多個可分離部件的對象。操作145打開夾持臂以包圍對象的部件。操作146移動夾持臂以在夾持臂的預定位置處接觸對象,其中選擇夾持臂的位置以最小化對象的部件之間的交叉污染。操作147閉合夾持臂以保持對象部件。
[0092]圖15示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于使用單獨的清潔室分別清潔對象的示例性流程圖。操作150移動夾持臂以在夾持臂的第一位置處接觸外容器的頂部部分。操作151將外容器的頂部部分輸送到第一處理室。操作152移動夾持臂以在夾持臂的第二位置處接觸內(nèi)容器的頂部部分。操作153將內(nèi)容器的頂部部分輸送到第二處理室。操作154移動夾持臂以在夾持臂的第二位置處接觸內(nèi)容器的底部部分。操作155將內(nèi)容器的底部部分輸送到第三處理室。操作156移動夾持臂以在夾持臂的第一位置處接觸外容器的底部部分。操作157將外容器的底部部分輸送到第四處理室。[0093]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于輸送工件的方法,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件。所述方法可以包括:擴大兩個夾持臂之間的第一距離以包圍第一部件;在夾持臂上的第一部分處夾持第一部件;將第一部件輸送到第一目的地;擴大兩個夾持臂之間的第二距離以包圍第二部件;在夾持臂上的第二部分處夾持第二部件;將第二部件輸送到第二目的地,其中第一部分和第二部分設置在臂上的不同位置上。
[0094]在一些實施例中,可以通過電動機來執(zhí)行擴大和夾持。所述方法可以進一步包括使臂上的銷與第一或第二部件上的凹部配合。
[0095]在一些實施例中,可以在輸送具有包圍第二部件的第一部件的工件時使用機械手。機械手可以用于本說明書中所述的其它結(jié)構(gòu)。
[0096]在一個實施例中,本發(fā)明公開了用于清潔對象的不同部件的不同清潔室。為了清潔對象,多個液體噴嘴可以朝向?qū)ο蟊砻嬷赶颉R后w噴嘴可以輸送清洗液、沖洗液(例如,DI水)及被設計成用于清潔對象并對對象進行凈化的諸如表面活性劑或除金屬劑的其它化學液體的混合物。超音速或兆聲波噴嘴可以輸送高能液體以提高清潔力。例如通過噴射細微液滴和浮質(zhì)氣泡以及載氣(例如,氮氣、空氣或惰性氣體)可以謹慎地控制液體的量。液體噴嘴還可以被構(gòu)造成輸送氣體,例如,氮氣或過濾空氣,或氣體/液體混合物??梢允褂每焖僬舭l(fā)液體,例如低沸騰溫度和高蒸氣壓力的酒精。還可以使用熱載氣和熱液體以,例如,有助于通過蒸發(fā)進行快速干燥。另外,室和對象的位置可以被設計成使得可以通過良好的排泄移除液體而沒有液體滯留并且沒有液體死點。進一步地,在液體清潔周期期間,可以通過快速排放和低室壓力,例如通過用干燥氣體吹掃和/或通過保持清潔室內(nèi)部的真空壓力,來除去液體蒸汽。
[0097]噴嘴可以被設計成能與表面重疊,從而提供對表面的完全覆蓋以確保全部清潔。噴嘴可以提供小角度流動,例如,以具有足夠的清潔力。沖擊角度可以垂直于具有較大力的表面,或可以沿著用于較高表面覆蓋率的表面。在一個方面中,將要被清潔的對象是半導體容器,因此污染物往往是小微?;蚪饘傥廴疚铮⑶冶景l(fā)明公開了具有用于更高覆蓋面積的中間壓力和低角度沖擊清潔的噴嘴。
[0098]在典型的清潔過程中,例如清洗溶液的清洗液被噴射到諸如掩模版載具部件的對象上。諸如表面活性劑、洗滌劑、或凈化染物/金屬劑的添加劑可以例如通過吸入或泵送被添加到水或其它液體中。凈化染物/金屬劑可以是諸如螯合劑的去金屬劑。代替表面活性劑可以使用高堿性洗滌劑。紫外線光可以被添加以例如輔助污染物的除去。在完成清潔和/或污染物除去之后,接著用諸如DI水的沖洗液進行噴射來沖洗??梢詧?zhí)行周期清潔/沖洗過程以用于有效清潔。清洗液可以被集中以用于再循環(huán)。
[0099]在一個實施例中,清潔處理提供小液滴到有助于隨后的干燥處理。另外,可以提供清除氣體或液體噴射以將液滴破壞成甚至更小的液滴。在液體聚集的區(qū)域中,例如,在表面的底部處,可以提供氣體或液體噴射以將大的聚集在一起的液體破壞成小液滴,從而例如將液體吹走。
[0100]在一個實施例中,可以加熱液體以增加揮發(fā)性,從而增加液體殘留物除去的容易性。另外,還可以例如通過IR或UV燈加熱對象和處理室。
[0101 ] 在清潔室中,對象可以被定位成使得液體可以通過重力向下運動。在液體清潔之后,可以通過氣流干燥對象,例如,提供氮氣、過濾空氣、液體或充氣液體的氣體噴嘴可以朝向物體指向以有助于除去被表面張力圈閉的液體殘留物。例如,除了頂部氣體噴嘴可以朝向頂部表面指向之外,底部氣體噴嘴可以朝向?qū)ο蟮牡撞恐赶?,并且其它氣體噴嘴朝向可能會圈閉液體殘留物的不規(guī)則形狀的對象指向。此外,可以使用自旋干燥。
[0102]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔工件的系統(tǒng)。系統(tǒng)可以包括:室;一個或多個第一噴嘴,其中第一噴嘴可操作以輸送清洗液;一個或多個第二噴嘴,其中第二噴嘴可操作以輸送兆聲波液體;一個或多個第三噴嘴,其中第三噴嘴可操作以輸送干燥氣體;第一機構(gòu),用于使第二噴嘴在第一方向上移動;第二機構(gòu),用于使工件在第二方向上移動,其中第二方向不同于第一方向。
