專利名稱:一種自吸式隔水裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及干燥處理裝置,尤其涉及用于在清洗設(shè)備和濕法處理設(shè)備中硅片表面上的藥液或水去除的一種自吸式隔水裝置。
背景技術(shù):
在太陽能清洗設(shè)備和濕法處理設(shè)備中,尤其是鏈?zhǔn)教柲芮逑丛O(shè)備和濕法處理設(shè)備中,生產(chǎn)加工的每一道工序后往往需要將硅片上的藥液或水吹掉?,F(xiàn)有技術(shù)一般采用壓縮空氣將硅片上的藥液或水吹掉,但是使用壓縮空氣吹干硅片存在一定缺陷,如浪費(fèi)資源,吹干硅片需要耗費(fèi)大量的壓縮空氣,增加了生產(chǎn)成本;還會(huì)加速藥液的揮發(fā),生產(chǎn)中使用的很多化學(xué)處理品都具有揮發(fā)性,使用壓縮空氣吹干硅片會(huì)使藥液的消耗加大;壓縮空氣氣壓大,容易造成碎片,既要能吹干硅片又不能吹碎硅片,控制難度大。容易造成生產(chǎn)中的產(chǎn)品損失。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型是要解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,提出一種成本低、易控制和效率高的自吸式隔水裝置。為解決所述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提出的一種自吸式隔水裝置,其包括輸送輥,該輸送輥上方設(shè)有一吸水輥,該吸水輥與正下方的輸送輥配合構(gòu)成一對(duì)輸送硅片的輥?zhàn)?。本?shí)用新型在輸送輥的正上方設(shè)置一吸水輥,兩輥?zhàn)优浜蠘?gòu)成一對(duì)輸送硅片的輥?zhàn)印kS著輸送輥和吸水輥的轉(zhuǎn)動(dòng),當(dāng)硅片通過吸水輥時(shí),藥液或水會(huì)被隔在吸水輥的左側(cè), 吸水輥也會(huì)吸收一部分液體,從而使得硅片表面沒有明顯藥液或水珠。本實(shí)用新型不需要使用壓縮空氣,可以減少化學(xué)處理品的消耗和降低生產(chǎn)成本、節(jié)約資源。同時(shí)也避免了由于使用壓縮空氣,造成硅片損壞的缺陷,提高了硅片的加工質(zhì)量。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作出詳細(xì)的說明,其中
圖1為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示,本實(shí)用新型較佳實(shí)施例提供的一種自吸式隔水裝置,其包括輸送輥 1,該輸送輥1上方設(shè)有一吸水輥2,該吸水輥2與正下方的輸送輥1配合構(gòu)成一對(duì)輸送硅片 3的輥?zhàn)?。如圖1所示,本實(shí)用新型在輸送輥1的正上方設(shè)置一吸水輥2,兩輥?zhàn)优浜蠘?gòu)成一對(duì)輸送硅片的輥?zhàn)?。隨著輸送輥1和吸水輥2的轉(zhuǎn)動(dòng),硅片3向右通過吸水輥2時(shí),其表面的藥液或水會(huì)被隔在吸水輥3的左側(cè),吸水輥也會(huì)吸收一部分液體,從而使得硅片3表面沒有明顯藥液或水珠。[0010]本實(shí)用新型不需要使用壓縮空氣,可以減少化學(xué)處理品的消耗和降低生產(chǎn)成本, 節(jié)約資源。同時(shí)避免了由于使用壓縮空氣,造成硅片損壞的缺陷,提高了硅片的加工質(zhì)量以上接合較佳實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了具體描述,但是本技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員可以對(duì)這些實(shí)施方式做出多種變更或變化,這些變更和變化應(yīng)落入本實(shí)用新型保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1. 一種自吸式隔水裝置,包括輸送輥(1 ),其特征在于,所述的輸送輥(1)上方設(shè)有一吸水輥(2),該吸水輥(2)與正下方的輸送輥(1)配合構(gòu)成一對(duì)輸送硅片(3)的輥?zhàn)印?br>
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于在清洗設(shè)備和濕法處理設(shè)備中,去除硅片表面殘留藥液或水的自吸式隔水裝置,包括輸送輥,該輸送輥上方設(shè)有一吸水輥,該吸水輥與正下方的輸送輥配合構(gòu)成一對(duì)輸送硅片的輥?zhàn)?。本?shí)用新型采用輥?zhàn)尤コ杵砻鏆埩舻乃幰夯蛩?,降低了生產(chǎn)成本,節(jié)約資源。同時(shí)避免了由于使用壓縮空氣,造成硅片損壞的缺陷,提高了硅片的加工質(zhì)量。
文檔編號(hào)H01L21/67GK202282334SQ20112039655
公開日2012年6月20日 申請(qǐng)日期2011年10月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月18日
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