專利名稱：定位系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種定位系統(tǒng)，尤其涉及一種可以準(zhǔn)確地將遮罩放置且定位于基板上的定位系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在制作LED (發(fā)光二極管)封裝結(jié)構(gòu)的工藝中，公知通常可用點(diǎn)膠或噴涂的方式以將混有熒光粉的熒光膠體形成于LED芯片上。在某些噴涂工藝中，LED芯片會(huì)先進(jìn)行固晶打線后，再進(jìn)行熒光膠體的噴涂。由于公知噴涂工藝是采用手動(dòng)置入遮罩的方式來(lái)與承載LED芯片的LED基板做定位配合，所以遮罩容易碰觸到已完成打線的金線而造成塌線的情況，進(jìn)而導(dǎo)致LED封裝結(jié)構(gòu)的信賴性失效機(jī)率上升。再者，倘若僅對(duì)部分LED芯片進(jìn)行噴涂工藝，由于遮罩和LED基板之間存在微間隙的關(guān)系，導(dǎo)致遮罩和LED基板之間為非完全互相緊貼的狀況，進(jìn)而使得在噴涂工藝時(shí)的熒光膠體非常容易滲漏到未進(jìn)行噴涂且亦尚未固晶打線的區(qū)域內(nèi)，造成后續(xù)在上述尚未固晶打線區(qū)域內(nèi)進(jìn)行固晶打線時(shí)的打線良率下降，因此LED封裝結(jié)構(gòu)在后續(xù)做冷熱循環(huán)信賴性時(shí)的斷線機(jī)率非常的高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種定位系統(tǒng)，其可以準(zhǔn)確地將遮罩放置且定位于基板上。本發(fā)明其中一實(shí) 施例所提供的一種定位系統(tǒng)，其用以定位至少一用于承載多個(gè)發(fā)光單元的基板及至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板的遮罩，該定位系統(tǒng)包括:一第一工作機(jī)臺(tái)、一第二工作機(jī)臺(tái)、及一承載座。該第二工作機(jī)臺(tái)相距該第一工作機(jī)臺(tái)一預(yù)定距離。該承載座定位于該第一工作機(jī)臺(tái)與該第二工作機(jī)臺(tái)兩者中的其中一個(gè)上，其中該承載座具有至少一固定式定位件，上述至少一基板通過(guò)上述至少一固定式定位件以定位于該承載座上，且上述至少一遮罩通過(guò)上述至少一固定式定位件以定位于上述至少一基板上。上述至少一基板具有至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一固定式定位件的基板定位孔，上述至少一遮罩具有至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板定位孔的遮罩定位孔，且上述至少一固定式定位件依序穿過(guò)上述至少一基板定位孔與上述至少一遮罩定位孔。本發(fā)明另外一實(shí)施例所提供的一種定位系統(tǒng)，其用以定位至少一用于承載多個(gè)發(fā)光單元的基板及至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板的遮罩，該定位系統(tǒng)包括:一第一工作機(jī)臺(tái)、一第二工作機(jī)臺(tái)、及一承載座。該第一工作機(jī)臺(tái)包括至少一用于吸取上述至少一遮罩的吸取頭。該第二工作機(jī)臺(tái)相距該第一工作機(jī)臺(tái)一預(yù)定距離。該承載座定位于該第一工作機(jī)臺(tái)與該第二工作機(jī)臺(tái)兩者中的其中一個(gè)上，其中該承載座具有至少兩個(gè)固定式定位件，且上述至少一基板通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件以定位于該承載座上，上述至少一遮罩通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件以定位于上述至少一基板上。本發(fā)明的有益效果在于，本發(fā)明實(shí)施例所提供的定位系統(tǒng)，其可通過(guò)非人工的方式，將至少一遮罩通過(guò)至少兩個(gè)固定式定位件以定位于至少一基板上，進(jìn)而有效提升發(fā)光二極管晶粒的一次打線與二次打線的打線良率。為使能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征及技術(shù)內(nèi)容，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明與附圖，然而附圖僅提供參考與說(shuō)明用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加以限制者。


圖1A至圖1J依序顯示本發(fā)明第一實(shí)施例的定位系統(tǒng)的操作流程立體示意圖。圖2A至圖2E依序顯示本發(fā)明第二實(shí)施例的定位系統(tǒng)的操作流程立體示意圖。