[0103]在一些實施例中,第一方向可以是水平的,而第二方向可以是垂直的。第二噴嘴可以周期地從工件的一側(cè)朝向工件的相對側(cè)移動。工件可以垂直移動。第三噴嘴可以設置在第一噴嘴上方。第二噴嘴可以與第一噴嘴穿插設置。
[0104]圖16A-16C示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的對象的示例性清潔次序。在圖16A中,諸如雙容器載具的外容器的上蓋的對象從在層流161下的骯臟環(huán)境162被帶到清潔室164。清潔室例如通過關閉通向潔凈環(huán)境的進入門而與潔凈環(huán)境166隔離。另外,可以將吹掃氣體163提供給清潔室164以防止污染物從骯臟環(huán)境回流到清潔室。
[0105]在圖16B中,清潔室被隔離,并且液體和氣體噴嘴165可以提供清潔對象的液體和氣體。對象可以沿水平方向設置,并且可以應用自旋清潔和干燥167以提高清潔和干燥處理。噴嘴165可以順序地操作,例如,輸送用于清潔的液體,并隨后輸送用于干燥的氣體。可以使用熱液體和熱氣體??梢栽O置加熱器以提供熱能,從而輔助清潔和干燥處理。
[0106]在圖16C中,打開出口門,并將對象帶到潔凈環(huán)境166。可以例如通過排氣裝置169在清潔室中建立低壓力以防止?jié)崈舡h(huán)境的任何污染物回流。幕墻式氣體168可以用于進一步最小化污染物回流。
[0107]圖17A-17B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于清潔對象的示例性流程圖。在圖17A中,操作170旋轉(zhuǎn)將要被清潔的對象。操作171用熱液體噴射清潔對象。操作172用熱氣體干燥對象。操作173使清潔室中的壓力與輸入環(huán)境平衡以防止交叉污染。在圖17B中,操作174將雙容器載具的外容器的部件從輸入環(huán)境輸送到清潔室。操作175用熱液體噴射和熱氣體干燥旋轉(zhuǎn)地清潔部件。操作176使清潔室中的壓力與輸出環(huán)境平衡以防止交叉污染。操作177將清潔部件從清潔室輸送到輸出環(huán)境。
[0108]在一個實施例中,本發(fā)明公開了一種清潔要求高水平清潔度的諸如雙容器載具的內(nèi)容器的部件的新穎的清潔室和方法。清潔室使用格柵式超音速或兆聲波液體噴灑以清潔對象。在一個實施例中,超音速或兆聲波噴嘴在水平方向上移動,同時對象在垂直方向上移動,從而用來自超音速或兆聲波噴嘴的噴射覆蓋對象的所有表面區(qū)域。另外,液體噴射可以用于預先清潔,而干燥噴嘴可以用于干燥。
[0109]圖18A-18C和19A-19B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的采用超音速或兆聲波液體噴射的示例性清潔室。優(yōu)選地在垂直方向上并從清潔室的頂部部分將對象帶到清潔室184。接著將對象帶到底部部分,然后緩慢地升高后部183到達頂部部分,如圖18A-18C和19A-19B按順序所示。在底部部分處,液體噴嘴181將液體輸送到對象180以進行清潔。液體噴嘴181優(yōu)選地被設置成距離對象一距離,從而通過大面積181A噴射在對象表面處。超音速或兆聲波噴嘴182清潔對象的頂部部分,并且對象緩慢升高,噴嘴182連續(xù)清潔整個對象表面。另外,超音速或兆聲波噴嘴在水平方向191上移動,從而可以在水平方向上清潔對象。超音速或兆聲波噴嘴優(yōu)選地靠近對象設置以進行有效的清潔,從而通過小面積182A噴射在對象表面處。通過格柵式作用,包括超音速或兆聲波噴嘴的水平移動191和對象的垂直運動193,超音速或兆聲波噴射可以覆蓋對象的整體表面,從而提供有效的清潔處理。
[0110]多個干燥噴嘴183位于超音速或兆聲波噴嘴上方,所述干燥噴嘴向下指向?qū)ο笠杂糜诟稍飳ο蟛⑾蛳麓邓鸵后w。干燥噴嘴183可以被設置成輸送向下區(qū)域183A??梢允褂脽嵋后w和熱氣體以及加熱器。液體噴射、超音速或兆聲波液體噴射、和干燥噴射的組合可以以高清潔度水平清潔對象。
[0111]圖20A-20B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于清潔對象的示例性流程圖。在圖20A中,操作200用熱液體噴射清潔對象。操作201用兆聲波噴射格柵式地清潔對象。操作202用熱氣體干燥對象。在圖20B中,操作203在將雙容器載具的內(nèi)容器的部件從輸入環(huán)境輸送到清潔室之前使清潔室中的壓力與輸入環(huán)境平衡以防止交叉污染。操作204使部件在第一方向上線性移動部件。操作205用熱液體噴射部件。操作206用具有在第二方向上的移動的兆聲波液體噴射部件。操作207用熱氣體干燥部件。操作208在將清潔的部件從清潔室輸送到輸出環(huán)境之前使清潔室中的壓力與輸出環(huán)境平衡以防止交叉污染。
[0112]在一些實施例中,用于清潔工件的方法可以包括以下步驟:在清潔室中提供工件;使工件在第一方向上移動;用清洗液噴射工件;用兆聲波液體噴射工件,其中兆聲波液體包括在第二方向上的移動,其中第二方向不同于第一方向;用干燥氣體噴射工件。兆聲波噴嘴可以周期性地從工件一側(cè)移動到工件的相對側(cè)。干燥氣體可以在清洗液和兆聲波液體上方被噴射。清洗液可以與兆聲波液體穿插噴射。所述方法可以還包括以下步驟:在將工件輸送到清潔室之前使清潔室中的壓力平衡,和/或在從清潔室輸送出工件之前使清潔室中的壓力平衡。
