專利名稱：一種真空滅弧室新型縱磁線圈結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空滅弧室新型縱磁線圈結(jié)構(gòu)，屬于真空滅弧室技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
真空滅弧室是真空開關(guān)的關(guān)鍵原件，擔(dān)負(fù)著控制電弧的任務(wù)，電路的切斷與關(guān)合都靠真空滅弧室中的線圈觸頭來(lái)完成，如圖5是現(xiàn)有的小型真空滅弧室中，以觸頭座開口端為上方，其滅弧所用的杯狀縱磁觸頭的觸頭座線圈構(gòu)成包括一個(gè)觸頭座，圓環(huán)上方開有凹槽，凹槽下開有沿圓環(huán)圓周旋轉(zhuǎn)的斜槽，斜槽為貫通結(jié)構(gòu)，在加工及焊接過(guò)程中，容易發(fā)生端面變形影響焊接質(zhì)量，造成接觸電阻偏大，影響開斷效果
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于
提供一種新的真空滅弧室用的觸頭座線圈，杯狀圓環(huán)表面為完整圓環(huán)，無(wú)開槽，新型觸頭座線圈結(jié)構(gòu)提高了與觸頭焊接面的表面質(zhì)量，使后期裝配焊接性能得到有效改善，提高產(chǎn)品的一次合格率。本發(fā)明是這樣構(gòu)成的一種真空滅弧室新型縱磁線圈結(jié)構(gòu)，包括線圈，線圈開口端為下方，線圈碗底端為上方，線圈上方開有二個(gè)或二個(gè)以上的凹槽，凹槽與線圈軸線呈一斜角，凹槽與線圈側(cè)壁上的斜槽連接，斜槽沿線圈圓周向上旋轉(zhuǎn)，線圈下方的表面為完整圓環(huán)。上述所述斜槽與線圈下方圓環(huán)表面的距離為0. 5_3mm。上述線圈上方表面設(shè)有一個(gè)或一個(gè)以上的定位凸塊，觸頭上開有和線圈上定位凸塊個(gè)數(shù)相同，位置對(duì)應(yīng)的定位凹槽，通過(guò)定位凸塊和定位凹槽的配合達(dá)到觸頭和線圈定位。上述線圈碗型結(jié)構(gòu)內(nèi)連接加強(qiáng)筋，線圈圓環(huán)表面和杯托連接，杯托中心和加強(qiáng)筋連接。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明在原結(jié)構(gòu)上從線圈碗底開始開槽，斜槽為非貫通結(jié)構(gòu)，斜槽離下方圓環(huán)表面距離為0. 5-3mm，這樣就保留了圓環(huán)表面本身的完整度，使得線圈本身與觸頭的接觸面平面度提高，在加工及焊接過(guò)程中，由于杯狀圓環(huán)本身堅(jiān)固性變強(qiáng)，減少了變形的可能性，使得焊接造成的形變影響變小，避免形變?cè)斐山佑|電阻偏大影響開斷效果，同時(shí)由于定位方式的改變，定位準(zhǔn)確度及精確度得到提高，從源頭提高產(chǎn)品的合格率。


附圖I為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意 附圖2為本發(fā)明線圈-觸頭裝配示意 附圖3本發(fā)明線圈結(jié)構(gòu)示意 附圖4為本發(fā)明觸頭結(jié)構(gòu)示意 附圖5為現(xiàn)有線圈結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖中標(biāo)記為1-線圈，2-凹槽，3-斜槽，4-定位凸塊，5-觸頭，6-定位凹槽，7-加強(qiáng)筋，8-杯托。
具體實(shí)施例方式一種真空滅弧室新型縱磁線圈結(jié)構(gòu)，如圖I和2所示，該縱磁線圈結(jié)構(gòu)由線圈I、觸頭5、加強(qiáng)筋7和杯托8組成。觸頭5和線圈I通過(guò)釬焊連接，觸頭5可以為開槽結(jié)構(gòu)，也可以為非開槽結(jié)構(gòu)，如圖2和圖3所示。線圈I和杯托8通過(guò)釬焊連接，力口強(qiáng)筋7安裝在線圈I和杯托8之間，起增加強(qiáng)度的作用；線圈I為碗型構(gòu)造，線圈I碗底開有二個(gè)或者二個(gè)以上的凹槽2，凹槽2與線圈I軸線呈一斜角，凹槽2與斜槽3相連，斜槽3加工時(shí)在線圈下方為非貫通，斜槽3下方與線圈I開口端表面的距離為0. 