具體實(shí)施例方式(第一實(shí)施例)請(qǐng)參閱圖1A至圖1J所示，圖1A至圖1J依序顯示本發(fā)明第一實(shí)施例的定位系統(tǒng)的操作流程示意圖。以下將配合附圖，依序說(shuō)明本發(fā)明第一實(shí)施例的定位系統(tǒng)的相關(guān)操作流程，但此操作流程只是用來(lái)舉例而已，當(dāng)然包括下述全部有關(guān)數(shù)量的界定也都是用來(lái)舉例而已，其并非用來(lái)限制本發(fā)明，特此說(shuō)明。首先，配合圖1A與圖1B所示，先將一承載座I放置并定位于一第一工作機(jī)臺(tái)2上(如圖1A所示)，然后再將至少一用于承載多個(gè)發(fā)光單元L的基板S放置并定位于承載座I上(如圖1B所示)。舉例來(lái)說(shuō)，承載座I可以通過(guò)多個(gè)定位凸塊B (例如襯套或軸襯之類的定件元件)以定位于第一工作機(jī)臺(tái)2上。另外，承載座I具有至少兩個(gè)大約設(shè)置在對(duì)角線上的固定式定位件10，且基板S具有至少兩個(gè)大約設(shè)置在對(duì)角線上且分別對(duì)應(yīng)于上述至少兩個(gè)固定式定位件10的基板定位孔S10。配合圖1A與圖1B所示，當(dāng)基板S被放置在一形成于承載座I上的凹槽12內(nèi)時(shí)，由于承載座I的至少兩個(gè)固定式定位件10可以分別穿過(guò)基板S的至少兩個(gè)基板定位孔S10，所·以基板S可以輕易且方便地通過(guò)凹槽12的收納與上述至少兩個(gè)固定式定位件10的使用，以準(zhǔn)確地定位于承載座I上。再者，配合圖1C與圖1D所示，第一工作機(jī)臺(tái)2包括至少一可移動(dòng)單元20，其中可移動(dòng)單元20可包括至少兩個(gè)可移動(dòng)定位件20A及多個(gè)可移動(dòng)支撐件20B，兩個(gè)可移動(dòng)定位件20A可大約設(shè)置在對(duì)角線上，可移動(dòng)定位件20A和可移動(dòng)支撐件20B均可收容于第一工作機(jī)臺(tái)2中，并可依需要選擇性伸出或縮回第一工作機(jī)臺(tái)2。當(dāng)上述至少兩個(gè)可移動(dòng)定位件20A及上述多個(gè)可移動(dòng)支撐件20B同時(shí)向上移動(dòng)且分別穿過(guò)承載座I的開(kāi)孔11后，每一個(gè)可移動(dòng)定位件20A的末端部與每一個(gè)可移動(dòng)支撐件20B的末端部可同時(shí)被設(shè)置于一 “用于使遮罩M定位于基板S上方”的第一位置。換言之，當(dāng)基板S被定位于承載座I上后(如圖1B所示)，第一工作機(jī)臺(tái)2會(huì)先將可移動(dòng)單元20的至少兩個(gè)可移動(dòng)定位件20A及多個(gè)可移動(dòng)支撐件20B同時(shí)從第一工作機(jī)臺(tái)2伸出(向上移動(dòng))，以分別穿過(guò)承載座I的開(kāi)孔11 (如圖1C所示)，然后再將至少一對(duì)應(yīng)于基板S的遮罩M放置且定位于可移動(dòng)單元20上(如圖1D所示)。舉例來(lái)說(shuō)，遮罩M可由含碳量較高且不易生銹的磁性物質(zhì)所制成。遮罩M具有一對(duì)應(yīng)于基板S的罩體M10、多個(gè)貫穿罩體MlO的噴涂開(kāi)口 Mil、至少兩個(gè)貫穿罩體MlO且分別對(duì)應(yīng)于上述至少兩個(gè)可移動(dòng)定位件20A的第一遮罩定位孔M12、及至少兩個(gè)貫穿罩體MlO且分別對(duì)應(yīng)于上述至少兩個(gè)固定式定位件10的第二遮罩定位孔M13。此外，每一個(gè)可移動(dòng)定位件20A具有一穿過(guò)承載座I以向上頂?shù)终煮wMlO底面的可移動(dòng)定位本體201A及一從可移動(dòng)定位本體201A向上延伸且穿過(guò)相對(duì)應(yīng)的第一遮罩定位孔M12的定位柱202A，且每一個(gè)可移動(dòng)支撐件20B具有一穿過(guò)承載座I以向上頂?shù)终煮wMlO底面的可移動(dòng)支撐本體200B。此外，上述可移動(dòng)定位件20A所界定的末端部包括可移動(dòng)定位本體201A的頂端與整個(gè)定位柱202A，且上述可移動(dòng)支撐件20B所界定的末端部即為可移動(dòng)支撐本體200B的頂端。換言之，遮罩M不但可經(jīng)由每一個(gè)可移動(dòng)定位本體201A的頂端與每一個(gè)可移動(dòng)支撐本體200B的頂端的支撐而得到較平衡的支撐效果，并且遮罩M也可以經(jīng)由每一個(gè)連接于相對(duì)應(yīng)可移動(dòng)定位本體201A頂端的定位柱202A與每一個(gè)第一遮罩定位孔M12的配合而得到穩(wěn)固的定位效果。藉此，由于遮罩M可放置在上述多個(gè)可移動(dòng)支撐件20B上，所以即使遮罩M的厚度非常的薄，遮罩M依然可以通過(guò)上述多個(gè)可移動(dòng)支撐件20B的使用而得到較多且均勻的支撐力，進(jìn)而使得遮罩M可以被有效維持在不產(chǎn)生彎曲或彎折的水平狀態(tài)。另外，由于每一個(gè)可移動(dòng)定位件20A的定位柱202A可以穿過(guò)遮罩M的相對(duì)應(yīng)第一遮罩定位孔M12，所以遮罩M可輕易且方便地通過(guò)上述多個(gè)可移動(dòng)支撐件20B使用，以準(zhǔn)確地定位于可移動(dòng)單元20上。