[0113]在一個實施例中,本發(fā)明公開了一種在清潔之后對部件進行凈化的凈化室。凈化可以使用具有優(yōu)選地小于10_3托或優(yōu)選地小于10_6托的高真空的真空室。真空室可以加速部件的除氣,從而除去部件內(nèi)的任何圈閉氣體。
[0114]真空室可以被設計成提供具有有效泵送和高泵送流導的結(jié)構(gòu)。真空室還可以包括諸如IR加熱器或室壁加熱器的加熱機構(gòu)。加熱器可以被加熱到40°C與90°C之間,并且優(yōu)選地加熱到大約70°C。加熱溫度取決于材料,例如,小于100°C的低溫優(yōu)選地用于聚合物材料,而100°C以上的高溫可以用于金屬。
[0115]在一個實施例中,諸如殘留氣體分析(RGA)的除氣監(jiān)控傳感器被設置成測量真空室中的污染物的除去,其然后可以用于監(jiān)測凈化處理。
[0116]在一個實施例中,將諸如氮氣的惰性吹掃氣體提供給真空室內(nèi)部以回填由于對污染物進行除氣而留下的任何間隙??梢詧?zhí)行周期性加壓和抽真空,從而對污染物進行除氣,然后用惰性氣體進行回填。
[0117]在一個實施例中,在通過高真空對部件進行凈化之后,在打開之前用氮氣給室加壓,從而用氮氣分子有效地涂布部件的表面(并填充子表面),從而進一步提高清潔度并防止粘附微粒。
[0118]圖21A示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的示例性凈化室。真空室210包括連接到諸如渦輪泵或低溫泵的真空泵219從而在室210內(nèi)產(chǎn)生高真空的真空管線213??梢栽O置切斷閥217A以隔離真空泵管線。加熱器212被設置在真空室中用于加熱室以及門211A和211B??梢园ㄓ糜诒O(jiān)測除氣物質(zhì)的諸如RGA的傳感器215。可以設置切斷閥217B以隔離氣體監(jiān)測器,例如,傳感器215。吹掃氣體214可以為真空室提供惰性環(huán)境,以例如防止在將部件輸送到外面之前污染物的回流。如果部件沒有除氣太多,則可以使用氣體監(jiān)測器215與凈化室的直接連接。例如,對于由金屬材料制成的內(nèi)箱,除氣污染物比聚合物材料少得多。
[0119]圖21B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的另一個示例性凈化室。真空室210包括連接到諸如渦輪泵或低溫泵的真空泵219從而在室210內(nèi)產(chǎn)生高真空的真空管線213。可以設置切斷閥217A以隔離真空泵管線。加熱器212被設置在真空室中用于加熱室以及門211A和211B??梢园ㄓ糜诒O(jiān)測除氣物質(zhì)的諸如RGA的傳感器215??梢栽O置切斷閥217B以隔離氣體監(jiān)測器,例如,傳感器215。吹掃氣體214可以為真空室提供惰性環(huán)境,以例如防止在將部件輸送到外面之前污染物的回流。另一個真空泵219A可以連接在閥217B與氣體監(jiān)測器215之間,以保持氣體監(jiān)測器的真空水平。差動閥218可以包括在氣體監(jiān)測器與室之間。不同閥可以包括小孔(與管道的直徑相比,使得差動閥的傳導性比管道的傳導性小得多),以便限制從室到氣體監(jiān)測器的流動。因此,可以限制從部件釋放出的污染物到達氣體監(jiān)測器。如果部件被太多除氣,則可以使用氣體監(jiān)測器215與凈化室的差動閥連接。例如,對于由聚合物材料制成的外箱,除氣污染物可能較高,并因此如果不限制到達氣體監(jiān)測器,則可能會使氣體監(jiān)測器飽和。
[0120]在一些實施例中,用于清潔工件的系統(tǒng)可以包括:第一室,其中第一室可操作以清潔工件;第二室,其中第二室包括在工件被清潔之后對工件進行除氣的真空環(huán)境;機器人機構(gòu),用于在第一室與第二室之間輸送工件。
[0121]所述系統(tǒng)還可以包括:連接到第二室的第一真空泵;連接在第一真空泵與第二室之間的第一切斷閥;連接到第二室的氣體監(jiān)測器;連接在氣體監(jiān)測器與第二室之間的第二切斷閥;連接在氣體監(jiān)測器與第二室之間的差動閥;連接在差動閥與第二室之間的第二真空泵;用于加熱第二室中的工件的加熱器;用于將惰性氣體注入到第二室的噴嘴。
[0122]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔工件的系統(tǒng),其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件。所述系統(tǒng)可以包括:第一室,其中第一室可操作以對工件的部件進行除氣;通過第一切斷閥連接到第一室的第一真空泵;通過一組件連接到第二室的第一氣體監(jiān)測器,其中所述組件包括第二切斷閥和差動閥;以流體連通的方式連接在第一氣體監(jiān)測器與組件之間的第二真空泵,其中第二監(jiān)測器可操作以保持氣體監(jiān)測器處的真空環(huán)境;第二室,其中第二室可操作以對工件的第二部件進行除氣;通過第三切斷閥連接到第二室的第三真空泵;通過第四切斷閥連接到第二室的第二氣體監(jiān)測器。
[0123]所述系統(tǒng)還可以包括:用于在第一部件輸送到第一室之前清潔第一部件的第三室;用于在第二部件輸送到第二室之前清潔第二部件的第四室;用于加熱第一或第二室中的工件的加熱器;和用于將惰性氣體注入到第一或第二室的噴嘴。
