專利名稱：一種硅片取放裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于太陽(yáng)能硅片生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體是涉及一種在太陽(yáng)能硅片生產(chǎn)過(guò)程中的取放硅片的裝置。
背景技術(shù)：
在太陽(yáng)能硅片生產(chǎn)過(guò)程中，硅片需要在不同的輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)送?，F(xiàn)在常用的硅片取放裝置大多是吸氣式的。以往硅片取放裝置的結(jié)構(gòu)如圖4所示，它主要是由凹?jí)K11、密封圈 12、凸塊13、接頭14和傳感器15構(gòu)成，通過(guò)接頭14進(jìn)入壓縮空氣，壓縮空氣高速通過(guò)凹?jí)K 11與凸塊13之間的縫隙向四周排出，使凸塊13正下方產(chǎn)生局部真空負(fù)壓，從而將凸塊13 下方的硅片16吸住，此裝置的缺點(diǎn)在于由于此裝置在凸塊13與凹?jí)K11之間產(chǎn)生高速氣流，高速氣流排出時(shí)會(huì)吹到被吸硅片旁側(cè)的硅片，從而改變旁側(cè)的硅片位置，影響硅片生產(chǎn)過(guò)程。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，提供一種新型的硅片取放裝置，其結(jié)構(gòu)巧妙、合理，在吸取或放開(kāi)硅片時(shí)不會(huì)影響被吸硅片旁側(cè)的硅片位置，確保硅片生產(chǎn)過(guò)程順利。按照本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案一種硅片取放裝置，其特征在于包括吸盤、連接座、下端蓋、閥體、上端蓋、第一接頭和第二接頭；所述吸盤固定在連接座上，吸盤上開(kāi)設(shè)有多個(gè)氣孔，連接座內(nèi)設(shè)有凹腔；所述下端蓋固定在連接座上，下端蓋中心設(shè)有下通氣孔， 下通氣孔與連接座內(nèi)的凹腔連通；所述閥體固定在下端蓋上，閥體內(nèi)設(shè)有環(huán)形進(jìn)氣腔，閥體中心開(kāi)設(shè)有與下通氣孔連通的中間通氣孔，環(huán)形進(jìn)氣腔與中間通氣孔之間通過(guò)環(huán)形壁相隔，環(huán)形壁底部與下端蓋頂部之間留有進(jìn)氣縫隙；所述上端蓋固定在閥體上，上端蓋下部的中心開(kāi)設(shè)有與中間通氣孔連通的上通氣孔，上端蓋上部開(kāi)設(shè)有至少兩個(gè)斜排氣孔，斜排氣孔內(nèi)端與上通氣孔連通，斜排氣孔外端位于上端蓋側(cè)壁上，斜排氣孔的走向是由內(nèi)向外、由下向上；所述第一接頭連接在閥體一側(cè)，第一接頭與閥體內(nèi)的環(huán)形進(jìn)氣腔連通；所述第二接頭連接在閥體另一側(cè)，第二接頭通過(guò)第二進(jìn)氣通道與連接座內(nèi)的凹腔連通。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述下端蓋與閥體之間裝有密封圈。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述閥體上設(shè)有與第二接頭連通的閥體進(jìn)氣孔， 所述下端蓋上設(shè)有與閥體進(jìn)氣孔連通的下進(jìn)氣孔，所述下端蓋底部設(shè)有與下進(jìn)氣孔連通的環(huán)形氣槽，所述連接座頂部設(shè)有多個(gè)沿圓周方向均勻分布并與環(huán)形氣槽連通的連接氣孔， 所述的閥體進(jìn)氣孔、下進(jìn)氣孔、環(huán)形氣槽和連接氣孔構(gòu)成所述的第二進(jìn)氣通道。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述中間通氣孔的孔徑小于下通氣孔的孔徑。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述下通氣孔的下端邊沿、中間通氣孔的下端邊沿均設(shè)為圓弧形。