此外，配合圖1D與圖1E所示，每一個(gè)可移動(dòng)定位件20A的末端部與每一個(gè)可移動(dòng)支撐件20B的末端部可同時(shí)被設(shè)置于一 “用于使遮罩M通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件10以定位于基板S上”的第二位置。換言之，當(dāng)遮罩M已放置且定位于可移動(dòng)單元20上后(如圖1D所示)，將可移動(dòng)單元20的至少兩個(gè)可移動(dòng)定位件20A及多個(gè)可移動(dòng)支撐件20B同時(shí)縮回第一工作機(jī)臺(tái)2 (向下移動(dòng))以脫離遮罩M，此時(shí)遮罩M即可順勢(shì)通過(guò)上述至少兩個(gè)第二遮罩定位孔M13與上述至少兩個(gè)固定式定位件10的配合，以將遮罩M定位于基板S上(如圖1E所示)。舉例來(lái)說(shuō)，由于上述至少兩個(gè)第二遮罩定位孔M13分別對(duì)應(yīng)于上述至少兩個(gè)固定式定位件10，且上述至少兩個(gè)第二遮罩定位孔M13分別對(duì)應(yīng)于上述至少兩個(gè)基板定位孔SlO(如圖1C或圖1D所示)，所以當(dāng)上述至少兩個(gè)可移動(dòng)定位件20A與上述多個(gè)可移動(dòng)支撐件20B同時(shí)向下移動(dòng)以脫離遮罩M時(shí)，上述至少兩個(gè)固定式定位件10將可以分別準(zhǔn)確地穿過(guò)上述至少兩個(gè)第二遮罩定位孔M13，以使得遮罩M可以輕易通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件10的使用，以準(zhǔn)確地定位于基板S上。換言之，由于“上述至少兩個(gè)第二遮罩定位孔M13分別準(zhǔn)確地對(duì)應(yīng)于上述至少兩個(gè)固定式定位件10”的關(guān)系，所以上述至少兩個(gè)可移動(dòng)定位件20A與上述多個(gè)可移動(dòng)支撐件20B在脫離遮罩M的一瞬間，上述至少兩個(gè)第二遮罩定位孔M13自然可以分別準(zhǔn)確地被上述至少兩個(gè)固定式定位件10所穿過(guò)，以使得遮罩M可以在不碰觸到發(fā)光單元L中已完成打線的藍(lán)色發(fā)光二極管晶粒Lll及其導(dǎo)線W(參考圖1H所示)的情況下，自然且順勢(shì)地通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件10，以準(zhǔn)確地定位在基板S上，亦即可以避免藍(lán)色發(fā)光二極管晶粒Lll的導(dǎo)線W發(fā)生塌線，進(jìn)而使得藍(lán)色發(fā)光二極管晶粒LI I的一次打線良率可以有效被提升。另外，配合圖1E與圖1F所示，當(dāng)遮罩M通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件10以準(zhǔn)確地定位于基板S上后(如圖1E所示)，可將一上壓板P蓋在承載座I上，以壓住遮罩M的外圍邊緣(如圖1F所示)。舉例來(lái)說(shuō)，上壓板P包括一可移動(dòng)地設(shè)置于承載座I上的板體PlO及至少一貫穿板體PlO的窗口 Pll。當(dāng)上壓板P蓋在承載座I上時(shí)，上壓板P的板體PlO可用來(lái)壓住遮罩M的外圍邊緣(亦即罩體MlO的外圍邊緣)，且上壓板P的窗口 Pll可用來(lái)裸露上述多個(gè)噴涂開(kāi)口 Mil。此外，當(dāng)上壓板P蓋在承載座I上時(shí)，上述至少兩個(gè)固定式定位件10可分別露出于板體PlO的兩個(gè)對(duì)角線缺口。再者，配合圖1F與圖1G所示，當(dāng)上壓板P蓋在承載座I上后(如圖1F所示)，可先將承載座I從第一工作機(jī)臺(tái)2取下，然后再將承載座I定位于一相距第一工作機(jī)臺(tái)2 —預(yù)定距離的第二工作機(jī)臺(tái)3上(如圖1G所示)。舉例來(lái)說(shuō)，承載座I也可以通過(guò)多個(gè)定位凸塊B以定位于第二工作機(jī)臺(tái)3上。另外，第二工作機(jī)臺(tái)3包括一用于產(chǎn)生磁性吸引力的電磁力產(chǎn)生模塊30及一用于開(kāi)啟或關(guān)閉電磁力產(chǎn)生模塊30的電磁力控制模塊31。藉此，當(dāng)承載座I被定位于第二工作機(jī)臺(tái)3上時(shí)，可通過(guò)電磁力產(chǎn)生模塊30所產(chǎn)生的磁性吸引力(此時(shí)電磁力控制模塊31被切換到ON的狀態(tài)，如圖1G所示)，以使得具有磁力吸附功能的遮罩M可經(jīng)由電磁力產(chǎn)生模塊30所產(chǎn)生的磁性吸引力的吸引而被緊密吸附在基板S上。