[0124]圖22A-22B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于對對象進行凈化的示例性流程圖。在圖22A中,操作220清潔對象。操作221對清潔對象進行除氣。操作222任選地注入惰性吹掃氣體。操作223任選地加熱對象。操作224任選地監(jiān)測被除氣物質(zhì)。操作225在輸送出對象之前對室進行加壓。
[0125]在一個實施例中,本發(fā)明還公開了一種用于通過分離對象的進行除氣的部件來而對象進行凈化的方法。在圖22B中,操作226分別清潔雙容器載具的部件。操作227對進行除氣處理的類似部件進行分組。操作228組裝雙容器載具。
[0126]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔工件的方法,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件。所述方法可以包括:將工件的第一部件到第一室;將外界環(huán)境泵送在第一室內(nèi);通過差動閥將第一室連接到第一氣體監(jiān)測器;將工件的第二部件輸送到第二室;將外界環(huán)境泵送在第二室內(nèi);將第二室直接連接到第二氣體監(jiān)測器。
[0127]所述方法還可以包括以下步驟:在來自第一氣體監(jiān)測器的信號穩(wěn)定之后,將第一室直接連接到第一氣體監(jiān)測器;在第一或第二室中的氣態(tài)污染物的水平達到期望水平之后,停止泵送;在將第一部件輸送到第一室之前清潔第一部件;在將第二部件輸送到第二室之前清潔第二部件;在泵送期間將惰性氣體注入到第一或第二室;在泵送期間加熱第一或第二室中的第一或第二部件;以及在將第一或第二部件從第一或第二室輸送出來之前對第一或第二室進行加壓。
[0128]在一個實施例中,本發(fā)明公開了一種組裝臺,優(yōu)選地用于在控制環(huán)境下分別組裝清潔部件的一體式組裝臺。對于高水平清潔度,應該考慮避免暴露給潛在的污染物源。因此,在被分別清潔之后,部件在潔凈環(huán)境中被組裝以保持清潔度水平,從而例如最小化由于暴露到外部環(huán)境而導致的內(nèi)容器的任何污染。
[0129]在一個實施例中,組裝臺填充有氮氣。因此,在打開輸送處理之前從填充有氮氣的真空凈化室輸送之后,部件被輸送到填充有氮氣的組裝臺。組裝臺因此可以保持部件在清潔之后的清潔度。
[0130]在一個實施例中,本發(fā)明公開了一種用于組裝雙容器掩模版載具的組裝臺。組裝臺可以提供在內(nèi)容器與外容器之間通過氮氣吹掃在潔凈環(huán)境(優(yōu)選地氮氣環(huán)境)中的組裝處理。
[0131]圖23A-23B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的示例性組裝臺和方法。將要被組裝的部件231A / 231B和232A / 232B被輸送到包括氮氣吹掃氣體入口 234的組裝臺230。底部支撐件231B放置在氮氣噴嘴上。底部支撐件232B和頂部蓋232A接著被放置在底部支撐件231B上。頂部蓋231A接著被帶到組裝臺。在氮氣噴嘴235將氮氣提供給底部支撐件231B的情況下,頂部蓋231A與底部支撐件231B組裝在一起,從而將氮氣有效地吹掃并提供給由底部支撐件231B和頂部蓋231A形成的外容器的容積。通過在氮氣環(huán)境下的組裝臺,在一些情況下,優(yōu)選地在稍微加壓的情況下,組裝臺被打開,并且組裝后的載具接著被輸送到外面。
[0132]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔工件的系統(tǒng),其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件。所述系統(tǒng)可以包括:第一室,其中第一室可操作以清潔工件的第一部件;第二室,其中第二室可操作以清潔工件的第二部件;第三室,其中第三室可操作以在第一和第二部件被清潔之后組裝第一和第二部件;連接到第三室的第一氣體供應裝置,其中第一氣體供應裝置可操作以將惰性氣體輸送到第三室;連接到第三室的第二氣體供應裝置,其中第二氣體供應裝置可操作以將惰性氣體輸送到第一或第二部件的內(nèi)部。第二氣體供應裝置可以突入到第三室中以與第一部件的開口連接。
[0133]圖24A-24B示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的用于組裝對象的示例性流程圖。在圖24A中,操作240將對象的部件帶到組裝室。操作241通過惰性氣體給組裝室加壓。操作242將部件組裝在一起,同時使惰性氣體流動到組裝對象的內(nèi)部。
[0134]在圖24B中,操作243使惰性氣體在組裝室中流動。操作244將雙容器載具的外容器的底部部件輸送到組裝室并使底部部件與惰性氣體的噴嘴連接。操作245將內(nèi)容器的頂部部件和底部部件輸送到組裝室,從而連接到外容器的底部部件。操作246將雙容器載具的外容器的頂部部件輸送到組裝室。操作247使惰性氣體流動到噴嘴。操作248將外容器的頂部部件組裝到外容器的底部部件,且惰性氣體填充在組裝后的外容器的內(nèi)部。
[0135]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔工件的方法,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件。所述方法可以包括以下步驟:清潔第一部件;清潔第二部件;將第一部件輸送到室;將第二部件輸送到室;通過惰性氣體給室加壓;組裝第一和第二部件以形成組裝的工件。第一部件設置在連接到室外的氣體供應裝置的管道上。所述方法還可以包括以下步驟:使惰性氣體流動到管道。