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述連接座與下端蓋之間、下端蓋與閥體之間、閥體與上端蓋之間均設(shè)有可對(duì)應(yīng)嵌合的凹凸結(jié)構(gòu)。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述至少兩個(gè)斜排氣孔在上端蓋內(nèi)沿周向均勻分布。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述第一接頭與第二接頭在閥體上180度對(duì)稱布置。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述連接座上安裝有負(fù)壓傳感器，負(fù)壓傳感器外接顯不器。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，優(yōu)點(diǎn)在于本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)巧妙、合理，通過(guò)將高速氣體從上端蓋排出，在吸取或放開(kāi)硅片時(shí)不會(huì)影響被吸硅片旁側(cè)的硅片位置，確保硅片生產(chǎn)過(guò)程順利，提高硅片生產(chǎn)效率。

圖I為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)俯視圖。圖3為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)仰視圖。圖4為現(xiàn)有的吸取硅片裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記說(shuō)明I一吸盤、Ia—?dú)饪住?—連接座、2a—凹腔、2b—連接氣孔、3—下端蓋、3a—下通氣孔、3b—下進(jìn)氣孔、3c—環(huán)形氣槽、4 一閥體、4a—中間通氣孔、4b—環(huán)形進(jìn)氣腔、4c 一進(jìn)氣縫隙、4d—閥體進(jìn)氣孔、4e—環(huán)形壁、5—上端蓋、5a—上通氣孔、5b—斜排氣孔、6—密封圈、7—負(fù)壓傳感器、8—顯不器、9 一第一接頭、10—第二接頭、11 一凹?jí)K、12—密封圈、13—凸塊、14 一接頭、15—傳感器。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合具體附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。如圖所示本實(shí)用新型所述的硅片取放裝置主要由吸盤I、連接座2、下端蓋3、閥體4、上端蓋5、密封圈6、負(fù)壓傳感器7、顯示器8、第一接頭9和第二接頭10等零部件組成。如圖f圖3所示，所述吸盤I通過(guò)螺釘固定在連接座2上，吸盤I上開(kāi)設(shè)有多個(gè)氣孔la，連接座2內(nèi)設(shè)有凹腔2a。所述下端蓋3通過(guò)螺釘固定在連接座2上，下端蓋3中心設(shè)有下通氣孔3a，下通氣孔3a與連接座2內(nèi)的凹腔2a連通。所述閥體4通過(guò)螺釘固定在下端蓋3上，下端蓋3與閥體4之間裝有密封圈6 ；閥體4內(nèi)設(shè)有環(huán)形進(jìn)氣腔4b，閥體4 中心開(kāi)設(shè)有與下通氣孔3a連通的中間通氣孔4a，環(huán)形進(jìn)氣腔4b與中間通氣孔4a之間通過(guò)環(huán)形壁4e相隔，環(huán)形壁4e底部與下端蓋3頂部之間留有進(jìn)氣縫隙4c。所述上端蓋5通過(guò)螺釘固定在閥體4上，上端蓋5下部的中心開(kāi)設(shè)有與中間通氣孔4a連通的上通氣孔5a，上端蓋5上部開(kāi)設(shè)有至少兩個(gè)斜排氣孔5b，所述的至少兩個(gè)斜排氣孔5b在上端蓋5內(nèi)沿周向均勻分布；斜排氣孔5b內(nèi)端與上通氣孔5a連通,斜排氣孔5b外端位于上端蓋5側(cè)壁上,斜排氣孔5b的走向是由內(nèi)向外、由下向上。