換言之，當(dāng)電磁力控制模塊31被切換到ON的狀態(tài)時(shí)(如圖1G所示)，通過(guò)電磁力控制模塊31開(kāi)啟電磁力產(chǎn)生模塊30后所產(chǎn)生的磁性吸引力，不僅遮罩M將可完全緊密貼附在基板S上，以使得罩體MlO與基板S之間不易產(chǎn)生讓后續(xù)工藝所噴涂的熒光膠體滲入的微間隙，而且同一時(shí)間上壓板P也會(huì)被電磁力產(chǎn)生模塊30所產(chǎn)生的磁性吸引力所吸引，以避免后續(xù)工藝所噴涂的熒光膠體因滲入板體PlO和遮罩M之間的間隙而使得第二工作機(jī)臺(tái)3受到污染的情況發(fā)生。此外，配合圖1G、圖1H及圖1I所示，當(dāng)承載座I被定位于第二工作機(jī)臺(tái)3上，且遮罩M經(jīng)由電磁力產(chǎn)生模塊30所產(chǎn)生的磁性吸引力的吸引而被緊密吸附在基板S上后(如圖1G與圖1H所示，其中圖1H為遮罩M被緊密吸附在基板S上的部分放大示意圖)，即可將熒光膠體C噴涂在被上述多個(gè)噴涂開(kāi)口 Mll所裸露的位置上(如圖1I所示)，其中發(fā)光單元L被噴涂開(kāi)口 Mll所裸露的區(qū)域定義為“一次固晶打線區(qū)域R1”，而發(fā)光單元L未被噴涂開(kāi)口 Mll所裸露的區(qū)域定義為“二次固晶打線區(qū)域R2”。舉例來(lái)說(shuō)，如圖1H與圖1I所示，每一個(gè)發(fā)光單元L包括兩個(gè)被置放在基板S的置晶層Sll上且分別被其中兩個(gè)相對(duì)應(yīng)的噴涂開(kāi)口 Mll所裸露的藍(lán)色發(fā)光二極管晶粒L11，且每一個(gè)藍(lán)色發(fā)光二極管晶粒LI I可通過(guò)兩條相對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線W，以電性連接于基板S的其中兩個(gè)電極S12。藉此，當(dāng)熒光膠體C噴涂在被上述兩個(gè)相對(duì)應(yīng)的噴涂開(kāi)口 Mll所裸露的“一次固晶打線區(qū)域R1”上時(shí)，熒光膠體C將只會(huì)覆蓋在上述兩個(gè)藍(lán)色發(fā)光二極管晶粒Lll及其相對(duì)應(yīng)的兩條導(dǎo)線W上。再者，因?yàn)檎谡諱可以完全緊密貼附在基板S上的關(guān)系，使得罩體MlO與基板S之間不易產(chǎn)生讓熒光膠體C滲入的微間隙，所以熒光膠體C將不易滲入已被罩體MlO所遮住的地方，進(jìn)而有效提升后續(xù)二次打線的打線良率。換言之，在進(jìn)行熒光膠體C的噴涂過(guò)程中，熒光膠體C將只會(huì)覆蓋在上述兩個(gè)藍(lán)色發(fā)光二極管晶粒Lll及其相對(duì)應(yīng)的兩條導(dǎo)線W上，而不易滲入罩體MlO與基板S之間而溢膠到“二次固晶打線區(qū)域R2”上，進(jìn)而使得后續(xù)二次打線的良率可以有效被提升。再者，當(dāng)完成上述噴涂熒光膠體C的步驟后，需先將電磁力控制模塊31切換為OFF狀態(tài)，以消除電磁力產(chǎn)生模塊30對(duì)承載座I的磁力吸引，接著將已完成熒光膠體C噴涂的承載座I從第二工作機(jī)臺(tái)3取下，然后再將承載座I再次定位于第一工作機(jī)臺(tái)2上，并且打開(kāi)上壓板P (可參考圖1F與圖1E所示)，接著在可移動(dòng)單元20向上移動(dòng)以頂起遮罩M后取下遮罩M(可參考圖1D與圖1C所示)，最后在可移動(dòng)單元20向下移動(dòng)后，即可順利取下上述已完成熒光膠體C噴 涂工藝的基板S (可參考圖1B與圖1A所示)。
最后，配合圖1J所示，將兩個(gè)紅色發(fā)光二極管晶粒L12分別置放在基板S的置晶層Sll上，且通過(guò)兩條相對(duì)應(yīng)的導(dǎo)線W，以電性連接于基板S的另外兩個(gè)電極S12。由于在噴涂過(guò)程中的熒光膠體C不易溢膠到“二次固晶打線區(qū)域R2”內(nèi)，所以使得后續(xù)紅色發(fā)光二極管晶粒L12的_■次打線良率可以有效被提升。綜上所述，本發(fā)明第一實(shí)施例主要在于提供一種定位系統(tǒng)，其可用以分別定位至少一用于承載多個(gè)發(fā)光單元L的基板S(配合圖1A至圖1B所示)及定位至少一對(duì)應(yīng)于基板S的遮罩M(配合圖1C至圖1E)，其中定位系統(tǒng)包括:一第一工作機(jī)臺(tái)2、一第二工作機(jī)臺(tái)