[0136]在一個實施例中,本發(fā)明公開了 一種用于通過將氮氣吹掃到對象內(nèi)部的容積的清潔系統(tǒng)的裝載和卸載臺。為了保持載具內(nèi)部的對象的清潔度水平,內(nèi)部容積被諸如氮氣的惰性氣體連續(xù)吹掃。因此,本發(fā)明公開可一種用于輸送和/或存儲臺從而確保內(nèi)部容積的恒定吹掃的惰性氣體吹掃。
[0137]圖25示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的具有吹掃噴嘴的示例性輸送和/或存儲臺。雙容器載具250被放置在臺252中的氮氣吹掃噴嘴254上。通過氮氣噴嘴234將氮氣255提供給雙容器載具250的底部支撐件,使用新鮮氮氣不斷吹掃外容器內(nèi)的容積。
[0138]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于清潔工件的系統(tǒng),其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件。所述系統(tǒng)可以包括:第一室,其中第一室可操作以清潔工件的第一部件;第二室,其中第二室可操作以清潔工件的第二部件;第三室,其中第三室可操作以制成組裝后的工件;連接到第三室的氣體供應裝置,其中第一氣體供應裝置可操作以將惰性氣體輸送組裝后的工件的內(nèi)部。氣體供應裝置可以突入到第三室內(nèi)以與第一部件的開口連接。
[0139]在一些實施例中,用于清潔工件的方法可以包括以下步驟:清潔第一部件;清潔第二部件;組裝第一和第二部件以形成組裝的工件;使惰性氣體流動到組裝的工件內(nèi)部。第一部件可以設置在連接到室外的氣體供應裝置的管道上。
[0140]在一些實施例中,本發(fā)明公開了一種用于EUV載具的清潔系統(tǒng),包括:用于輸入(用于要被清潔的載具)和輸出(用于清潔載具)的單獨的環(huán)境;用于單獨的環(huán)境的流動動態(tài);用于載具的不同部分的單獨的清潔室;用于最小化載具的不同部分之間的交叉污染的機械手;用于除去除氣分子的去氣和凈化室;和用于將吹掃氣體提供給載具的內(nèi)部的吹掃臺。
[0141]可以使用不同結(jié)構(gòu)的清潔系統(tǒng),包括單個吞吐量清潔系統(tǒng)、雙吞吐量清潔系統(tǒng)、混合清潔系統(tǒng)和不清潔的清潔系統(tǒng)。
[0142]圖26A-26B示出了根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的清潔器的示例。圖26A顯示了標準清潔系統(tǒng),所述標準清潔系統(tǒng)包括:輸入環(huán)境262 (例如,用于要被清潔的載具的骯臟環(huán)境或非潔凈環(huán)境);多個清潔室264A-264C ;和輸出環(huán)境266 (例如,用于清潔載具的潔凈環(huán)境);以及用于除去可除氣分子的除氣室268。
[0143]圖26B顯示了具有雙吞吐量的清潔系統(tǒng),其中共用相同的輸入環(huán)境261、兩個清潔部分263A-263C和265A-265C、和兩個輸出環(huán)境267和269、以及兩個除氣室268。要被清潔的載具可以被帶到輸入環(huán)境261,被輸送到清潔室部分中的任一個,并在被除氣之后被輸出到輸出環(huán)境267或269。
[0144]圖27示出了根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的混合清潔系統(tǒng)的示例。混合清潔系統(tǒng)可以包括位于輸出潔凈環(huán)境276與輸入非潔凈環(huán)境272之間的清潔室271A-271C以及共用相同的輸入和輸出環(huán)境272的清潔室273。因此諸如掩模版SMIF盒的傳統(tǒng)的掩模版箱可以被帶到輸入環(huán)境272,在清潔室273中被清潔,并輸出到相同的輸入環(huán)境272。EUV載具可以被帶到輸入環(huán)境272,在單獨的清潔室274A-274C中被清潔,并在除氣室278中被除氣之后輸出到輸出環(huán)境276。
[0145]圖28示出了根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的清潔系統(tǒng)的示例。清潔系統(tǒng)可以使用相同輸入和輸出環(huán)境281,具有單獨的清潔室284A-284C。EUV載具可以被帶到輸入環(huán)境281,在單獨的清潔室284A-284C中被清潔,并被輸出到同一環(huán)境281以在除氣室288中被除氣。在共用環(huán)境281中可以考慮避免污染物,諸如將輸入和輸出定位在環(huán)境281的分離部分中,并提供從輸出部分到輸入部分的層流。
【權(quán)利要求】