所述第一接頭9螺紋連接在閥體4 一側(cè),第一接頭9與閥體4內(nèi)的環(huán)形進(jìn)氣腔4b連通。所述第二接頭10螺紋連接在閥體4另一側(cè)，第二接頭10通過(guò)第二進(jìn)氣通道與連接座2內(nèi)的凹腔2a連通。優(yōu)選地，所述第一接頭9與第二接頭10在閥體4上180度對(duì)稱布置。[0022]如圖I所示，所述閥體4上設(shè)有與第二接頭10連通的閥體進(jìn)氣孔4d，所述下端蓋 3上設(shè)有與閥體進(jìn)氣孔4d連通的下進(jìn)氣孔3b，所述下端蓋3底部設(shè)有與下進(jìn)氣孔3b連通的環(huán)形氣槽3c，所述連接座2頂部設(shè)有多個(gè)沿圓周方向均勻分布并與環(huán)形氣槽3c連通的連接氣孔2b，所述的閥體進(jìn)氣孔4d、下進(jìn)氣孔3b、環(huán)形氣槽3c和連接氣孔2b構(gòu)成所述的第二進(jìn)氣通道。如圖I所示，所述中間通氣孔4a的孔徑小于下通氣孔3a的孔徑，以加強(qiáng)高速氣流向上流動(dòng)的趨勢(shì)。所述下通氣孔3a的下端邊沿、中間通氣孔4a的下端邊沿均設(shè)為圓弧形， 以使高速氣流可以更順暢地流動(dòng)。所述連接座2與下端蓋3之間、下端蓋3與閥體4之間、 閥體4與上端蓋5之間均設(shè)有可對(duì)應(yīng)嵌合的凹凸結(jié)構(gòu)，以使連接座2、下端蓋3、閥體4和上端蓋5之間精確裝配，緊密結(jié)合。如圖I所示，所述連接座2上安裝有負(fù)壓傳感器7，負(fù)壓傳感器7外接顯示器8，負(fù)壓傳感器7可以感知連接座2凹腔2a內(nèi)的壓力情況，并通過(guò)顯示顯示出來(lái)，使得本實(shí)用新型更易于操控，自動(dòng)化程度更高。本實(shí)用新型的工作過(guò)程及工作原理如下當(dāng)需要吸取硅片時(shí)，通過(guò)第一接頭9進(jìn)壓縮氣體，壓縮氣體通過(guò)閥體4的進(jìn)氣縫隙 4c排出并向上高速流動(dòng)，高速氣體經(jīng)中間通氣孔4a、上通氣孔5a從上端蓋5上的斜排氣孔 5b排出，從而使下端蓋3上的下通氣孔3a和連接座2上的凹腔2a內(nèi)產(chǎn)生負(fù)壓，進(jìn)而使吸盤 I產(chǎn)生吸力，吸盤I將其正下方的硅片吸??；當(dāng)需要將吸住的硅片放開(kāi)時(shí)，第一接頭9停止通入壓縮氣體，第二接頭10通入壓縮氣體，壓縮氣體經(jīng)由第二進(jìn)氣通道輸送至連接座2上的凹腔2a內(nèi)，然后在經(jīng)由下通氣孔 3a、中間通氣孔4a、上通氣孔5a從上端蓋5上的斜排氣孔5b排出，從而將吸住的硅片放開(kāi)。在上述的吸取硅片和放開(kāi)硅片過(guò)程中，壓縮氣體都是上端蓋5排出，不會(huì)影響被吸硅片旁側(cè)的硅片位置，確保硅片生產(chǎn)過(guò)程順利，提高硅片生產(chǎn)效率。
權(quán)利要求1.一種硅片取放裝置，其特征在于包括吸盤(I)、連接座(2)、下端蓋(3)、閥體(4)、 上端蓋(5)、第一接頭(9)和第二接頭(10);所述吸盤(I)固定在連接座(2)上，吸盤(I)上開(kāi)設(shè)有多個(gè)氣孔(la)，連接座(2)內(nèi)設(shè)有凹腔(2a);所述下端蓋(3)固定在連接座(2)上， 下端蓋(3)中心設(shè)有下通氣孔(3a)，下通氣孔(3a)與連接座(2)內(nèi)的凹腔(2a)連通；所述閥體(4)固定在下端蓋(3)上，閥體(4)內(nèi)設(shè)有環(huán)形進(jìn)氣腔(4b)，閥體(4)中心開(kāi)設(shè)有與下通氣孔(3a)連通的中間通氣孔(4a)，環(huán)形進(jìn)氣腔(4b)與中間通氣孔(4a)之間通過(guò)環(huán)形壁 (4e)相隔，環(huán)形壁(4e)底部與下端蓋(3)頂部之間留有進(jìn)氣縫隙(4c);所述上端蓋(5)固定在閥體(4)上，上端蓋(5)下部的中心開(kāi)設(shè)有與中間通氣孔(4a)連通的上通氣孔(5a)，上端蓋(5)上部開(kāi)設(shè)有至少兩個(gè)斜排氣孔(5b)，斜排氣孔(5b)內(nèi)端與上通氣孔(5a)連通，斜排氣孔(5b)外端位于上端蓋(5)側(cè)壁上，斜排氣孔(5b)的走向是由內(nèi)向外、由下向上；所述第一接頭(9)連接在閥體(4) 一側(cè)，第一接頭(9)與閥體(4)內(nèi)的環(huán)形進(jìn)氣腔(4b)連通； 所述第二接頭(10)連接在閥體(4)另一側(cè)，第二接頭(10)通過(guò)第二進(jìn)氣通道與連接座(2) 內(nèi)的凹腔(2a)連通。