3、及一承載座I。第一工作機(jī)臺(tái)2包括至少一可移動(dòng)單元20，其中可移動(dòng)單元20包括至少兩個(gè)可移動(dòng)定位件20A及至少兩個(gè)可移動(dòng)支撐件20B。第二工作機(jī)臺(tái)3相距第一工作機(jī)臺(tái)2一預(yù)定距離。承載座I可選擇性地定位于第一工作機(jī)臺(tái)2與第二工作機(jī)臺(tái)3兩者中的其中一個(gè)上，其中承載座I具有至少兩個(gè)固定式定位件10，基板S可通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件10以定位于承載座I上，且遮罩M可通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件10以定位于基板S上。首先，舉例來(lái)說(shuō)，當(dāng)承載座I被定位于第一工作機(jī)臺(tái)2上時(shí)，每一個(gè)可移動(dòng)定位件20A的末端部與每一個(gè)可移動(dòng)支撐件20B的末端部可同時(shí)被設(shè)置于一 “用于使遮罩M定位于基板S上方”的第一位置上(如圖1D所示)、或可同時(shí)被設(shè)置于一“用于使遮罩M通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件10以定位于基板S上”的第二位置上(如圖1E所示)。再者，舉例來(lái)說(shuō)，當(dāng)每一個(gè)可移動(dòng)定位件20A的末端部與每一個(gè)可移動(dòng)支撐件20B的末端部同時(shí)被設(shè)置于第一位置時(shí)(如圖1D所示)，每一個(gè)可移動(dòng)定位件20A的可移動(dòng)定位本體201A可穿過(guò)承載座I以向上頂?shù)终煮wMlO底面，每一個(gè)可移動(dòng)定位件20A的定位柱202A可從相對(duì)應(yīng)的可移動(dòng)定位本體201A向上延伸且穿過(guò)相對(duì)應(yīng)的第一遮罩定位孔M12，且每一個(gè)可移動(dòng)支撐件20B的可移動(dòng)支撐本體200B可穿過(guò)承載座I以向上頂?shù)终煮wMlO底面。另外，舉例來(lái)說(shuō)，當(dāng) 每一個(gè)可移動(dòng)定位件20A的末端部與每一個(gè)可移動(dòng)支撐件20B的末端部同時(shí)被設(shè)置于第二位置時(shí)(如圖1E所示)，每一個(gè)可移動(dòng)定位件20A的末端部與每一個(gè)可移動(dòng)支撐件20B的末端部皆同時(shí)脫離遮罩M，以使得每一個(gè)固定式定位件10可依序穿過(guò)相對(duì)應(yīng)的基板定位孔SlO與相對(duì)應(yīng)的第二遮罩定位孔M13，以達(dá)到本發(fā)明可分別定位基板S與遮罩M的目的。值得一提的是，配合IA與IB所示，若是將固定式定位件10與基板定位孔SlO都設(shè)計(jì)成相互對(duì)應(yīng)的防呆形狀時(shí)(例如皆為矩形或任何的多邊形)，本發(fā)明亦可只通過(guò)單一個(gè)固定式定位件10與單一個(gè)基板定位孔SlO的配合,即可將基板S準(zhǔn)確地定位在承載座I上。當(dāng)然，若是采用單一個(gè)固定式定位件10再搭配凹槽12在形狀上的防呆設(shè)計(jì)的話，更能確?；錝被擺放在正確的位置上。另外，配合圖1C至圖1E所示，由于本發(fā)明也可以只使用單一個(gè)固定式定位件10，所以遮罩M亦可只使用單一個(gè)第二遮罩定位孔M13。當(dāng)?shù)诙谡侄ㄎ豢譓13被設(shè)計(jì)成對(duì)應(yīng)于單一個(gè)固定式定位件10的防呆形狀時(shí)，遮罩M亦可只使用單一個(gè)第二遮罩定位孔M13來(lái)達(dá)到準(zhǔn)確地定位遮罩M于基板S上的效果。換言之，承載座I亦可具有至少一固定式定位件10，基板S亦可具有至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一固定式定位件10的基板定位孔S10,且上述至少一遮罩M亦可具有至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板定位孔SlO的遮罩定位孔M13。因此，當(dāng)上述至少一固定式定位件10依序穿過(guò)上述至少一基板定位孔SlO與上述至少一遮罩定位孔M13時(shí)，由于上述的防呆設(shè)計(jì)，所以基板S即可通過(guò)上述至少一固定式定位件10以定位于承載座I上，且上述至少一遮罩M即可通過(guò)上述至少一固定式定位件10以定位于上述至少一基板S上。(第二實(shí)施例)請(qǐng)參閱圖2A至圖2E所示，圖2A至圖2E依序顯示本發(fā)明第二實(shí)施例的定位系統(tǒng)的操作流程示意圖。以下將配合附圖，依序說(shuō)明本發(fā)明第二實(shí)施例的定位系統(tǒng)的相關(guān)操作流程，但此操作流程只是用來(lái)舉例而已，當(dāng)然包括下述全部有關(guān)數(shù)量的界定也都是用來(lái)舉例而已，其并非用來(lái)限制本發(fā)明，特此說(shuō)明。首先，配合圖2A所示，先將一承載座I放置并定位于一第一工作機(jī)臺(tái)2上(其放置與定位方式可與第一實(shí)施例所示類似)，然后再將至少一用于承載多個(gè)發(fā)光單元L的基板S放置并定位于承載座I上，接著再通過(guò)至少一吸取頭21來(lái)預(yù)備吸取至少一事先被定位于一第一定位框22內(nèi)的遮罩M。舉例來(lái)說(shuō)，上述吸取遮罩M的方式可為真空吸取或磁力吸取等等。