1.一種用于清潔工件的系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括: 第一臺,其中第一臺包括用于輸送工件的第一機器人機構(gòu); 第二臺,其中第二臺包括用于輸送工件的第二機器人機構(gòu); 室,其中所述室能夠操作以清潔工件, 其中室包括入口,其中入口能夠操作以用于能夠通過第一機器人機構(gòu)將工件從第一臺輸送到室, 其中室包括出口,其中所述出口能夠操作以用于能夠通過第二機器人機構(gòu)將工件從室輸送到第二臺, 其中第二臺與第一臺隔離, 其中第二臺的環(huán)境比第一臺的環(huán)境清潔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中室的入口和出口不會同時打開,從而提供第一臺與第二臺的隔離。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),進一步包括在打開入口期間建立從第二臺到室的流動或在打開出口期間建立從室到第一臺的流動的機構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中第一臺包括連接到外部環(huán)境的過濾層流,以及其中第二臺包括具有升高底部和冷卻器的過濾再循環(huán)氣流。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),進一步包括在室的出口處建立幕墻式流動的機構(gòu)。
6.一種用于清潔工件的方法,所述方法包括以下步驟: 通過室的入口將工件從第一臺輸送到室; 在室中清潔工件; 通過室的出口將工件從室輸送到第二臺, 其中第二臺與第一臺隔離, 其中第二臺的環(huán)境比第一臺的環(huán)境清潔。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,進一步包括以下步驟: 在將工件從第一臺輸送到室之前關閉室的出口 ;以及 在將工件從室輸送到第二臺之前關閉室的入口。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,進一步包括以下步驟: 在打開室的入口以將工件從第一臺輸送到室之前給室加壓;以及 在打開室的出口以將工件從室輸送到第二臺之前降低室中的壓力。
9.一種用于清潔工件的方法,所述方法包括以下步驟: 建立連接清潔室的具有不同清潔度水平的兩個環(huán)境; 將工件從臟環(huán)境輸送到清潔室以進行清潔; 將工件從清潔室輸送到潔凈環(huán)境, 其中兩個環(huán)境在工件的輸送期間相互隔離。
10.一種用于清潔工件的系統(tǒng),其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件,所述系統(tǒng)包括: 第一室,其中第一室能夠操作以清潔第一部件; 第二室,其中第二室能夠操作以清潔第二部件; 第一臺,其中第一臺連接到第一室和第二室,其中第一臺包括第一機器人機構(gòu),其中第一機器人機構(gòu)能夠操作以將第一部件從第一臺輸送到第一室和將第二部件從第一臺輸送到第二室。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng),其中第一部件和第二部件每一個都包括蓋和主體,并且其中第一室和第二室每一個都包括能夠操作以清潔蓋的第一蓋室和能夠操作以清潔主體的第一主體室。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng),其中第一室包括第一入口和第一出口,其中第二室包括第二入口和第二出口,其中第一臺連接到第一入口和第二入口,其中系統(tǒng)進一步包括: 第二臺,其中第二臺連接到第一出口和第二出口,其中第二臺包括第二機器人機構(gòu),其中第二機器人機構(gòu)能夠操作以將第一部件從第一室輸送到第二臺和將第二部件從第二室輸送到第二臺。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng),其中第一臺與第二臺隔離。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng),進一步包括一個或多個第三室,其中第三室能夠操作以能夠在清潔之后對第一部件和第二部件進行除氣。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng),進一步包括第四室,其中第四室能夠操作以能夠在清潔之后組裝第一部件和第二部件。
16.一種用于清潔工件的方法,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件,所述方法包括以 下步驟: 將工件的第一部件從第一臺輸送到第一室; 將工件的第二部件從第一臺輸送到第二室; 在第一室和第二室中清潔第一部件和第二部件。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,其中第一室包括第一入口和第一出口,其中第二室包括第二入口和第二出口,其中第一部件通過第一入口從第一臺被輸送到第一室,其中第二部件通過第二入口從第一臺被輸送到第二室,其中所述方法進一步包括以下步驟: 通過第一出口將第一部件從第一室輸送到第二臺; 通過第二出口將第二部件從第二室輸送到第二臺。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,進一步包括以下步驟: 在清潔之后輸送第一和第二部件,對所述第一和第二部件進行除氣。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,進一步包括以下步驟: 將第一和第二部件輸送到第四室,其中第四室能夠操作以組裝第一和第二部件。