2.如權(quán)利要求I所述的硅片取放裝置，其特征在于所述下端蓋(3)與閥體(4)之間裝有密封圈(6)。
3.如權(quán)利要求I所述的硅片取放裝置，其特征在于所述閥體(4)上設(shè)有與第二接頭 (10)連通的閥體進(jìn)氣孔(4d)，所述下端蓋(3)上設(shè)有與閥體進(jìn)氣孔(4d)連通的下進(jìn)氣孔 (3b)，所述下端蓋(3)底部設(shè)有與下進(jìn)氣孔(3b)連通的環(huán)形氣槽(3c)，所述連接座(2)頂部設(shè)有多個(gè)沿圓周方向均勻分布并與環(huán)形氣槽(3c)連通的連接氣孔(2b)，所述的閥體進(jìn)氣孔(4d)、下進(jìn)氣孔(3b)、環(huán)形氣槽(3c)和連接氣孔(2b)構(gòu)成所述的第二進(jìn)氣通道。
4.如權(quán)利要求I所述的硅片取放裝置，其特征在于所述中間通氣孔(4a)的孔徑小于下通氣孔(3a)的孔徑。
5.如權(quán)利要求I所述的硅片取放裝置，其特征在于所述下通氣孔(3a)的下端邊沿、中間通氣孔(4a)的下端邊沿均設(shè)為圓弧形。
6.如權(quán)利要求I所述的硅片取放裝置，其特征在于所述連接座(2)與下端蓋(3)之間、下端蓋(3 )與閥體(4)之間、閥體(4)與上端蓋(5 )之間均設(shè)有可對(duì)應(yīng)嵌合的凹凸結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求I所述的硅片取放裝置，其特征在于所述至少兩個(gè)斜排氣孔(5b)在上端蓋(5)內(nèi)沿周向均勻分布。
8.如權(quán)利要求I所述的硅片取放裝置，其特征在于所述第一接頭(9)與第二接頭(10)在閥體(4)上180度對(duì)稱布置。
9.如權(quán)利要求I所述的硅片取放裝置，其特征在于所述連接座(2)上安裝有負(fù)壓傳感器(7)，負(fù)壓傳感器(7)外接顯示器(8)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種取放硅片裝置。吸盤固定在連接座上，吸盤上開(kāi)設(shè)有多個(gè)氣孔，連接座內(nèi)設(shè)有凹腔；下端蓋固定在連接座上，下端蓋中心設(shè)有下通氣孔，下通氣孔與凹腔連通；閥體固定在下端蓋上，閥體內(nèi)設(shè)有環(huán)形進(jìn)氣腔，閥體中心開(kāi)設(shè)有中間通氣孔，環(huán)形進(jìn)氣腔與中間通氣孔之間通過(guò)環(huán)形壁相隔，環(huán)形壁底部與下端蓋頂部之間留有進(jìn)氣縫隙；上端蓋固定在閥體上，上端蓋下部的中心開(kāi)設(shè)有上通氣孔，上端蓋上部開(kāi)設(shè)有至少兩個(gè)斜排氣孔；第一接頭連接在閥體一側(cè)，第一接頭與閥體內(nèi)的環(huán)形進(jìn)氣腔連通；第二接頭連接在閥體另一側(cè)，第二接頭通過(guò)第二進(jìn)氣通道與連接座內(nèi)的凹腔連通。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)巧妙、合理，在吸取或放開(kāi)硅片時(shí)不會(huì)影響被吸硅片旁側(cè)的硅片位置。
文檔編號(hào)H01L21/677GK202352643SQ20112049496
公開(kāi)日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年12月2日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月2日
發(fā)明者王燕清 申請(qǐng)人:無(wú)錫先導(dǎo)自動(dòng)化設(shè)備股份有限公司