吸取頭21可通過(guò)一設(shè)置于第一工作機(jī)臺(tái)2上的三維工作平臺(tái)(圖未示)來(lái)進(jìn)行X方向或Y方向的任意移動(dòng)(當(dāng)然三維工作平臺(tái)也可以不用放置在第一工作機(jī)臺(tái)2上，而是改放置在距離第一工作機(jī)臺(tái)2的一預(yù)定位置上)，且第一定位框22可由至少四個(gè)分別對(duì)應(yīng)于遮罩M的相對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)角的第一邊框220所組成。再者，配合圖2A與圖2B所示，當(dāng)上述事 先被定位于第一定位框22內(nèi)的遮罩M被吸取頭21吸取后，遮罩M可通過(guò)吸取頭21的帶動(dòng)以放置于基板S上，此時(shí)遮罩M即可順勢(shì)通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件10以定位于基板S上(如圖2B所示)。舉例來(lái)說(shuō)，換言之，由于“上述至少兩個(gè)遮罩定位孔M13’(其設(shè)計(jì)的位置與作用可與第一實(shí)施例的第二遮罩定位孔M13相同)分別準(zhǔn)確地對(duì)應(yīng)于上述至少兩個(gè)固定式定位件10”的關(guān)系，所以在遮罩M被吸取頭21帶動(dòng)以放置于基板S上的一瞬間，上述至少兩個(gè)遮罩定位孔M13’自然可以分別準(zhǔn)確地被上述至少兩個(gè)固定式定位件10所穿過(guò)，以使得遮罩M可以在不碰觸到發(fā)光單元L中已完成打線的發(fā)光二極管晶粒及其導(dǎo)線(參考圖1H所示)的情況下，自然且順勢(shì)地通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件10以定位在基板S上。另外，配合圖2B與圖2C所示，當(dāng)遮罩M放置且定位于基板S上后(如圖2B所示)，可先將承載座I從第一工作機(jī)臺(tái)2取下，然后再將承載座I定位于一相距第一工作機(jī)臺(tái)2 —預(yù)定距離的第二工作機(jī)臺(tái)3上(如圖2C所示)，以進(jìn)行后續(xù)熒光膠體(可參考圖1H所示)的噴涂。舉例來(lái)說(shuō)，第二工作機(jī)臺(tái)3包括一用于產(chǎn)生磁性吸引力的電磁力產(chǎn)生模塊30及一用于開(kāi)啟或關(guān)閉電磁力產(chǎn)生模塊30的電磁力控制模塊31。藉此，當(dāng)承載座I被定位于第二工作機(jī)臺(tái)3上時(shí)，可通過(guò)電磁力產(chǎn)生模塊30所產(chǎn)生的磁性吸引力，以使得遮罩M被緊密吸附在基板S上。換言之，通過(guò)電磁力控制模塊31開(kāi)啟電磁力產(chǎn)生模塊30后所產(chǎn)生的磁性吸引力，遮罩M將可完全緊密貼附在基板S上，以使得遮罩M與基板S之間不易產(chǎn)生讓后續(xù)工藝所噴涂的熒光膠體滲入的微間隙，進(jìn)而避免第二工作機(jī)臺(tái)3受到熒光膠體的污染。此外，參閱圖2C與2D所示，先將已完成熒光膠體噴涂工藝的承載座I從第二工作機(jī)臺(tái)3取下，然后再將承載座I再次定位于第一工作機(jī)臺(tái)2上，接著通過(guò)吸取頭21以將遮罩M從基板S上吸取。再者，參閱圖2D與2E所示，當(dāng)遮罩M被吸取頭21從基板S上吸取后，先將被吸取的遮罩M放置在可由至少四個(gè)分別對(duì)應(yīng)于遮罩M的相對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)角的第二邊框230所組成的第二定位框23內(nèi)，最后即可從承載座I上順利取下已完成熒光膠體噴涂工藝的基板S。綜上所述，本發(fā)明第二實(shí)施例主要在于提供一種定位系統(tǒng)，其可用以分別定位至少一用于承載多個(gè)發(fā)光單元L的基板S (配合圖2A所示)及定位至少一對(duì)應(yīng)于基板S的遮罩M(配合圖2B所示)，其中定位系統(tǒng)包括:一第一工作機(jī)臺(tái)2、一第二工作機(jī)臺(tái)3、及一承載座I。第一工作機(jī)臺(tái)2包括至少一用于吸取遮罩M的吸取頭21。第二工作機(jī)臺(tái)3相距第一工作機(jī)臺(tái)2 —預(yù)定距離。承載座I可選擇性定位于第一工作機(jī)臺(tái)2與第二工作機(jī)臺(tái)3兩者中的其中一個(gè)上，其中承載座I具有至少兩個(gè)固定式定位件S10，基板S可通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件SlO以定位于承載座I上，且遮罩M可通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件SlO以定位于基板S上。(實(shí)施例的功效)綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例所提供的定位系統(tǒng)，其可將至少一遮罩通過(guò)至少兩個(gè)固定式定位件以定 位于至少一基板上，進(jìn)而有效提升發(fā)光二極管晶粒的一次打線與二次打線的打線良率。