20.一種用于保持工件的機械手,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件,所述機械手包括:手柄,其中手柄包括兩個臂,其中兩個臂之間的距離能夠被調(diào)節(jié)以支撐第一和第二部件; 連接到兩個臂以調(diào)節(jié)兩個臂之間的距離的機構(gòu); 其中每一個臂都包括用于夾持第一部件的第一部分和用于夾持第二部件的第二部分, 其中第一部分和第二部分設置在臂上的不同位置上。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng),還包括連接到臂的插入件,其中第一部分包括插入件的中間部分。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng),還包括連接到臂的插入件,其中第二部分包括插入件的頂部部分或底部部分。
23.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng),還包括用于與第一或第二部件上的凹部配合的銷。
24.一種用于輸送工件的方法,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件,所述方法包括以下步驟: 擴大兩個夾持臂之間的第一距離以包圍第一部件; 將第一部件夾持在夾持臂上的第一部分處; 將第一部件輸送到第一目的地;
擴大兩個夾持臂之間的第二距離以包圍第二部件; 將第二部件夾持在夾持臂上的第二部分處; 將第二部件輸送到第二目的地, 其中第一部分和第二部分設置在臂上的不同位置上。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法,其中擴大和夾持由電動機來執(zhí)行。
26.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法,其中夾持由反饋傳感器控制。
27.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法,還包括以下步驟:使臂上的銷與第一或第二部件上的凹部配合。
28.一種用于清潔工件的系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括: 室; 一個或多個第一噴嘴,其中第一噴嘴能夠操作以輸送清潔液; 一個或多個第二噴嘴,其中第二噴嘴能夠操作以輸送兆聲波液體; 一個或多個第三噴嘴,其中第三噴嘴能夠操作以輸送干燥氣體; 用于使第二噴嘴在第一方向上移動的第一機構(gòu); 用于使工件在第二方向上移動的第二機構(gòu),其中第二方向不同于第一方向。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng),其中第二噴嘴從工件的一側(cè)周期性地移動到工件的相對側(cè)。
30.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng),其中工件垂直移動。
31.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng),其中第三噴嘴設置在第一噴嘴上方。
32.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng),其中第二噴嘴與第一噴嘴穿插設置。
33.一種用于清潔工件的方法,所述方法包括以下步驟: 在清潔室中提供工件; 使工件在第一方向上移動; 用清洗液噴射工件; 用兆聲波液體噴射工件,其中兆聲波液體包括在第二方向上的移動,其中第二方向不同于第一方向; 用干燥氣體噴射工件。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的方法,其中干燥氣體在清洗液和兆聲波液體上方噴射。
35.根據(jù)權(quán)利要求33所述的方法,其中清洗液與兆聲波液體穿插噴射。
36.根據(jù)權(quán)利要求33所述的方法,還包括以下步驟:在將工件輸送到清潔室之前平衡清潔室中的壓力。
37.根據(jù)權(quán)利要求33所述的方法,還包括以下步驟: 在將工件從清潔室輸送出之前平衡清潔室中的壓力。
38.一種用于清潔工件的系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括: 第一室,其中第一室能夠操作以清潔工件, 第二室,其中第二室包括對被清潔之后的工件進行除氣的真空環(huán)境; 用于在第一室與第二室之間輸送工件的機器人機構(gòu)。
39.根據(jù)權(quán)利要求38所述的系統(tǒng),還包括連接到第二室的第一真空泵。
40.根據(jù)權(quán)利要求38所述的系統(tǒng),還包括連接在第一真空泵與第二室之間的切斷閥。
41.根據(jù)權(quán)利要求38所述的系統(tǒng),還包括連接到第二室的氣體監(jiān)測器。
42.根據(jù)權(quán)利要求38所述的系統(tǒng),還包括連接在氣體監(jiān)測器與第二室之間的第二切斷閥。
43.根據(jù)權(quán)利要求38所述的系統(tǒng),還包括連接在氣體監(jiān)測器與第二室之間的差動閥。
44.根據(jù)權(quán)利要求38所述的系統(tǒng),還包括連接在差動閥與第二室之間的第二真空泵。