5-3毫米。裝配時(shí)線圈I上方可以直接與觸頭5相連，線圈I下方通過(guò)杯托8與導(dǎo)電桿相連。這樣線圈2開口端為完整的圓環(huán)結(jié)構(gòu)，與觸頭的接觸面平面度提高，在加工及焊接過(guò)程中，由于杯狀圓環(huán)本身堅(jiān)固性增加，減少了變形的可能性，使得裝配過(guò)程更加簡(jiǎn)便快速，工作時(shí)由于觸頭系統(tǒng)本身的堅(jiān)固度提高，使得真空滅弧室的使用壽命得到提高；觸頭5焊接面有一個(gè)或一個(gè)以上的定位凹槽6 ;線圈I碗底上有和觸頭5上定位凹槽6個(gè)數(shù)相同，位置對(duì)應(yīng)的定位凸塊 4;觸頭5與線圈I之間的定位通過(guò)觸頭5上定位凹槽6和線圈I的定位凸塊4實(shí)現(xiàn)，提高了定位精度和可靠性，定位方式為點(diǎn)定位。
權(quán)利要求
1.一種真空滅弧室新型縱磁線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于包括線圈(1)，線圈(I)開口端為下方，線圈(I)碗底端為上方，線圈(I)上方開有二個(gè)或二個(gè)以上的凹槽(2)，凹槽(2)與線圈(I)側(cè)壁上的斜槽(3)連接，斜槽(3)沿線圈(I)圓周向上旋轉(zhuǎn)，線圈(I)下方的表面為完整圓環(huán)。
2.根據(jù)權(quán)利要求書I所述的一種真空滅弧室新型縱磁線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于所述斜槽(3)與線圈(I)下方圓環(huán)表面的距離為0. 5-3mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求書I所述的一種真空滅弧室新型縱磁線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于所述線圈(I)上方表面設(shè)有一個(gè)或一個(gè)以上的定位凸塊(4)，觸頭(5)上開有和線圈(I)上定位凸塊(4 )個(gè)數(shù)相同，位置對(duì)應(yīng)的定位凹槽(6 )，通過(guò)定位凸塊(4 )和定位凹槽(6 )的配合達(dá)到觸頭(5)和線圈(I)定位。
4.根據(jù)權(quán)利要求書I所述的一種真空滅弧室新型縱磁線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于所述線圈(I)碗型結(jié)構(gòu)內(nèi)連接加強(qiáng)筋(7)，線圈(I)圓環(huán)表面和杯托(8)連接，杯托(8)中心和加強(qiáng)筋(7)連接。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種真空滅弧室新型縱磁線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于包括線圈(1)，線圈(1)開口端為下方，線圈(1)碗底端為上方，線圈(1)上方開有二個(gè)或二個(gè)以上的凹槽(2)，凹槽(2)與線圈(1)側(cè)壁上的斜槽(3)連接，斜槽(3)沿線圈(1)圓周向上旋轉(zhuǎn)，線圈(1)下方的表面為完整圓環(huán)。本發(fā)明通過(guò)線圈開槽的變化，保持了線圈本身的完整性，增強(qiáng)線圈強(qiáng)度，減少了變形，使得焊接造成的形變影響變小，避免形變?cè)斐山佑|電阻偏大的影響；并且通過(guò)改變觸頭與線圈定位方式，提高了定位的可靠性，并且使得裝配過(guò)程更加簡(jiǎn)便快速，真空滅弧室的質(zhì)量也得到提高。
文檔編號(hào)H01H33/664GK102751131SQ201210258949
公開日2012年10月24日 申請(qǐng)日期2012年7月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月25日
發(fā)明者周吉冰, 康一, 張梅, 張毅, 陳志會(huì) 申請(qǐng)人:中國(guó)振華電子集團(tuán)宇光電工有限公司(國(guó)營(yíng)第七七一廠)