以上所述僅為本發(fā)明的較佳可行實(shí)施例，非因此局限本發(fā)明的權(quán)利要求，故舉凡運(yùn)用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所為的等效技術(shù)變化，均包含于本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種定位系統(tǒng)，其用以定位至少一用于承載多個(gè)發(fā)光單元的基板及至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板的遮罩，其特征在于，該定位系統(tǒng)包括: 一第一工作機(jī)臺(tái)，其包括至少一可移動(dòng)單元，其中上述至少一可移動(dòng)單元包括至少兩個(gè)可移動(dòng)定位件及至少兩個(gè)可移動(dòng)支撐件； 一第二工作機(jī)臺(tái)，其相距該第一工作機(jī)臺(tái)一預(yù)定距離；以及 一承載座，其定位于該第一工作機(jī)臺(tái)與該第二工作機(jī)臺(tái)兩者中的其中一個(gè)上，其中該承載座具有至少一固定式定位件，且上述至少一基板通過(guò)上述至少一固定式定位件以定位于該承載座上； 其中，當(dāng)該承載座被定位于該第一工作機(jī)臺(tái)上時(shí)，每一個(gè)可移動(dòng)定位件的末端部與每一個(gè)可移動(dòng)支撐件的末端部同時(shí)被設(shè)置于一用于使上述至少一遮罩定位于上述至少一基板上方的第一位置與一用于使上述至少一遮罩通過(guò)上述至少一固定式定位件以定位于上述至少一基板上的第二位置兩者中的其中之一。
2.如權(quán)利要求1所述的定位系統(tǒng)，其特征在于，上述至少一基板具有至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一固定式定位件的基板定位孔，上述至少一遮罩具有一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板的罩體、多個(gè)貫穿該罩體的噴涂開(kāi)口、至少兩個(gè)貫穿該罩體且分別對(duì)應(yīng)于上述至少兩個(gè)可移動(dòng)定位件的第一遮罩定位孔、及至少一貫穿該罩體且對(duì)應(yīng)于上述至少一固定式定位件的第二遮罩定位孔，且上述至少一第二遮罩定位孔對(duì)應(yīng)于上述至少一基板定位孔。
3.如權(quán)利要求2所述的定位系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)每一個(gè)可移動(dòng)定位件的末端部與每一個(gè)可移動(dòng)支撐件的末端部同時(shí)被設(shè)置于該第一位置時(shí)，每一個(gè)可移動(dòng)定位件具有一穿過(guò)該承載座以向上頂?shù)衷撜煮w底面的可移動(dòng)定位本體及一從該可移動(dòng)定位本體向上延伸且穿過(guò)相對(duì)應(yīng)的第一遮罩定位孔的定位柱，且每一個(gè)可移動(dòng)支撐件具有一穿過(guò)該承載座以向上頂?shù)衷撜煮w底面的可移動(dòng)支撐本體。
4.如權(quán)利要求2所述的 定位系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)每一個(gè)可移動(dòng)定位件的末端部與每一個(gè)可移動(dòng)支撐件的末端部同時(shí)被設(shè)置于該第二位置時(shí)，每一個(gè)可移動(dòng)定位件的末端部與每一個(gè)可移動(dòng)支撐件的末端部皆同時(shí)脫離上述至少一遮罩，且上述至少一固定式定位件依序穿過(guò)上述至少一基板定位孔與上述至少一第二遮罩定位孔。
5.如權(quán)利要求2所述的定位系統(tǒng)，其特征在于，該定位系統(tǒng)還進(jìn)一步包括:一上壓板，其包括一可移動(dòng)地設(shè)置于該承載座上以用于壓住上述至少一遮罩的外圍邊緣的板體及至少一貫穿該板體以用于裸露上述多個(gè)噴涂開(kāi)口的窗口。
6.如權(quán)利要求1所述的定位系統(tǒng)，其特征在于，該第二工作機(jī)臺(tái)包括一用于產(chǎn)生磁性吸引力的電磁力產(chǎn)生模塊及一用于開(kāi)啟或關(guān)閉該電磁力產(chǎn)生模塊的電磁力控制模塊。
7.如權(quán)利要求6所述的定位系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)該承載座被定位于該第二工作機(jī)臺(tái)上時(shí)，通過(guò)該電磁力產(chǎn)生模塊所產(chǎn)生的磁性吸引力，以使得上述至少一遮罩被吸附在上述至少一基板上。