45.根據(jù)權(quán)利要求38所述的系統(tǒng),還包括用于加熱第二室中的工件的加熱器。
46.根據(jù)權(quán)利要求38所述的系統(tǒng),還包括用于將惰性氣體注入到第二室的噴嘴。
47.一種用于清潔工件的系統(tǒng),其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件,所述系統(tǒng)包括: 第一室,其中第一室能夠操作以對工件的第一部件進行除氣; 第一真空泵,所述第一真空泵通過第一切斷閥連接到第一室; 第一氣體監(jiān)測器,所述第一氣體監(jiān)測器通過組件連接到第二室,其中所述組件包括第二切斷閥和差動閥; 第二真空泵,所述第二真空泵以流體連通的方式連接在第一氣體監(jiān)測器與所述組件之間,其中第二監(jiān)測器能夠操作以在該氣體監(jiān)測器處保持真空環(huán)境; 第二室,其中第二室能夠操作以用于對工件的第二部件進行除氣; 第三真空泵,所述第三真空泵通過第三切斷閥連接到第二室; 第二氣體監(jiān)測器,所述第二氣體監(jiān)測器通過第四切斷閥連接到第二室。
48.根據(jù)權(quán)利要求47所述的系統(tǒng),還包括用于在輸送到第一室之前清潔第一部件的第三室和用于在輸送到第二室之前清潔第二部件的第四室。
49.根據(jù)權(quán)利要求47所述的系統(tǒng),還包括用于加熱第一或第二室中的工件的加熱器和用于將惰性氣體注入到第一或第二室的噴嘴。
50.一種用于清潔工件的方法,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件,所述方法包括以下步驟: 將工件的第一部件輸送到第一室; 將周圍環(huán)境栗送在弟一室中; 通過差動閥將第一室連接到第一氣體監(jiān)測器; 將工件的第二部件輸送到第二室; 將周圍環(huán)境栗送在弟~ 室中; 將第二室直接連接到第二氣體監(jiān)測器。
51.根據(jù)權(quán)利要求50所述的方法,還包括以下步驟:在將第一部件輸送到第一室之前清潔第一部件;以及 在將第二部件輸送到第二室之前清潔第二部件。
52.根據(jù)權(quán)利要求50所述的方法,還包括以下步驟: 在泵送期間將惰性氣體注入到第一或第二室。
53.根據(jù)權(quán)利要求50所述的方法,還包括以下步驟: 在泵送期間加熱第一或第二室中的第一或第二部件。
54.根據(jù)權(quán)利要求50所述的方法,還包括以下步驟: 在將第一或第二部件從第一或第二室輸送出來之前給第一或第二室加壓。
55.一種用于清潔工件的系統(tǒng),其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件,所述系統(tǒng)包括: 第一室,其中第一室能夠操作以清潔工件的第一部件; 第二室,其中第二室能夠操作以清潔工件的第二部件; 第三室,其中第三室能夠操作以在第一和第二部件被清潔之后組裝所述第一和第二部件; 連接到第三室的第一氣體供應裝置,其中第一氣體供應裝置能夠操作以將惰性氣體輸送到第三室; 連接到第三室的第二氣體供應裝置,其中第二氣體供應裝置能夠操作以將惰性氣體輸送到第一或第二部件的內(nèi)部。
56.根據(jù)權(quán)利要求55所述的系統(tǒng),其中第二氣體供應裝置突出到第三室內(nèi)以與第一部件的開口連接。
57.一種用于清潔工件的方法,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件,所述方法包括以下步驟: 清潔第一部件; 清潔第二部件; 將第一部件輸送到室; 將第二部件輸送到室; 用惰性氣體給室加壓; 組裝第一和第二部件以形成組裝的工件。
58.根據(jù)權(quán)利要求57所述的方法,其中第一部件設置在連接到室外的氣體供應裝置的管道上。
59.根據(jù)權(quán)利要求58所述的方法,還包括以下步驟: 使惰性氣體流動到管道。
60.一種用于清潔工件的系統(tǒng),其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件,所述系統(tǒng)包括: 第一室,其中第一室能夠操作以清潔工件的第一部件; 第二室,其中第二室能夠操作以清潔工件的第二部件; 第三室,其中第三室能夠操作以支撐組裝的工件; 連接到第三室的氣體供應裝置,其中氣體供應裝置能夠操作將惰性氣體輸送到組裝的工件的內(nèi)部。
61.根據(jù)權(quán)利要求60所述的系統(tǒng),其中氣體供應裝置突出到第三室內(nèi)以與第一部件的開口連接。
62.一種用于清潔工件的方法,其中工件包括第一部件和第二部件,其中第一部件包圍第二部件,所述方法包括以下步驟: 清潔第一部件; 清潔第二部件; 組裝第一和第二部件以形成組裝的工件; 使惰性氣體流動到組裝的工件的內(nèi)部。
63.根據(jù)權(quán)利要求62所述的方法, 其中第一部件設置在連接到室外的氣體供應裝置的管道上。
【文檔編號】H01L21/67GK103620757SQ201280031013
【公開日】2014年3月5日 申請日期:2012年6月23日 優(yōu)先權(quán)日:2011年6月23日
【發(fā)明者】盧茨·萊伯斯托克 申請人:動力微系統(tǒng)公司
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