8.—種定位系統(tǒng)，其用以定位至少一用于承載多個(gè)發(fā)光單元的基板及至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板的遮罩，其特征在于，該定位系統(tǒng)包括: 一第一工作機(jī)臺(tái)； 一第二工作機(jī)臺(tái)，其相距該第一工作機(jī)臺(tái)一預(yù)定距離；以及 一承載座，其定位于該第一工作機(jī)臺(tái)與該第二工作機(jī)臺(tái)兩者中的其中一個(gè)上，其中該承載座具有至少一固定式定位件，上述至少一基板通過(guò)上述至少一固定式定位件以定位于該承載座上，且上述至少一遮罩通過(guò)上述至少一固定式定位件以定位于上述至少一基板上; 其中，上述至少一基板具有至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一固定式定位件的基板定位孔，上述至少一遮罩具有至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板定位孔的遮罩定位孔，且上述至少一固定式定位件依序穿過(guò)上述至少一基板定位孔與上述至少一遮罩定位孔。
9.如權(quán)利要求8所述的定位系統(tǒng)，其特征在于，上述至少一遮罩具有一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板的罩體，且上述至少兩個(gè)遮罩定位孔貫穿該罩體。
10.如權(quán)利要求9所述的定位系統(tǒng)，其特征在于，該定位系統(tǒng)還進(jìn)一步包括:一上壓板，其包括一可移動(dòng)地設(shè)置于該承載座上以用于壓住上述至少一遮罩的外圍邊緣的板體及至少一貫穿該板體以用于裸露上述多個(gè)噴涂開(kāi)口的窗口。
11.一種定位系統(tǒng)，其用以定位至少一用于承載多個(gè)發(fā)光單元的基板及至少一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板的遮罩，其特征在于，該定位系統(tǒng)包括: 一第一工作機(jī)臺(tái)，其包括至少一用于吸取上述至少一遮罩的吸取頭； 一第二工作機(jī)臺(tái)，其相距該第一工作機(jī)臺(tái)一預(yù)定距離；以及 一承載座，其定位于該第一工作機(jī)臺(tái)與該第二工作機(jī)臺(tái)兩者中的其中一個(gè)上，其中該承載座具有至少兩個(gè)固定式定位件，且上述至少一基板通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件以定位于該承載座上，上述至少一遮罩通過(guò)上述至少兩個(gè)固定式定位件以定位于上述至少一基板上。
12.如權(quán)利要求11所述的 定位系統(tǒng)，其特征在于，上述至少一基板具有至少兩個(gè)分別對(duì)應(yīng)于上述至少兩個(gè)固定式定位件的基板定位孔，上述至少一遮罩具有一對(duì)應(yīng)于上述至少一基板的罩體及至少兩個(gè)貫穿該罩體且分別對(duì)應(yīng)于上述至少兩個(gè)基板定位孔的遮罩定位孔，且每一個(gè)固定式定位件依序穿過(guò)相對(duì)應(yīng)的基板定位孔與相對(duì)應(yīng)的遮罩定位孔。
13.如權(quán)利要求11所述的定位系統(tǒng)，其特征在于，該第二工作機(jī)臺(tái)包括一用于產(chǎn)生磁性吸引力的電磁力產(chǎn)生模塊及一用于開(kāi)啟或關(guān)閉該電磁力產(chǎn)生模塊的電磁力控制模塊。
14.如權(quán)利要求13所述的定位系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)該承載座被定位于該第二工作機(jī)臺(tái)上時(shí)，通過(guò)該電磁力產(chǎn)生模塊所產(chǎn)生的磁性吸引力，以使得上述至少一遮罩被吸附在上述至少一基板上。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種定位系統(tǒng)，其包括一第一工作機(jī)臺(tái)、一第二工作機(jī)臺(tái)、及一承載座。第二工作機(jī)臺(tái)相距第一工作機(jī)臺(tái)一預(yù)定距離。承載座定位于第一工作機(jī)臺(tái)與第二工作機(jī)臺(tái)兩者中的其中一個(gè)上，其中承載座具有至少一個(gè)固定式定位件，至少一基板通過(guò)上述至少一固定式定位件以定位于承載座上，且至少一遮罩通過(guò)上述至少一固定式定位件以定位于基板上。上述至少一基板具有至少一個(gè)對(duì)應(yīng)于上述至少一固定式定位件的基板定位孔，上述至少一遮罩具有至少一個(gè)對(duì)應(yīng)于上述至少一基板定位孔的遮罩定位孔，且上述至少一固定式定位件依序穿過(guò)上述至少一基板定位孔與上述至少一遮罩定位孔。本發(fā)明可有效提升發(fā)光二極管晶粒的一次打線與二次打線的打線良率。
文檔編號(hào)H01L33/00GK103247723SQ20121002467
公開(kāi)日2013年8月14日 申請(qǐng)日期2012年2月6日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月6日
發(fā)明者王艷玉, 吳嘉豪, 翁明堃, 周仲瑀 申請(qǐng)人:光寶電子(廣州)有限公司, 光寶科技股份有限公司